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161.
应用Tms天目丝有机肥进行红皮云杉育苗,最佳质量浓度是1000mg/L,浸根6h,与常规育苗相比,高生长平均增加23.66%,地径生长平均增加14.89%. 相似文献
162.
以n型单晶硅为基底材料,采用电化学阳极氧化工艺和光化学氧化后处理工艺制备氧化多孔硅,利用扫描电子显微镜、红外光谱仪、荧光光谱仪研究氧化多孔硅形成前后的表面形态、组成、光致发光、耐碱性的变化.结果表明:光化学氧化后处理使n型多孔硅表面岛状硅柱间沟槽变窄,结构中出现Si―O键(波数1 146 cm-1和1 140 cm-1)、OSi―H键(波数2 254 cm-1)振动峰,在碱性介质中具有一定的耐蚀性;空气中贮存50 d,氧化多孔硅光致发光强度下降缓慢,发光峰位置无明显变化,具有良好的光致发光特性. 相似文献
163.
利用金相显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析仪(EDS)等分析研究了6063铝合金表面点状凸起物的表面形貌及成分.结果表明,这种点状凸起物主要是由大量聚集的碳化硅颗粒以及少量的游离硅组成,碳化硅颗粒硬度较大,不易加工,从而造成铝合金表面异常. 相似文献
164.
建立延胡索总生物碱质量分数检测方法.运用硅钨酸质量法,将延胡索总生物碱中生物碱物质转化为可以准确称量的形式,计算延胡索总生物碱质量分数.三批样品质量分数平均值为57.12%,符合中药五类新药技术研究要求.所建立的方法操作简便、准确、可靠,适用于延胡索总生物碱的质量控制. 相似文献
165.
通过多因素正交试验,对比分析了常规热处理工艺与LTMT工艺所生产的硅青铜挡块性能上的差异,得出了LTMT工艺为较佳生产工艺,并分析研究了LTMT工艺参数对材料性能的影响规律,得出最佳工艺为:淬火温度900~950℃,保温时间0.5~1h,变形程度50%~70%,时效温度450~500℃,时效时间3~5h. 相似文献
166.
研究了真空熔化炉冷晶态及非晶态Ni(80-x)Cr10B2.5Si4.5Fe3Cux合金钎料真空熔化炉冷组织形态,分析了铜的添加对合金钎料组织的影响.研究结果表明:非晶态钎料真空熔化炉冷后与相应的晶态比较组织上无大的差异,仅仅是固溶体含量的增加及共晶相更弥散分布. 相似文献
167.
168.
高铁基硅混凝剂形成铅絮体的分形维数分析 总被引:1,自引:0,他引:1
利用高铁基硅混凝剂及聚磷硫酸铁(PPFS)对含铅工业废水进行处理,考察含铅工业废水处理过程中分形维数对铅絮体的影响以及与铅离子去除率的关系。结果表明:对于模拟的含铅工业废水,高铁基硅混凝剂的最佳投药量(体积分数)为3.5×10-3,最佳的pH值为9.5,在此最佳条件下,铅絮体的分形维数最大,铅絮体最为密实,铅离子的去除率也最高,分形维数与铅离子去除率之间有良好的相关性;对于实际含铅工业废水,高铁基硅混凝剂的最佳投量为8×10-3,除率为92.5%,效果要好于PPFS;两种混凝剂的分形维数与铅离子去除率之间同样有良好相关性。 相似文献
169.
采用A路径对内部含有铜片的Al-3%Si合金在室温下进行5道次等径角挤压来考察其对材料宏观和微观组织影响.通过示踪法研究铜片位置的变化,通过SEM和OM观察脆性相Si的变化,并对材料进行XRD分析.结果表明:经5道次变形后铜片发生偏转至45°,铜片自身也发生了扭曲变形,证明剪切作用下,存在着扭转力;共晶Si的变化行为是在1道次挤压后共晶Si呈长条状分布在晶界;2道次挤压后长条状共晶Si被破碎成短杆状,部分偏离晶界;4道次挤压后短杆状共晶Si被破碎成块状,弥散分布在基体上;5道次挤压后块状共晶Si发生了偏聚,平均尺寸由10μm变为3μm,并在垂直剪切方向上存在明显移动;晶面取向(220)的衍射峰强度逐步降低,而(111)晶面的衍射峰强度则明显增加,主导取向由(220)变为(111),晶面取向(200)和(311)变化不明显. 相似文献
170.
基于碳热还原法制备碳化硅的原理,针对该方法合成成本高,反应时间长,所用设备昂贵,合成条件苛刻等缺陷.利用微波的良好加热性能,采用微波辅助碳热还原法制取碳化硅粉体.经实验表明,最优条件为:锌粉作催化剂,碳硅原子比为4:1,微波功率800W,微波时间30min.该方法制备的碳化硅为3C—SiC晶型,晶粒粒径相对较小.微波辅助碳热还原法具有成本低、产量大、反应时间短、尺寸相对较小,具有工业化应用的前景. 相似文献