基于最优梯度估计及小波变换的指纹图像处理技术

提出了最优梯度估计算法,用于提取指纹图像局部窗口中的纹理梯度特征参数,并在此局部窗口内计算出相应的频率参数。小波滤波器再根据这些特征参数对指纹图像进行自适应滤波,并用滤波后的合成梯度强度对滤波性能进行了衡量。实验结果表明,该算法较好地去除了图像中的噪声,并较大程度地提高了图像的质量。     

基于流量特征识别的哑终端安全管控系统

网络摄像头、网络打印机这类基于IP协议无用户交互界面的物联网哑终端通常基于嵌入式系统开发,存在程序固化难以更新、计算资源有限、采用简单的安全认证机制等问题,出现安全漏洞难以进行升级很容易被攻击者控制发起网络攻击.针对上述问题,本文设计并实现了基于流量特征识别的哑终端安全管控系统.该系统提取终端的流量特征,实现终端的身份鉴别和行为监管.在设备接入时,提取终端的流量静态特征实现身份鉴别;在设备接入后通过分析流量动态行为特征判断其是否存在异常行为.发现异常行为后阻断会话连接.该系统在实验环境和实测环境下性能均表现较好,设备识别准确率达到96.6%,异常检测准确率达到97.7%,可有效检测DOS、端口扫描等网络攻击行为.      

超高水头混流式长短叶片转轮内部流动数值模拟

对超高水头混流式长短叶片转轮内部流动进行数值模拟分析.计算基于连续方程和雷诺时均N-S方程,选用Spalart-Allmaras一方程湍流模型使方程组封闭,通过贴体坐标下的有限体积法对控制方程进行离散,数值求解采用SIMPLIC算法.通过计算得出不同工况下长短叶片转轮内部流动的速度及压力分布,发现不同工况下短叶片表面的压力分布规律与长叶片基本相同.与常规转轮叶片流场比较发现,在上冠流面和中间流面上二者有相似的翼型压力分布规律,而在下环流面上长短叶片转轮翼型表面压力分布要优于常规叶片转轮,因而具有更好的空蚀性能.     

赤泥处理锌冶炼废水的研究

以赤泥为原料,通过静态实验方法研究了赤泥对模拟锌冶炼废水中Zn2+、Pb2+、Cd2+的吸附作用,以及焙烧温度、pH值、投加量、反应时间等因素对吸附的影响。结果表明,经600℃焙烧后的赤泥吸附效率较高,可作为一种有效的吸附剂和中和剂,尤其对Pb2+的吸附效果最为明显,且吸附处理后的赤泥沉降性能良好,易于固液分离。溶液pH值显著影响金属离子的去除效果,在近中性条件下吸附效果最好。赤泥对Zn2+的吸附可以用准二级动力学模型很好地模拟和解释,吸附过程以化学吸附为主。     

区间方法在不确定非线性结构静态响应分析中的应用

采用区间分析方法针对目前还少有人研究的具有材料非线性的不确定结构系统进行分析计算,并针对计算结果易于扩张这一区间计算的主要缺陷,采用把区间函数计算和区间方程组的求解转化为以非确定参数为优化变量,以结构静态响应解为目标函数的全局最优化问题,进而得到静态解的区间边界值.计算中采用实数编码遗传算法求解全局优化问题.     

自然语言的控制与优化

对受控语言和自然语言进行了对比,分析了自然语言成为检索语言的主体的优势和不足,探讨了搜索引擎中自然语言的优化处理方法。     

聚L-组氨酸/石墨烯复合膜修饰电极对多巴胺和尿酸的同时测定

采用循环伏安法制备了聚L-组氨酸/石墨烯复合膜修饰电极(poly-(L-His)/ERGO/GCE),研究了抗坏血酸(AA)、多巴胺(DA)和尿酸(UA)在该修饰电极上的电化学性质.研究结果表明:AA、DA和UA在该修饰电极上具有良好的电化学响应,且这3种物质的氧化峰能完全分离.据此建立了在大量AA存在下同时测定DA和UA的新方法,微分脉冲伏安法测定DA和UA的线性范围分别为3.0×10-7～3.0×10-5 mol·L-1和5.0×10-7～3.0×10-5 mol·L-1,检出限分别为3.0×10-7和5.0×10-7 mol·L-1.     

基于SOPC和CPCI总线的ARINC429数据接收卡

介绍了基于SOPC的ARINC429接收卡的硬件构建过程和软件设计流程.该系统使用嵌入式NiosII软核处理器作为整个系统的控制器;使用 ARINC429收发芯片HS3282,实现了两路高速ARINC429数据的接收;并将接收到的ARINC429数据通过CPCI总线上传至主控计算机.结果证明能够实时高效的接收和传输两路ARINC429数据.     

螺旋状专性化能自养铁氧化细菌ML-04菌株的分子鉴定

对1株螺旋状专性化能自养铁氧化细菌ML-04的16S rDNA基因PCR扩增产物进行了序列分析，并以16Sr DNA序列同源性为基础构建系统发育树，结果表明，ML-04菌株与氧化亚铁钩端螺旋菌(Leptospirillum ferrooxidans)具有较大的差异性，而与嗜铁钩端螺旋菌(Leptospirillum ferriphilum)的相似度达99．7％以上，属于同一类群．     

沉积温度对纳米ZrN涂层结构及性能的影响

利用磁控溅射方法通过改变沉积温度(Ts)制备一系列纳米ZrN涂层.采用X射线衍射、扫描电镜及CSM纳米力学综合测试系统表征了纳米ZrN涂层的物相结构、截面形貌及综合力学性能,系统研究了沉积温度对纳米ZrN涂层结构及性能的影响.实验结果表明:随着沉积温度的增加,涂层择优取向由(111)变为(200),而在600 ℃时结晶度很低;涂层择优取向的变化是由涂层沉积过程中原子迁移能力和不同取向表面能的差异所决定的.纳米ZrN涂层在Ts=450 ℃及以下温度区间为柱状结构,并随沉积温度增加柱状晶逐渐变宽,在Ts=600 ℃时,由于生长方式的改变使涂层变为非柱状等轴结构.纳米ZrN涂层的硬度在Ts=450 ℃及以下温度区间没有明显变化,但在Ts=600 ℃时,由于涂层结晶度以及位错密度降低导致涂层硬度下降.随沉积温度的增加,涂层与基体间结合力先减小后增大.纳米ZrN涂层的磨损率由硬度和膜基结合力共同作用决定.