双凸柱面透射光栅的衍射分析

本文用付里叶光学的方法分析双柱面透射光栅的衍射特性，用计算机模拟出其衍射光强的分布．计算机摸拟结果与光学实验结果吻合．     

可在线换刃圆弧光栅刻划刀具设计

基于设计基准、工艺基准及应用基准统一原则,设计了可在线换刃圆弧光栅刻划刀具结构,研究了其刃磨工艺,利用自行设计的刃磨实验设备刃磨出了新型的光栅刻划刀具,其半径约为7．75mm,圆锥面光洁度为5nm,刃口质量好。     

常用分光元件的性能比较及应用

随着光学技术的发展,以分光元件为核心的各种分光仪器在实验中得到了广泛的应用。论文首先概述了分光元件的概念及类型;然后对棱镜、光栅、F—P标准具3种具有代表性的常见分光元件进行了参数及性能对比;最后探讨了3种分先元件在大学物理实验中的应用。     

变迹啁啾Bragg光纤光栅的响应特性数值计算

该文对各种变迹与线性啁啾Ｂｒａｇｇ光纤光栅的响应特性进行了数值计算。分析了变迹函数、啁啾系数、折射率变化量以及光栅长度对反射带宽、最大反射率的影响。特例中给出了长度为１４０ｍｍ,啁啾系数为０．０４８ｎｍ／ｃｍ的各种变迹与线性啁啾Ｂｒａｇｇ光纤光栅的响应特性数值计算结果。     

压印光刻中高精度莫尔对准方法的研究

针对分步压印光刻工艺中多层套刻的高精度对准问题,提出一种应用斜纹结构光栅副实现x、y、θ三自由度自动对准的方法.光栅副分为4个区域,应用光电转换器阵列检测光栅副相对移动所引起的莫尔信号变化,通过电路系统处理可同时得到在平面x、y、θ三自由度的对准信号.驱动环节采用直线电机和压电驱动器作为宏微两级驱动,其分辨率分别为0.2μm和0.1nm,在激光干涉仪全程监测下,与控制系统一起构成闭环系统实现自动对准定位.实验结果表明,在多层压印光刻工艺中,实现了压印工作台步进精度小于10nm的高精度定位要求,使整个对准系统的套刻精度小于30nm.因此,应用这种莫尔对准方法可以获得较高的对准精度,同时能够满足压印100nm特征尺寸套刻精度的要求.     

高精度平面光栅尺测量系统减振技术研究

高精度平面光栅尺测量系统的测量精度直接影响浸没光刻机硅片台的定位精度和稳定时间.考虑到安装在平面光栅尺载体上的平面光栅尺因其载体固有频率较低,易受到主基板残余振动和高速硅片台气压扰动而产生振动,因此研究平面光栅尺载体的减振技术意义重大.文中阐述了一种新型平面光栅尺载体减振方法,围绕热解耦技术和粘滞阻尼吸振技术,进行理论建模、仿真分析和测试评价.结果表明粘滞阻尼器和柔性结构并联系统可以显著改善平面光栅尺载体结构动态特性,提升平面光栅尺测量系统的测量精度及缩短硅片台的稳定时间.      

变迹啁啾Bragg光纤光栅色散补偿特性的数值研究

对各种变迹与线性啁啾Bragg光纤光栅的色散特性作了数值分析,构造了各种变迹函数,进行了比较研究了变迹函数,啁啾函数,折射率变化量以及光栅长度对色散补偿带宽,时延特性以及色散补偿量的影响。     

光栅散射的电磁场计算

本文基于严格的电磁场理论,推导出计算各种材料光栅表面散射问题的新方法。     

通电光栅对光的衍射

报道了一种栅格上有电流通过的新型光栅（电光栅）．入射到该光栅上的光，经光栅透射和反射后形成的衍射条纹，会发生收缩或扩展；光的偏振面发生旋转可产生法拉第效应．该光栅比同光栅常数的光栅具有较高的分辨率，作为一种提高光栅分辨率的新光电元件，可望应用于光电通讯     

390—470nmAl的激光等离子体光谱实验观测

利用调ＱＮｄ：ＹＡＧ激光装置，测量了３９０～４７０ｎｍ范围内ＡｌⅠ—ＡｌⅢ的激光等离子体光谱，并报道了压强为０１ＭＰａ时Ｏ２气氛下激光等离子体谱线的变化情况