纳米技术研发新动向

针对半导体工业面向未来的微电子器件小型化处理 ,或者那些发展缓慢但后劲十足的领域投资 ;后者虽然可行性要小一些 ,但是一旦有所突破 ,其带来的效益是无可估量的     

精密温控对惯性导航平台系统性能的影响

分析惯性平台温度控制与惯性导航系统精度的关系.提出一种实用的惯性平台温度控制方法,即根据大环境温度和被控对象温度合理选择温度控制点、控制方式和控制算法.研究系统有温控、无温控、长时温控和短时温控对平台综合性能的影响.试验结果表明,系统在陀螺级具有速度快、精度高等优点,为解决惯导系统启动后缩短惯性器件热平衡过程,迅速进入稳定工作状态问题提供了一种实用方法,也为类似的惯导温度控制系统提供了有益的参考.     

PEDOT作为阳极的柔性有机电致发光器件

将PEDOT／PSS（poly-3,4-ethylenedioxythiophene/polystyrenesulfone acid)导电基片用于制备柔性有机小分子电致发光器件，研究了清洗工艺，器件结构对器件性能的影响，分析了导电膜表面与器件性能的关系，在优化后的条件下，最大亮度为2760cd/m^2，外量子效率最大值为1．4％，已接近ITO作为阳极的器件的性能。     

非惯性参照系中质点组的动量定理

应用非惯性参照系中质点牛顿第二定律，推导出一般非惯性参照系中质点组的动量定理。其特殊情形即是惯性系中质点组的动量定理。运用非惯性参照系中质点组的动量定理可以方便处理非惯性参照系中的一些复杂问题。     

梯形与正方形像元CCD调制传递函数的比较

在给出任意像元形状的电荷耦合器件 (CCD)的调制传递函数 (MTF)一般公式的基础上 ,进一步比较了采样阵列为正方形 ,像元形状分别为正方形和梯形的CCD的MTF ,结果发现 ,像元形状为正方形的CCD的MTF优于梯形像元CCD的MTF .     

基于温度场实时检测的焊接质量模糊控制系统

针对焊接工艺的特点,以工业用电荷耦合器件(IC-CD)传感器为测量元件,建立了焊接温度场图像实时采集与处理系统。采用模糊推理控制算法,并在手动控制策略的基础上提出了该系统的模糊控制规则。以焊接电流为控制量,研制了薄板钨极惰性气体(TIG)焊背面温度场等温线宽度闭环控制系统。通过控制接近熔点温度的等温线宽度最终实现了对焊缝背面熔宽和熔透的控制。大量的焊接工艺试验表明,系统有较好的适应性和较高的稳态精度和动态响应特性,并具有较强的抗干扰能力。     

电真空器件用贵金属钎料溅散性影响因素

对电真空钎料溅散性的各种影响因素进行分析对比 .结果表明 ,影响电真空钎料溅散性的主要原因是原料中含有氧、回炉料中含有CuO和Cu2 O ;采用 2～ 3次高真空重熔是解决电真空器件用贵金属钎料溅散性问题的根本方法     

一种用于外形参数诊断的三维系统的设计与应用

使用连续发射的激光光源和半导体光电位置敏感器件,设计了一种三维非接触高精确度的光学测量系统,用于不规则三维物体参数的测量,并将这一测试系统应用前景作了展望.     

波分复用器件自聚焦透镜耦合系统的优化设计

利用光纤矩阵方法和高斯光学的耦合损耗理论，对波分复用器件的自聚焦透镜耦合系统进行了分析，得出了一种优化设计耦合系统的分析和计算方法。结合计算结果的曲线，分析了耦合系统中透镜长度对耦合损耗的影响，提出了通过调整入射单模光纤与自聚集透镜粘接的角度来减小耦合损耗的新方法。     

差动式光隔离放大器的研制及其应用

基于差动放大器的原理并利用光耦合器件，设计了一种差动式隔离放大器，这种放大器具有低漂移、高共模抑制比等差动放大器的优点，同时输入端与输出端之间也是电隔离的，文中给出了这种放大器的工作原理以及各主要参数的计算公式，并给出了这种隔离放大器的一种具体应用。