电场作用下金属串配合物[Ru_3(dpa)_4]L_2(L=Cl,C≡N,C≡CPh)结构的理论研究

用密度泛函理论BP86结合自然键轨道分析方法,研究了具有分子导线潜在应用的含二吡啶胺配体(dpa)的金属串配合物[Ru3(dpa)4]L2(1:L=Cl,2:C≡N,3:C≡CPh)的Ru—Ru,Ru—L键及其在电场作用下的结构变化规律,结果表明:(1)配合物基态均存在Ru6+3离域三重键,1中具有1个σ43和2个!43离域键,2中具有σ23,!53和δ53离域键,3中具有1个σ23和2个!53离域键.1的轴向配体形成Ru—Cl弱配位σ键,2和3中Ru与C≡N和C≡CPh(下文简写为CN和CCPh)除形成Ru—C配位σ键外,还具有Ru(dyz,dxz)→L(!*C-N或!*C-C)反馈!键,减弱了Ru—Ru离域!键.且2的CN中N的电负性较大,其反馈!键更强使Ru—Ru键最弱,故Ru—Ru距离为231.(2)电场作用下,低电势端的Ru—Ru和Ru—L键缩短,而高电势端的Ru—Ru和Ru—L键增长;轴向配体的负电荷向高电势端转移,而Ru的正电荷则向低电势端移动;高电势端Ru的自旋密度减小,而低电势端Ru和L的自旋密度增大.因3中CCPh共轭性强,故电荷密度和自旋密度对电场更敏感,有利于电子在分子轴的传输.1~3的前线分子轨道分布、能级和能隙在电场作用下均较稳定.在电场中前线轨道仍能保持金属轴的离域,有利于电子传输.(3)含更大的共轭轴向配体CCPh的3的HOMO-LUMO能隙小于具有相同自旋态的2,故3的导电性可能最好.     

多种密度泛函方法计算碳氧单键解离能的性能比较

运用当前发展的40种密度泛函方法对30种包含碳氧单键C －O H的有机物中碳氧单键的解离能进行理论计算,并将获得的理论值与已知实验值进行比较,发现BM K和M PW1B95两种密度泛函方法用于碳氧单键解离能的计算所得到的结果相对可靠,而TPSSLYP1W密度泛函方法计算出来的结果与实验获得的数值之间呈现出最大的偏差。我们对造成这种差异的原因进行了进一步地分析,发现拟合密度泛函方法时所采用的数据集及参考性质,对其所适用的化合物范围及性质的表征有至关重要的影响。这为今后使用理论方法对实验无法获得准确碳氧单键解离能数值的化合物中的碳氧键断裂难易程度的表征,提供了一定的参考价值。     

Zr_(55)Cu_(35)Al_(10)金属玻璃中紧键结合团簇的定量表征

定量表征金属玻璃的原子结构是深入理解和解释金属玻璃独特的物理性能和力学性能的关键.本文通过铜模吸铸法制备了Zr55Cu35Al10大块金属玻璃圆棒状试样,并利用中子衍射获得试样的对分布函数,从而定量地定义了金属玻璃紧键合团簇模型中的紧键合团簇.还通过第一性原理分子动力学模拟对Zr55Cu35Al10大块金属玻璃局域原子结构进行模拟计算,从模拟得到的结构中提取了许多紧键合团簇,并通过团簇尺寸对其定量地表征.     

共价性对卤化银性质的影响

为了定量说明卤化银（ＡｇＸ）性质受其共价笥的影响，采用分子轨道理论（ＭＯＴ）和线性回归法对此加以讨论探讨成键原子轨道（ＢＡＯ）之间能级着（△Ｅ）与ＡｇＸ性质的定量变化规律，分别求得ＡｇＸ的键长、日 格能、生成热、溶解度、深度积、络合反应平衡常数的变化规律线性关系式，即：ｙ＝ａ＋ｂ△Ｅ，其中ｙ代表ＡｇＸ的性质，ａ，ｂ分别为特征常数，所得６个线笥回归方程的线性相关系数绝对值变化区间为０．９８１０～０．     

软硬酸碱原理对有机选择反应和竞争反应的解释

运用软硬酸碱原理解释了碳碳不饱和键的加成反应以及亲核取代和消除反应的竞争性。这些反应都按软－软和硬－硬结合的方式进行。     

非晶和纳米ZrO2.Y2O3的EXAFS研究

利用扩展X射线吸收精细结构技术对用化学共沉淀法制备的非晶和纳米ZrO2.15%Y2O3体系进行了研究，分析显示，在从非晶态向纳米结构晶化的结构中，最后邻的Zr-O配位层的配位数和键长没有发生明显的改变，说明300度时已经形成和900度相同的最近邻局域结构，而对于Zr-Zr(Y)配位层，随着晶粒尺寸的减少，配位数明显降低，键长显著缩短，具有比Z r-O配位层更大的无序，这些结果表明晶粒尺寸的变化对于较远配位层的影响要比对最近孤影响大得多。     

若丹菁染料键合于单晶锗表面的研究

将两种若丹菁染料直接键合在抛光的单晶锗表面，对键合有若丹菁的锗片进行了激光Ra-man光谱及XPS谱分析，结果表明，两种染料通过锗氧键共价键合于锗表面。键合有染料的n－型锗片的In(Pt)／染料／n-Ge器件具有整流作用。     

物质的硬度与结构的关系

本介绍了硬度的概念，对离子晶体、原子晶体、金属晶体等固体的硬度与结构之间的关系进行了总结，指出了晶体的硬度由微粒间结合力的强弱即键能的大小来决定。     

一键恢复在EDA实验室微机软件维护中的应用

EDA实验室软件系统维护，是实验管理的重要组成部分，直接关系到设备的有效利用和实验质量。采用一键恢复技术、独立于操作系统的多重引导和各种保护措施相结合，在不增加硬件，不影响整体性能的情况下，可向学生提供实用、方便、满足各种要求的计算机软件环境，减轻维护的工作强度，减少设备损坏，充分挖掘EDA实验室使用潜力。