热阴极鞍场离子源及其在光学薄膜技术中的应用

论述了离子束辅助蒸发光学薄膜技术对离子源的要求，给出热阴极鞍场离子源的 特性及其用于辅助蒸发光学薄膜的实验研究结果。从ＺｒＯ２薄膜的光谱特性及折射率的 测量；膜层剖面的透射电子显微镜和膜层结构的Ｘ衍射分析证实了离子束辅助蒸发对 光学薄膜特性改善的效果。     

微机求解透明光学薄膜元件N,d的方法

本文提出利用单层介质材料的光谱透射率曲线,在微机上用最优化方法直接求解n(λ)和d的方法,它比椭偏法具有更好的精度(n分辨到0.001,d分辨到1A),速度更快,n(λ)值可作为膜系计算和分析的依据。     

基于薄膜理论的受抑全内反射原理研究

该文根据薄膜理论基础，分析了受抑全内反射（ＦＴＩＲ）的理论机制，导出相应的光线透射率及反射率公式，从透射率、反射率随棱镜相对间隙ｄ／λ、入射角θ０及折射率ｎ的变化曲线可以看出，当间隙从０增加到一个波长量级时，透射率Ｔ从１００％下降到０；在间隙一定的情况下，增大入射角或选用大折射率的材料，都会使透射率减小。并且建立了一套实验装置以对其特性进行具体分析。     

激光场与多层高反膜系相互作用机理

从理论上阐述了激光在多层高反膜系中的场分布,并就提高膜系抗激光损伤阈值进行了讨论。     

真空自动量热仪测温电路的改进

对自动真空量热仪的测温电路进行了改进.设计出了新的二级放大的测温电路,对温度进行了精确标定.结果表明,改进后的电路有较好的抑制噪声的能力,使量热仪的测量精度得到了提高.     

基板温度对电子束沉积LaF3薄膜残余应力的影响

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜残余应力的影响;基板温度从200 ℃上升到350℃,间隔为50℃.利用ZYGO干涉仪测量了基板镀膜前后的面型变化,利用Stoney公式计算出残余应力;分析结果表明:在本实验条件下,残余应力为张应力,随基板温度的增加,有增大的趋势.     

反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜

利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等观察和测量.测量发现溅射制备的光学薄膜为非晶结构,具有很好的表面平整度,厚度为515nm,光学波长为550nm处的折射率为2.264,可见光波段的消光系数小于10-3,光学带隙为3.49eV.结果表明制备的五氧化二铌膜是性能良好的光学薄膜.     

非均匀反射全息滤光片的调谐性能

从理论和实验两方面研究了反射全息滤光片的性能，结果表明，反射全息滤光片不仅具有高光密度（大于4D）和窄带宽，还具有很好的调谐性能，同时，对均匀介质和非均匀介质两种耦合液理论模型进行了比较分析，证明非均匀介质耦合波理论模型更加符合实验结果。     

弱吸收薄膜光学参数的自泵浦相位共轭干涉测量分析

采用一种新方法——自泵浦相位共轭干涉测量法,测量弱吸收薄膜的光学参数:折射率、吸收系数以及厚度,实验结果表明,该方法具有操作简便,并能自动消除相位畸变等优点。     

鲁棒性多腔窄带滤光片的自动优化设计

将膜系容差纳入评价函数，提出了多腔窄带激光片鲁棒性设计的概念和方法。阐述了理论分析的依据，在修改的程序基础上得出一组优化设计的膜系。结果表明这种方法得到的膜系不一定是最优的理论解，但一定是最优的实际解。膜厚灵敏度因子计算结果表明，鲁棒性膜系较其他膜系的敏感度因子要低，从而验证鲁棒设计结果的正确性。