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201.
利用sol\|gel法得到SiO2介孔固体, 浸泡热分解后获得Zn不同质量分数的Cd1-xZnxS/SiO2介孔组装体. 吸收光谱表明, 随着x的增加, 吸收边向短波方向移动, 这是由于Zn离子进入CdS取代了Cd离子, 使Cd1-xZnxS能隙增大所致. 由于量子尺寸效应, 荧光光谱中发光峰的宽化现象较明显, 同时发光强度随x增大而增强, 这是由于Zn离子使α相比例减少而有利于发光所致. 相似文献
202.
对近年来人们在利用DNA组装纳米结构材料方面所作的研究和取得的成就进行了评述。 相似文献
203.
204.
205.
利用自组装技术制备了二维有序胶体阵列,并对其自组装机制进行了分析.以此二维有序胶体阵列为掩模可以制备二维金属薄膜孔洞阵列和硅基孔洞阵列,这在传感器和记录介质方面具有广泛应用. 相似文献
206.
分子有序膜及其摩擦学行为研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了LB膜、自组装单分子膜(SAMs)、分子沉积(MD)膜等分子有序膜的基本概念和薄膜结构、厚度、性质以及微摩擦学行为的表征技术,并指出LB膜层问是物理吸附,热力学稳定性差;SAMs以化学键为驱动力,重现性较差;而分子沉积膜具有成膜不受基底形状和大小限制等优点,决定了它在微电子器件润滑方面具有更大的应用前景.在分子有序膜的摩擦学研究方面,着重介绍了分子有序膜本身结构(如物质种类、组成、分子链长、末端基团等)和外部条件(如法向载荷、扫描速率、相对湿度等)对摩擦学行为的影响.最后,提出了本领域需要关注的一些问题。 相似文献
207.
干熄焦熄焦槽长时间工作在高温状态下,整个系统在投入运行后如果出现设备故障,其停炉、开炉时间较长。同时频繁的启动、停炉将严重影响耐火材料的寿命,进而缩短干熄焦装置的寿命。因此干熄焦装置的设备投入运行后必须达到工作可靠,故障率低的要求。熄焦槽为了满足生产长期运行安全可靠的目标,熄焦槽的制作必须严格满足苛刻的精度要求。 相似文献
208.
209.
直径为500 nm的纳米球刻蚀模板是通过自组装法制备的.整个实验揭示了自组装过程的影响机制,并得到形状规则,排列均匀一致的单层胶体晶体掩模板.利用离子束溅射得到纳米环阵列,SEM图可以看出纳米环阵列大小均匀,完全按照预期的点阵结构排列. 相似文献
210.