溅射薄膜拉力传感器设计及性能分析

针对热真空环境下的拉力检测,研制了一种基于薄膜溅射工艺的双冗余拉力传感器。主要对溅射薄膜拉力传感器的弹性体结构和应变电阻布局进行了分析设计。针对传感器的零点输出误差设计了零点补偿电路;并对传感器的稳定性处理工艺进行了研究。最终,通过对传感器进行热真空试验,验证了该设计的合理性。实验结果表明,该拉力传感器可在-45℃~+90℃范围内正常工作,灵敏度为13.02 m V/k N,精度高于6‰。     

抗菌含银HA膜的研制

在自然界和很多水生环境中,细菌可以附着在一些不活动的表面并形成菌落和包围菌落的生物膜.反过来这层膜的形成又更容易吸附细菌,尤其是在医用植入设备中,这层膜对人体有毒害作用,并且由于这层膜的保护,抗生素和人体的防御系统都不起作用.含银HA镀膜材料很好地解决了这一问题,并对抗菌医用植入材料引起的感染提供了乐观的前景.对在Ti6AL4V表面镀含银羟基磷灰石(HA)膜形成的抗菌界面加以研究.     

V2O5薄膜结构和性能研究

在常温下，用脉冲磁控溅射方法石英玻璃和硅片上制备了薄膜，经过450℃退火，得到V2O5薄膜。用XRD、XPS和AFM对薄膜微观结构进行了测试，用分光光度计测量从200～2500nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱。结果表明，V2O5薄膜纯度高、相结构单一、结晶度好。室温到320℃范围内电阻变化2个量级，薄膜的光学能隙为2．46eV，与V2O5体材料性能一致。     

TiO2透明薄膜的制备与光诱导超亲水性研究

采用溶胶凝胶法和旋涂工艺在普通玻璃表面制备透明的TiO2薄膜，经500℃退火处理后，TiO2薄膜完全晶化为锐钛矿结构，是由一些大小只有约30nm的TiO2粒子组成的多孔颗粒膜，经紫外光照射后，TiO2具有光诱导超亲水性。     

金属硅化物在电阻薄膜材料中的应用

研究了金属硅化物在电阻薄膜材料中的应用．用真空感应熔炼精密浇铸方法制备含铬和镍的硅化物，作为溅射沉积电阻薄膜的溅射阴极靶材．发现随着硅含量的增加，溅射得到的薄膜电阻值变大，Ｓｉ含量在５０％（质量分数）以上时，溅射阴极靶材的组成由ＣｒＳｉ２，ＮｉＳｉ两相变成Ｓｉ，ＣｒＳｉ２和ＮｉＳｉ２三相．所研制的三种型号的溅射阴极靶材适用于不同电阻值范围的电阻薄膜的溅射沉积，可在金属膜和金属氧化膜电阻器上应用．     

等离子体化学镀膜技术在粉末冶金行业的应用

介绍了等离子体化学工艺,特别着重介绍了溅射镀膜与等离子体化学气相沉积在粉末冶金中的应用.     

蒙特卡罗模拟单元素靶的溅射产额角分布

用蒙特卡罗方法模拟能量为２７ｋｅＶＡｒ＋轰击Ａｇ和Ｃｄ单元素靶的力学运动，以研究级联碰撞产生的溅射原子的空间分布情况，对计算结果进行适当的数学处理，以得出微分溅射产额角分布．计算结果和实验值作了比较，并讨论了两种单元素靶的微分产额角分布．     

多层溅射方法制备WSix／Si薄膜技术研究

采用多层溅射技术制备了不同成分的ＷＳｉｘ／Ｓｉ薄膜，然后利用真空退火形成硅化钨．对用此技术制备的难熔金属硅化物的结构特性、电学特性和氧化特性进行了系统的研究．结果表明这种技术具有以下特点：可以通过控制成分得到不同晶格结构的硅化物薄膜，可在硅衬底上形成浅接触，还可以防止金属钨的氧化．     

激光作用菲与邻菲啰啉产生团簇负离子及比较

近年来,以高能量密度的脉冲激光束在高真空中溅射固体样品,已成为产生原子簇正负离子的一种有效手段。这些簇离子是由样品分子的碎片拼接而成,或由样品分子在激光等离子体中彻底“原子化”后再组合成的?簇离子中各组分元素的含量是否与样品相同?也就是说,激光产生的团簇离子的结构与组分与样品有什么关联?为了探讨这一问题,最近我们在自制的激光等离子体源飞行时间质谱计上,以功率密度为10~8W/cm~2,波长532nm的脉冲激光     

Cu表面生长Ag薄膜过程的分子动力学模拟

采用分子动力学模拟方法,研究了在Cu衬底(001)平面气相Ag粒子吸附和薄膜生长的动力学过程.模拟发现:气相Ag原子在Cu衬底的吸附过程中(即镀膜过程),有很强的作为层状分布的趋势,在Ag原子接触衬底后的弛豫过程中,Ag原子按势作用力和热运动双重机制,有一定趋向地随机游走.Ag原子的径向分布函数表明,Ag镀膜层从下到上晶态特征逐渐减弱.