激光干涉法测定固体线胀系数

本文介绍了用激光干涉的方法对固体线膨胀的微小变化量进行测量,并设计制作出仪器,可使测定固体的线胀系数精确度提高,测试方便。     

稀疏波对层流传播火焰干涉作用实验研究

为了揭示稀疏波对甲烷空气预混气中层流传播火焰结构及压力特性等的影响规律, 利用高速纹影摄像、压力测试等实验手段对小型密闭燃烧容器内甲烷-空气预混气中传播的层流火焰与稀疏波的相互作用规律进行了实验研究. 研究结果表明, 当稀疏波作用于层流传播火焰后, 在数毫秒内火焰就由层流燃烧充分发展成湍流燃烧, 其结果使得燃烧面积迅速增大, 压力上升速度加快.     

用OCV细分干涉条纹技术的研究

本文介绍了一种采用光控变容二极管来细分干涉条纹技术。光控变容二极管(OVC)是一种新型半导体器件。用计算机系统采集并处理数据,能够计数和细分干涉条纹,并已获得较高的灵敏度(超过1/90条)。该技术的优点在于它的可靠性,经济性、简单而且速度高。     

椭圆-椭圆静动态不适合边界算法

目前，计算二维几何图形是否干涉的不适合多边形(NFP)算法，针对的是多边形，尚未涉及椭圆一椭圆不干涉计算问题．因此，基于NFP法概念，提出椭圆-椭圆之间的不干涉算法，称之为不适合边界算法；进而给出了既相对平动又相对转动的椭圆-椭圆间任一时刻的动态不干涉边界算法．该法可应用于求解Packing问题、机器人路径规划、虚拟装配、医疗内外科手术等领域．     

四川汶川Ms8．0级地震同震干涉形变场定量分析

利用星载合成孔径雷达差分干涉测量技术（D-InSAR）和60景日本ALOS／PALSAR1．1级雷达数据,采用两通差分干涉处理模式,对2008年5月12日汶川Ms8．0级地震的同震干涉形变场进行了研究．通过对干涉处理中图象配准、噪声滤波和相位解缠等若干关键算法的优化使用,成功获取了震中周围较大区域的形变干涉纹图和数值化位移场分布图,并通过形变等值线和跨断层剖面线对形变场进行了定量分析,客观揭示了汶川地震地表形变场的全貌及其空间动态变化特征．结果显示,汶川地震造成的地表形变场影响范围很大,但形变主要集中在断层两侧附近区域,在上下盘各约100km以外的远场区形变量较小．按形变幅度和梯度的差异整个形变场可分为三个区域,一个是位于断裂带及其附近的非相干带所指示的强烈变形区,长度约250km,宽度在西南方向约35—15km,在东北方向约15—10km,西南宽东北窄,最大宽度位于汶川和映秀之间,这说明破裂由西南向东北扩展．这一区域是本次地震中形变最强烈,并形成地震地表破裂带的区域,该区域的形变InSAR已无法测出．另一个是位于非相干带南北两侧具有清晰可辨连续并向发震断层收敛的包络状干涉条纹所示的次级变形区,该区域在断层两侧的宽度各约70km,视线向位移为上盘沉降,沉降幅度约在-100cm以上,下盘抬升,抬升幅度约在120-130cm以下．上盘及断层附近干涉条纹相对密集,跨断层形变曲线粗糙锯齿,显示形变过程复杂,变形非均匀性突出．沿发震断层走向出现多处规模不等的局部隆起和沉降．远离发震断层的发散状宽缓条纹分布区域为远场弱变形区,形变量约为-20-30cin．这些形变特征反映了发震断层运动的分段差异性、上下盘之间的相对逆冲性及逆断层型地震上盘破坏的复杂性．初步分析认为汶川?     

试论美国内战期间林肯政府的外交政策

美国内战是美国历史上北方资本主义制度战胜南方奴隶制度的一场正义的、进步的战争。内战本属美国内部问题，但由于战争结局会影响到欧洲列强的既得利益，因而北方的林肯政府在内战中不得不面对当时极其复杂的国际关系。我们认为，北方之最终获胜固然在于其正义性，但林肯政府灵活、有效的外交策略，同样功不可没。本文将重点探讨美国内战的国际关系及林肯政府的外交政策。     

光的干涉和衍射现象的辩证关系

本文用唯物辨证法的观点阐明了光的干涉与衍射现象的区别和联系，并说明了干涉与衍射是光的同一类现象。     

光的相干条件

较详细地理论上讨论了光的相干条件，包括必要条件，补充条件，时间相干性和空间相干性。     

A Contact and Non-Contact Hybrid Profilometer with Large Range

A novel hybrid instrument of contact and non-contact measurement with large range is developed, and both measurement systems are based on a Linnik interference microscope and on white-light interference measuring techniques. The ambiguity presented in conventional monochromatic interferometers is not present in the contact and non-contact measurement, and they have a virtually unlimited unambiguous range. For the contact measurement, the vertical measuring range is ±5 mm with a resolution of 1 nm and the horizontal measuring range is ±25 mm in x-range and y-range with a resolution of 1.25 μm; for the non-contact measurement, the vertical measuring range is ~5 mm with a resolution of 1 nm and the horizontal resolution better than 0.5 urn.     

半导体器件工作温度的光学干涉测量

采用光学干涉测温原理测量微电子器件在线工作温度，设计了干涉测温系统，进行了实际测量实验，并与红外微像仪的测量结果进行了比较。