SPEED方法萃取高温合金中的MC碳化物晶体生长的研究

利用SPEED方法萃取定向凝固镍基高温合金中的MC碳化物晶体后进行SEM-EDX分析,其结果在似稳场条件下的MC碳化物晶体与从高温合金熔体中的生长的MC碳化物的浓度分布规律相一致。     

直流电弧法合成B4C的研究

使用六角氮化硼(h-BN)和石墨作初始原料,在原料里面加入少量的氮化锂(LiN)做催化剂,采用直流电弧等离子体烧结方法,合成出样品,所得样品经过X光衍射(XRD)、描电子显微镜(SEM)和能谱(EDX)分析,结果表明成功地合成出了碳化硼B4C晶体.     

渗硅碳化硅材料的制备与性能研究

采用不同工艺制备渗硅碳化硅,分析了生坯密度、成型方法、颗粒级配等对制品结构及性能的影响.结果表明:恰当的生坯结构及合理的成型方法、烧成制度,是制备结构致密均匀、气孔率低、密度及强度高的渗硅碳化硅材料的关键.     

CSP工艺生产低碳钢中的纳米碳化物及其对钢的强化作用

用化学相分析及X射线小角散射法研究了CSP工艺生产HSLC钢中碳化物的成分、数量及粒度分布，发现尺寸小于18nm的碳化物含量大于文献中测定的CSP含Nb的HSLA钢中尺寸小于18nm的Nb(CxNy)含量。对纳米级碳化物对钢的强化作用进行了讨论。     

控制轧制对高碳钢珠光体相变温度的影响

采用压力-膨胀仪测定了高碳钢经控制轧制后,在连续冷却下珠光体的相变温度;并分析了不同控轧参数对珠光体相变温度影响的规律。实验结果表明:奥氏体形变使连续冷却下珠光体的相变温度提高。     

纳米4H-SiC薄膜的光学性质研究

SiC薄膜具有结构不易控制,透明性较差的特点,采用PECVD方法淀积的纳米SiC薄膜经光学透过率测试表明,在637nm和795nm处高的光透过率,并且当薄膜的厚度增大时,仍然具有高透过率的特性,这一结果表明,PECVD技术具有制备结构均匀,透明的纳米SiC薄膜的优势,同时,在与非晶SiC薄膜进行对比中发现非晶SiC薄膜的透过率不如纳米SiC薄膜。     

三牙轮钻头硬质合金堆焊层微观组织分析

研究了WC-Co、铸造碳化钨硬质合金的淬火及深冷处理等热处理工艺,分析了WC-Co、铸造碳化钨硬质合金的金相组织,分析了WC-Co、铸造碳化钨硬质合金淬火和深冷处理提高性能的原因。研究了淬火和深冷处理提高性能的机理。结果证实WC-Co硬质合金金相组织为γ′和M7C3、M6C、M23C6型化合物,铸造碳化钨硬质合金金相组织为η和M7C3、M6C、M23C6型化合物。淬火及深冷处理能强化粘接相,改善合金组织结构和微观结构。     

磨鞋铸造碳化钨铁基复合材料堆焊层强化技术

依据磨鞋硬质合金堆焊层断裂、磨损及剥落的失效形式,自制4种堆焊焊条并对铸造碳化钨堆焊层进行淬火或淬火+深冷处理。试验证实自制焊条碳化钨和管皮重量比直接影响到抗冲击磨损性能及碳化钨的剥落。碳化钨和管皮重量比恰当,堆焊层硬质相的阴影效应和基体、粘结相对硬质相支撑效应的相互作用是提高抗冲击磨损的原因。淬火及淬火+深冷处理磨鞋堆焊层,其抗冲击磨损性能比铸造碳化钨堆焊层分别提高17.4%和43.0%。组织分析表明深冷处理对堆焊层硬质相影响不大。其粘结相成分、形态、分布的变化是深冷处理提高抗冲击磨损性能的原因。     

Bonding mechanism and performance of ceramic coatings by sol-gel process

Thin alumina coatings were prepared on carbide tools to enhance their wear-resistant ability by dip coating from an aluminum alkoxide solution. The coating eventually obtained was perfectly integrated, without any macroscopic defect, and showed good performance in turning medium carbon steel, which presented a novel and promising coating method for cutting tools. The coating morphology before and after heat treatment was examined with the aid of a scanning electron microscope (SEM). The composition of coating and interface layer as well as the crystal structure of coating was characterized by X-ray diffraction (XRD). The elemental distribution near the interlayer was analyzed by electron probe microanalysis (EPMA).