运用生物质谱分析磷酸化多肽合成中的主产物

蛋白质磷酸化是生物体内非常重要的翻译后修饰,磷酸化多肽及其类似物对研究和阐明蛋白质磷酸化修饰对生命活动的调节机制具有十分重要的作用,采用4-磺酸苯异硫腈酸酯修饰,源后衰减基质辅助激光解吸/电离飞行时间质谱(PSD-MALDI)模式分析合成磷酸化多肽,建立了一种简便易行的磷酸化多肽鉴定及定位方法.     

面向21世纪的基因工程

基因工程将是21世纪最具有发展潜力的高新技术。介绍了基因工程及其在基因检测与基因治疗、生物反应器工程、蛋白质工程与代谢工程、基因组计划与生物信息学等相关领域的进展。     

基于MATLAB/SIMULINK的仿真应用研究

阐述了matlab语言的主要功能和特点,并结合一个二阶电路的实例,详细介绍了其建模仿真工具Simulink功能、特点和使用方法,以及通过编写S-函数来简化Simulink模型达到同样的仿真结果。     

荧光动力学分析新方法测定超氧自由基抑制剂的抗氧活性

研究了荧光动力学分析法检测超氧自由基抑制剂抗氧活性的新方法．在Tris-HCI缓冲溶液中(pH=8．20),邻苯三酚自氧化产生超氧自由基和有荧光效率的自氧化产物．在433．0nm激发波长和494．5nm发射波长条件下,该自氧化产物时间扫描曲线的斜率与超氧自由基抑制剂的浓度有相关性．利用抗坏血酸、槲皮素、芦丁3种常见抗氧化剂对新方法进行了验证并将新方法与单扫描极谱法(SSP)、紫外分光光度法(UV)作了比较．结果表明新方法测活灵敏度优于UV法,而与SSP法相当．但比SSP法操作简单、准确度好．     

桑色素-镍络合体系的单扫描极谱法研究

采用单扫描极谱法研究了金属镍与桑色素形成络合物的条件及反应机理.在pH=7.00的B-R缓冲体系中,桑色素与镍络合并在-1.13 V(vs,SCE)处产生1个灵敏的还原波,其峰高与桑色素浓度在8.00×10-6~1.90×10-5mol.L-1范围内呈现良好的线性关系,r=0.996 7,检出限为6.00×10-6mol.L-1.测得镍与桑色素的配位比为1∶2,表观稳定常数为2.22×1011.     

铜(Ⅱ)-叶酸的配位化学研究

研究了铜(Ⅱ)-叶酸配合物的形成条件,在磷酸盐缓冲溶液中(pH5.00),Cu(Ⅱ)可以与叶酸形成稳定配合物,配比分别为1∶1和1∶2,条件稳定常数分别为β′1=1.25×103,β′2=2.50×106.     

16.1W输出1064nm连续单频光纤放大器的实验研究

以976 nm光纤输出半导体激光器为抽运源,采用掺镱双包层光纤,对单块非平面环形腔激光器（NPRO）产生的1 064 nm连续单频信号光进行放大.当入纤抽运光功率49.6 W,信号光功率200 mW时,由10 m长的增益光纤获得了最高功率16.1 W的连续单频激光输出.采用不同长度的增益光纤进行对比实验,分析了在一定的抽运光功率和信号光功率条件下,光纤长度对放大输出功率的影响.研究了放大器的输出光谱特性,分析了信号光对光纤中放大自发辐射的抑制情况.用F-P频谱分析仪对放大前后的频谱进行测量,证实放大器实现了单频放大.     

基于配对市场的选择函数及其偏好结构研究

基于配对市场,研究了路径无关性选择函数应满足的性质、条件和代理人的偏好结构.首先证明了在替代性原理的前提下,选择函数定额充分是满足一致性原理的充分条件;得出了当选择函数满足替代性和定额充分条件时,必定满足路径无关性选择的结论.其次,通过路径无关性选择函数定义了一个展示偏好二元关系,证明了此展示偏好正好具有偏序特征,并得到了一些进一步的性质.所得结论有利于分析代理人对被选球队的偏好结构及球队的组合问题.     

N,N,N''''N''''-四[2-(2-氨基乙氨基)甲酰基乙基]乙二胺的绿色合成研究

研究了N，N，N’N’-四[2-（2-氨基乙氨基）甲酰基乙基]乙二胺的绿色合成方法．应用分段减压蒸馏方法使产物与溶剂甲醇（MeOH）和过量试剂乙二胺（EDA）分离，在较低真空条件下（0．06MPa）．MeOH和EDA的回收率高达98．1％．对较低真空条件下的回收液进行气相色谱定性定量分析，在此基础上尝试了回收液的直接循环使用实验．对经过50次循环使用的回收液进行分析，未见杂质积累现象．该法用于合成N，N，N’N’-四[2-（2-氨基乙氨基）甲酰基乙基]乙二胺可省去回收液的分离纯化过程，节能降耗，具有工业应用价值．     

有机硅耐高温涂料的研究

以两种通用牌号的有机硅树脂为基料，制备出一种能耐700℃的高温涂料，并对低熔点玻璃粉、滑石粉、铝粉和硅烷偶联剂在有机硅耐高温涂料中的作用机理以及对涂料性能的影响进行了讨论。试验发现，有机硅树脂、低熔点玻璃粉、铝粉、滑石粉、硅烷偶联剂质量分别为30～50g、20～30g、1.5～6.0g、10g和1.5g时涂层性能最佳。