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51.
利用手性源(2R,3S)-3,4-二甲基-2-苯基-1,4-氧氮杂-5,7-二酮(1)合成了具有光学活性的7,8-二甲基-3,6-二苯基-5-氧-8-氮螺[2.6]壬-4,9-二酮(3).测定了化合物(3)的晶体结构,并讨论了在环加成反应中的不对称诱导作用的机理.  相似文献   
52.
FD-TRT耐热逆转录酶的特性分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
从嗜热细菌FD3009中克隆并分离纯化得到的耐热逆转录酶(FD-TRT),逆转录反应在65℃高温下进行,可克服常温逆转录酶的许多缺点,以酵母核糖体rRNA为模板,以与255和18S rRNA匹配的寡聚脱氧核苷酸为引物,探明了FD-TRT的最适反应条件: 25mmol/L Tris-HCl(pH 8.5,25℃),25 mmol/L(NH4)2SO4,2 mmol/L MnCl2,100 μg/ml明胶.5 unit RNasin,250 mmol/L 4种 dNTP, 1μCi3 H-dCTP, 12ug RNA,25 pmol引物,并在此条件下测得 FD-TRT和 Taq DNA 聚合酶逆转录活力与聚合酶活力的相对比值分别为0.056,0.0045.  相似文献   
53.
纳米级二氧化硅玻璃粉的制备及其特性   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用正硅酸乙脂为前驱物,用溶胶-凝胶法制备纳米级二氧化硅(SiO2)粉,分别用X射线衍射仪、透射电子显微镜、红外光谱仪、差热扫描量热分析仪和白度测试仪对凝胶粉随温度变化的特征进行了分析测试.结果表明干凝胶在1200℃热处理1h仍是无定型的SiO2粉,其粒度大小为40nm左右,白度为92.1%.  相似文献   
54.
稀土—二苯甲酰甲烷配合物微晶的合成及荧光光谱   总被引:3,自引:0,他引:3  
合成了稀土(RE)二苯甲酰甲烷(DBM)配合物RE(DBM)3·H2O(RE=Sm、Eu、Tb、Dy、Pr、Nd、Gd、Y),用红外光谱、紫外光谱及差热热重谱对其进行了表征,用透射电镜观察了该配合物微晶尺寸,并研究了配合物在固态时的荧光光谱.结果表明该系列配合物微晶的尺寸在50~250nm之间,在RE(DBM)3·H2O(RE=Sm、Eu)中可观察到较强的稀土离子的特征发射,而在RE(DBM)3·H2O(RE=Tb、Dy)中只能观察到配体自身发射  相似文献   
55.
在异步DS_CDMA系统中,由于“远-近”问题的影响,给系统参数(传播时延、幅度变化、相位变化)的估计带来很大的不利.本研究探讨了存在“远-近”问题情况下,异步DS_CDMA系统中的参数估计问题,并提出了一种有效算法.  相似文献   
56.
以关联函数、关联积分为工具,研究了需求系统的分形特征,并对需求系统的时间序列进行了分形分析,寻找出无标度区,计算出分维数,进而发现无标度区的位置,分维数的大小等,可作为反映经济波动的定量指标。  相似文献   
57.
将复杂非线性蒸汽动力系统参数优化扩展到热电联产流程结构和蒸汽参数的联合优化,提出的混合整数非线性规划(MINLP)模型包含非凸非线性费用目标函数、复杂非线性过程约束及多方案选择的组合优化0-1变量逻辑约束.应用算例表明,所采用的模型和改进的遗传算法解决热力系统组合方案优化问题是可行的.  相似文献   
58.
ZSM—5沸石膜合成中几个影响因素   总被引:9,自引:0,他引:9  
采用水热合成法在Al2O3陶瓷载体和SiO2复合膜上成功地合成了ZSM-5沸石膜。考察了ZSM-5沸石膜合成中载体性质,合成溶液的碱度,水硅质量比,晶化时间等对成膜的影响,探讨了沸石膜的生成机理并对合成的沸石膜进行了XRD及SEM表征,表明当合成液水硅质量比为100时,主要是液相晶化机制起艇,表面的Si-O键或Al-O键参与晶化,使膜与载体紧密结合。  相似文献   
59.
XML数据库技术   总被引:1,自引:4,他引:1  
概述了了XML数据库研究与发展的现状,介绍了XML数据库的基本概念和相关技术.详细叙述了XML-Enabled Database和Native XML Database这两种XML数据库的设计思路、技术特点及代表性产品,同时对XML数据库的应用进行了分析研究.  相似文献   
60.
交错波纹板原表面换热器通道内对流换热的数值研究   总被引:8,自引:0,他引:8  
对具有正弦波形通道交叉排列的原表面换热器多通道单元内三维稳态层流流动与换热特性进行了分析,利用数值模拟方法探讨了上下波纹板交错角θ、波纹相对节距P/H(波长/波高)及雷诺数RP对流动与换热性能的影响.结果表明:在入口段流动与换热性能的变化较大,此变化在沿主流方向第4个单元后基本消失;在水力直径基本相同的前提下,阻力系数厂及平均努谢尔特数Nu随θ的增大而增大;f及Nu在P/H为1.5~3.1的范围内随P/H的增大而增大,在RP大于900及P/H为3.1~4.0时随P/H的增大却开始减小;壁面局部Nu的最大值发生在主流尾部以及与流体出口邻近的2个入口处附近,最小值在上下波纹板的接触点上产生。  相似文献   
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