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261.
本分析了Si原子微集团中存在幻数的原因,并用自洽场一多重散射Xa方法,从能量最低原理,研究了6个Si原子微集团和10个Si原子微集团的可能构型,指出悬挂键在Si微集团中起了重要作用,同时必须考虑键角畸变的因素。  相似文献   
262.
本文合成了标题配合物{NB4「CuCo(OX)3」}x。用ESR,IR等对配合物进行了表征,并测定了配合物的变温磁化率,其数值用最小二乘法和自旋哈密顿算符(H=-2JS1.S2导出的磁方程拟合,求得交换参数J=-56.2cm^-1,表明配合物间存在着反铁磁相互作用。  相似文献   
263.
一种新的含硫化合物CH3CSNH2/NH4OH溶液被用来钝化GaAs(100)表面.应用X射线光电子谱(XPS)表征了该钝化液处理的GaAs(100)表面的成键特性和电子态.结果表明,经过处理的GaAs(100)表面,能有效地消除Ga和As的氧化物,并且S既与As成键也与Ga成键,形成了S与GaAs的新界面,这标志着CH3CSNH2/NH4OH溶液对GaAs(100)表面具有明显的钝化作用.钝化表面退火处理后,As的硫化物不稳定,进一步与GaAs衬底反应,生成稳定的GaS钝化层,此种钝化液可直接应用于半导体器件钝化工艺对GaAs表面处理  相似文献   
264.
利用场控变阻材料电阻率随电场变化的特点,改善留边型平板高压陶瓷电容器电极边缘的电场,可以大幅度提高陶瓷电容器的性能,探讨了PbO-B2O3-SiO2系玻璃加入掺杂ZnO制成的半导体玻璃釉对陶瓷电容器电击穿强度,充放电寿命的影响,通过配方,工艺、电极结构的优化可以使留边型高压陶瓷电容器的击穿强度提高80%以上,充放电寿命提高了10倍以上,并与具有类似场控变阻性能的半导体漆作了对比。  相似文献   
265.
用Mo部分替代Fe-Cu-Nb-Si-B合金中的Nb而制备的Fe73Cu1Nb1.5Mo2Si12.5B10非晶合金,在500-620℃的温度范围内进行了等温退火处理。对退火后样品进行了磁性、微结构及物相研究,表明在530℃左右退火后具有最佳软磁性能。当退火温度大于600℃时,有Mo2FeB2及其它化合物析出从而使合金软磁性恶化。Mo与Nb一样有抑制晶粒生长,细化晶粒之作用。  相似文献   
266.
报道了N-Ga1-xAlxAs低温光伏的异常特性,在暗条件下降温的样品,其低温光钛的初始强度比受光照的样品的光伏初始强度大得多,对这两种不同初始条件,当样品加热到大约100~150K时,其低温光伏强度发生跳跃,这些异常特性归因于N-Ga1-xAlxAs(x〉0.22)中的DX中心的电荷态变化。  相似文献   
267.
采用紧束缚方法计算生长在GexSi1-x合金面上的应变GaAs层以及生长在Si(001)面上的应变超晶格(Sj2)4/(GaAs)的电子能带结构。讨论了应变对电子能带结构的影响。  相似文献   
268.
用一种廉价,批量化加工微机械零部件的工艺(准LIGA技术)制作了亚毫米金属(镍)微齿轮,微马达.实验结果表明,紫外线深曝光和精密电铸这些常规并结合牺牲层技术,进行金属(镍)微部件加工这一套工艺是可行的,同时文中对于影响微部件加工精度的因素进行了初步讨论。  相似文献   
269.
王世范 《科学通报》1993,38(4):319-319
随着分子束外延(Molecular-beam epitaxy,MBE)、金属有机化学汽相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)和有机金属汽相外延(Organometallic vaporphase epitaxy,OMVPE)等生长技术的出现,大量新型半导体合金和超晶格材料被制成。近年来出现的Ⅲ-V族四元合金因其独特的性能引起了人们广泛的重视。它们作为光电器件的基础材料已得到越来越多的应用。例如,利用In_0.5(Al_xGa_(1-x))_0.5P合金的宽带隙和形成双异质结构的性能,可制成短波长激光器和发光二极管;用GaInAs/AlGaInAs制成量子阱激  相似文献   
270.
刘方新 《科学通报》1993,38(10):884-884
纳米材料由于其中粒子直径与晶体中电子的德布罗意波长相当,显现许多特异的物理和化学性质,引起了许多科学工作者的浓厚兴趣。由于纳米材料中既有由约50%的原子组成的长短程均有序的晶粒,又有由约50%原子组成的既无长程秩序又无短程秩序的界面,可以预料这种材料会有其它固体材料所没有的独特的体相和界面性质。由于纳米材料是由纳米尺度粒子经加压后制得,因此开展纳米粒子的性质研究是纳米材料研究的基础而又重要的一个环节。为此我们进行了半导体纳米微粉α-Fe_2O_3的光声谱测量和研究。  相似文献   
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