光学镀膜仪静态特性研究

光学镀膜仪的静态特性是高精度镀膜系统的重要因素。对典型镀膜仪的膜厚监视器的静态漂移数据,采用t检验、回归分析、方差分析、样本标准偏差和不确定度分析等方法获得其静态特性。发现不同预热时间有不同的系统静态特性;建立静态漂移的线性回归、二次回归数学模型,其线性漂移率为-5.5×10-5,二次漂移率为5.02322×10-8;显示值相对于期望曲线的最大偏差为±4×10-3。该静态特性详细、稳定和精确,为镀膜经验控制、膜系修正和自动化系统开发奠定了基础。     

惠州市华阳光学技术有限公司

正惠州市华阳光学技术有限公司成立于1996年12月,注册资本1200万元,厂房面积18000平方米。华阳光学致力于特效颜料/油墨的研发生产和应用推广,自主研发了OCEP光学变色颜料、OCEI光学变色油墨产品系列(OCEP、OCEI统称为光变产品),美高锐MagOri磁性光变颜料/油墨,美艾柔MirrorAL镜面铝颜料及油墨产品系列。华阳光学是全国第一家及目前国内唯一一家能稳定批量生产光学变色颜料的企业;也是迄今为止,全球第二、国内第一的光学变色颜料的规模化生产厂     

宽带光学增透膜的正交设计

镀制多层宽带光学增透膜是改善镜头成象质量,提高光能透过率和协调彩色平衡的必要手段。本文采用二次设计原理,结合正交试验法编制膜系自动设计程序。设计结果表明不但光学性能优良,而且工艺稳定性好,从而可以利用误差来源多、控制精度低的设备镀制出高质量的膜系。文中详述了设计方法并给出程序框图和设计结果。     

AF2400-SiO2疏水复合光学薄膜制备及其表征

采用溶胶-凝胶工艺制备低折射率二氧化硅(SiO2)增透薄膜,用AF2400(Telflon)对薄膜进行表面处理得到AF2400-SiO2疏水复合光学薄膜.对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能等进行测试,结果显示AF2400-SiO2复合光学薄膜表面平整,折射率为1.21,疏水角可以达到110°~120°.     

磁控溅射技术在刀具涂层中的应用

磁控溅射作为一种应用广泛的真空镀膜技术，被普遍和成功地应用于许多方面，如材料表面处理、微电子、光学薄膜等，目前磁控溅射技术应用的领域还在不断扩展。     

用波阻抗法对(λ0/4)膜系反射性能的研究

用波阻抗方法对具有“周期”性介质层的λ0/4膜系进行了研究，对不同层数的ZnS-MgF2λ0/4(λ0=0.46μm）膜系给出了一些计算结果，由计算结果可见，当采用奇数层λ0/4膜系，层数愈多，比值εh/ε1较大时，反射系数Г0(0)接近于－1，反射率愈大；当采用偶数层λ0/4膜系，层数愈多，比值εh/εl较大时，反射率愈大，但较奇数层变化缓慢，反射系数Г0（0）接近于＋1。     

光学薄膜的反应离子镀概述

<正> 光学薄膜反应离子镀技术是近10年来镀膜技术的最新突破,也是当今国际薄膜界研究的热点。本文以简明扼要的方式报道了作者对反应离子镀技术的最新研究成果。1 原理与实验装置光学薄膜反应离子镀技术是传统     

含一层吸收媒质滤光片的部分匹配诱导设计分析

本文从导纳匹配的观点出发,分析了诱导设计的滤光片的反射率和势透射率特性,提出分别对势透射率和反射率作最佳部分匹配的诱导设计方法,并给出匹配介质层匹配相位的解析表示式。     

TiO2/SiO2光学薄膜的粒度分布函数

研究了溶胶-凝胶法制备的TiO2和SiO2光学薄膜的粒度分布函数,结果表明:膜表面的粒度大小与热处理温度及陈化时间有关,粒度分布函数可分为泊松分布,正态分布等。