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41.
ZAO透明导电纳米薄膜中Al元素分布对其性能的影响 总被引:6,自引:0,他引:6
主要对直流反应磁控溅射法制备ZAO纳米薄膜中Al元素的相对含量进行了分析,对其作了EDS,XRD测试,并研究了Al质量分数与ZAO薄膜的光、电性能的关系·得出ZAO薄膜中成分是均匀的,具有ZnO晶体结构;Al元素的掺杂没有形成新的化合物(Al2O3),Al对Zn的掺杂替换是提高ZAO薄膜导电性能的关键因素,对薄膜在可见光区的透射性影响不大·制备的薄膜最低电阻率为4 5×10-4Ω·cm,可见光透射率达到80%以上· 相似文献
42.
曲轴轴颈母线形状对轴承使用性能影响巨大,从工厂曲轴的实际使用情况出发,列出了几种常见的曲轴轴颈廓形在工作时与之相配轴瓦的实际磨损情况,初步分析了出现这种情况的原因;并运用弹性流体动力润滑理论对曲轴轴颈油膜厚度进行了计算,验证了实际使用时出现的结果. 相似文献
43.
44.
使用低介电常数基板和高电导率、高抗电迁移的金属Cu进行布线,可以提高高密度电子封装的传输速度和可靠性。采用乙酰丙酮铜作为前驱体,在常压下利用化学气相沉积技术对玻璃陶瓷基板进行Cu薄膜金属化。利用热重分析、X射线衍射和扫描电子显微镜等技术对前驱体、Cu薄膜进行分析观察。结果表明:影响Cu导体的电阻的主要因素是沉积温度。在温度为290~310℃,N2气流量为200~350mL/min和H2气流量为450~600mL/min的条件下,获得了致密的Cu薄膜,Cu导体方块电阻为25mΩ。 相似文献
45.
将四-a(2,2,4-三甲基-3-戊氧基)酞菁铜在亲水基片上以Z型成膜方式拉制了多层LB膜。膜崩溃压为60 mN·m-1,分子极限面积为0.33nm2。研究了酞菁铜的成膜条件,表明LB膜形成与水的纯度、铺展剂、铺展量、推膜速度等因素有关。不同层数的酞菁铜LB膜的紫外可见光谱表明,在LB膜中酞菁铜分子之间是以J-聚集形态存在。 相似文献
46.
47.
电泳法制备YBCO超导厚膜的研究屡见报道, 然而其临界电流密度较低. 通过引入不同比例的Y2BaCuO5(Y211)粒子作为磁通钉扎中心, 将顶部籽晶技术和熔融织构工艺相结合, 并且采用高压氧处理调节氧含量的均匀性, 制备出织构的YBCO超导厚膜, 有效改善了晶界弱连接, 提高了临界电流密度. 实验证明, 在YBa2Cu3O78722;δ (Y123)电泳粉末中掺入40 mol%Y211, 制备出YBCO超导厚膜的临界电流密度达到7.008×103 A/cm2 (77 K), 高于当前报道用电泳法制备的厚膜最高临界电流密度. 相似文献
48.
通过大量仿真计算,对于带有油膜轴承的裂纹轴转子系统的故障特征进行了较为全面的论证.这些特征是通过三维频谱、转速-振幅特性和周期分岔特性来表达的.除了分析裂纹轴转子系统的基本故障特征外,还重点分析了作为故障特征的一个重要方面的非线性行为.为诊断转子系统裂纹故障提供了理论依据. 相似文献
49.
TiO2光催化涂膜的制备及性能研究 总被引:10,自引:1,他引:10
研究以丙烯酸—有机硅乳液为粘结剂,以粘结成膜的方式,将Ti02光催化剂固定化。确定了以TiO2和粘结剂为主的光催化涂覆材料的基础配方。适量聚硅氧烷的加入可以提高光催化涂膜的硬度及改善涂膜与基底的附着状况。对涂膜的光催化性能、耐久性和活性等进行了研究。 相似文献
50.
氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
常天海 《华南理工大学学报(自然科学版)》2003,31(9):40-43
研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则.理论分析和实验结果表明,在将氧化铟锡(ITO)薄膜应用于光学太阳反射镜(OSR)表面防静电放电时,ITO薄膜的表面方阻R□不能小于5 kΩ@□-1,否则会导致OSR的太阳光谱吸收率增加.建议取R□=5~106kΩ@□-1,薄膜厚度d=(150~200)×10-10 m.同时必须保证ITO薄膜接地效果良好,否则会使OSR表面充放电现象更加严重. 相似文献