二甲基亚砜中Er—Co合金膜的电化学制备

研究了室温条件下ErCl3-CoCl2-LiClO4-二甲基亚砜（DMSO）体系中的Er-Co在铜电极上的共沉积,利用恒电位电解法制备出了Er的不同质量百分含量的Er-Co合金膜,0.08mol/L ErCl3-0.1mol/L CoCl2-0.1mol/L LiClO4-二甲基亚砜溶液在-2.58V(ts SCE）时恒电位电解得到了表面均匀,附着力好、有金属光泽的黑色沉积膜,应用EDAX和XRD分析了沉积膜组成及形态。     

隔膜碱用水定额的确定

结合能源管理工作实践,阐述了隔膜碱生产中现行用水定额的确定方法及存在的问题。     

酸性染料生产废水处理工艺的选择

采用电解-混凝沉淀-厌、好氧-氧化、气浮法等方法处理酸性染料废水,对其在实际工艺过程中的应用和处理效率进行了研究,其结果表明整个工艺对CODcr去除率在90%以上,色度去除率在95%,使出水水质达到国家二级排放标准。     

催化铁内电解法处理难降解废水的进展

<正>内电解法污水处理技术最早出现于20世纪60年代,该法具有适用范围广、处理效果好、使用寿命长、成本低廉及操作维护方便等优点,并且以废铁屑为原料,也不消耗电力资源。近几年来,研究进展较快。铁碳内电解法是内电解法的起源,目前应用最广研究最多,同时它也作为内电解法发展的载体,催生出了许多全新的内电解污水处理技术,催化铁内电解技术就是其中之一。     

F-8020型离子膜的劣化及其废弃膜的再生

研究了Ca2+,Mg2+,Fe3+,SO2-4,SiO2-3及I-等杂质离子对F-8020型离子膜制碱过程的影响,探讨了离子膜污染产生机理;用盐酸对F-8020型工业污染膜进行了再生,采用EDAX,SEM及电解性能测试等手段对新旧膜及再生膜性能进行了表征.结果表明:氯碱工业废弃的F-8020型污染膜经再生后膜表面上的Al,Si,Fe,Ti及I等元素形成的污染物能有效去除,电解性能明显改善,再生后离子膜用于盐水电解过程的电流效率达到93%以上,槽压在3.20V以下,能够满足离子膜法制碱工艺的要求和其他用途.     

电解抛光技术在电子背散射衍射分析中的应用

电解抛光技术是一种简便易行的表面加工技术,获得试样的表面粗糙度低,光亮度高,常用于电子背散射衍射技术测试试样的最终处理。文章在对电解抛光原理分析和加工工艺的选择和调整的基础上,分别对TRIP钢和钛合金试样进行电解抛光工艺,试样表面满足电子背散射衍射技术的要求。文章对相关的试样制备具有很好的借鉴作用。     

电解氧化预处理晚期垃圾渗滤液时的电流效率

针对晚期垃圾渗滤液难处理的特点,利用电解氧化对其预处理是一种提高其可生化性的有效方法,对电流效率进行计算十分必要．通过试验研究了电化学作用下晚期垃圾渗滤液中有机污染物的变化。进而计算了不同电解条件下的电流效率．计算结果表明,当电流密度为15mA／cm^2,电解时间为6．511的电流效率最高,可达到34．11％．     

在线电生次氯酸根流动注射化学发光法测定卡托普利

将在线恒电流电解产生ClO^-与流动注射化学发光法结合,基于卡托普利能抑制ClO^--luminol化学发光,其质量浓度与抑制作用的大小呈线性关系,建立了测定卡托普利流动注射化学发光新方法．卡托普利在0～17mg／L范围内与空白、试样信号差值呈线性关系,相关系数为0．9996,相对标准偏差为2．8％,该法具有简单、快捷、灵敏等特点．用于药剂中卡托普利含量的测定,结果与药典方法测得值一致。     

纳米PbO2/TiO2催化电极的制备及其对己二醛氧化的电催化性能

用电解法在乙二醇溶液中制备铅和钛醇盐配合物PbTi₂(OCH₂CH₂OH)_12-x, 将其电解液水解、 真空干燥后于450 ℃煅烧2 h, 得到纳米级PbO₂/TiO₂粉体, 通过溶胶 凝胶法在钛丝表面得到纳米PbO₂/TiO₂电极. 电解产物通过红外光谱(FT IR)和Raman光谱表征, 纳米PbO₂/TiO₂粉体使用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征, 并采用循环伏安法在盐酸和己二醛溶液中考察电极的氧化还原行为及电催化活性. 实验结果表明: 有机体系电解法得到的纳米PbO₂/TiO₂粉体颗粒
分散较理想, 粒径为100~150 nm; 纳米TiO₂掺杂PbO₂电极的氧化峰电流密度为157 mA/cm², 氧化还原峰电位差明显减小, 具有较高的电催化活性, 催化合成己二酸的电流效率和产率分别为89.2%和97.4%.     

电压对低碳钢表面液相等离子体电解碳氮共渗层的摩擦学性能影响

为了提高低碳钢的耐磨性,成功地采用等离子体电解碳氮共渗技术在不同电压下对低碳钢进行表面处理。使用往复式摩擦磨损测试仪分析改性表面的摩擦磨损性能;扫描电子显微镜(scanning electron microscope, SEM)和能谱仪(energy dispersive spectroscopy, EDS)分析渗透层的表面、截面形态和组成;使用3D共聚焦显微镜分析渗透层的磨痕;使用X射线衍射(X-ray diffraction, XRD)研究渗透层的相组成。结果表明,共渗层的厚度和显微硬度均随着施加电压的增加呈现先升高后降低的趋势,在电压为350 V时,共渗层厚度最厚,硬度最大,分别为130.24μm和846.7 HV,此时共渗层的摩擦系数最小,约为0.65,磨痕轮廓深度仅为14.79μm。液相等离子体电解渗技术在共渗层形成的铁碳化合物和铁氮化合物是其耐磨的主要原因。