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根据垢层的组成及特点，采用多组分复配进行清洗试验，筛选出两种清洗配方。实验结果表明，该配方对石英砂过滤器及石黑加热器内的垢层有较好的清洗效果。 相似文献
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咪唑啉衍生物缓蚀剂的研究进展 总被引：4，自引：0，他引：4
文章介绍了咪唑啉衍生物缓蚀剂合成的几种常见方法及影响其产率的因素,重点强调了其缓蚀性能和复配增效技术在制备咪唑啉衍生物缓蚀剂中的应用,概述了缓蚀机理,并提出了发展趋势。 相似文献
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通过干氧氧化的方法，在6H-SiC表面生长一层SiO2层，接着置于N2气氛中经过不同的温度退火，使用红外显微仪分别测量退火前后的红外反射谱，通过观测表面氧化层SiO2的红外反射谱图中特征反射峰位(1090cm^-1附近)的变化，以判断退火前后表面氧化层密度的变化情况，进一步推断氧化层的结构变化与杂质类型． 相似文献
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大孔吸附树脂浓缩火龙果色素的研究 总被引：9，自引：0，他引：9
探讨了吸附和洗脱火龙果色素的方法和条件.该色素在535nm处有最大吸收峰.S 8型大孔吸附树脂对火龙果色素具有较好的吸附能力.乙醇浓度对树脂上色素的解吸有影响,当浓度为40%时解吸效果最好.考察了不同进样速度下树脂柱的泄漏和不同的酸浓度对洗脱峰的影响,结果选择1.5mL/min的进样速度及0.2%HCl 40%乙醇溶液为洗脱剂.经吸附-洗脱循环,色素液浓缩17倍以上,回收率达93.4%,且色素浓缩液具有较好的稳定性. 相似文献
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针对CMOS电路的功耗来源提出了一种低功耗综合流程.这种综合流程在不改变原有电路设计的前提下同时采用了门控时钟、操作数隔离和门级功率优化来降低功耗.对一个PTC(PWM/Timer/Counter)控制器的仿真表明,这种流程可以降低电路功耗57%,与仅使用门控时钟的流程相比可以进一步降低电路功耗21%. 相似文献
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利用新型全息动光弹,以南芬矿高台阶靠帮控制爆破的现场参数为实验模拟基础,研究了两预裂孔间应力波迭加的动态变化过程。在两炮孔均实行孔底和孔口同时起爆（四起爆点）,并对孔底进行加强装药条件下,获得了不同时刻的等差条纹图。发现沿炮孔方向应力波分布有很大不同,提出了初始Ｐ波与后出现的Ｓ波迭加形成的波是所有波中最重要的部分。研究表明,孔底加强装药是深孔孔底产生预裂效果的关键因素,孔底连线上应力场强度不受端部效应影响。 相似文献
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采用线性极化技术对18-8不锈钢在8%HNO3+2%HF酸洗介质中的缓蚀抑雾剂进行筛选,经正交试验,得出最佳配方的组成为0.3%硫脲衍生物+0.2%乌洛托品+0.3%硫氰酸铵+0.2%十二烷基苯磺酸钠,缓蚀率达到99%,抑雾率达到85%左右,该最佳配方的缓蚀抑雾剂对材料的力学性能不产生影响。 相似文献
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采用电化学方法和形貌分析研究了真空条件下2205双相不锈钢在Na Cl溶液中的点蚀和再钝化行为。结果表明:(1) 2205双相不锈钢在真空度为60 k Pa的50 g/L Na Cl溶液中的临界点蚀温度和再钝化温度均在55℃～60℃之间;(2)随着Na Cl浓度(50 g/L～300 g/L)的增加,2205双相不锈钢的临界点蚀温度和再钝化温度变化不明显,但其击穿电位和再钝化电位的值均减小,更容易遭受点蚀破坏;(3)在温度低于临界点蚀温度的30℃下,2205双相不锈钢在不同点蚀发展程度下(强制回扫电流密度0. 01 m A/cm2～5. 00 m A/cm2)均具有良好的再钝化能力。 相似文献
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针对传统闭环峰值检测电路不能准确检测出每一个峰值的缺点,设计了一种自适应峰值检测电路. 利用输入信号的斜率作为控制信号,控制采样保持电路实现峰值检测. 该电路确保检测与峰值同步,对峰峰时间间隔不定的信号都能够准确检测出每一个峰值,并具有检测误差小、电压下降率低等优点. 设计采用CSMC 0.5 μm工艺,在5 V电源供电下,检测误差小于0.3 mV,电压下降率小于1.68 μV/μs,应用频率范围20 Hz~1 KHz,最小可分辨峰峰时间间隔为5 μs,整体电路功耗14.7 mW. 相似文献
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采用能量为100keV的He离子在室温下辐照金属钨,辐照注量范围为1.4×1017-3.5×1017/cm2,辐照后对样品进行了1100℃退火处理.利用X射线衍射、慢正电子多普勒展宽和扫描电镜技术研究了钨中He离子辐照引入的缺陷和注量之间的关系.研究结果表明辐照并退火后材料内部晶面间距增大,空位型缺陷浓度或尺寸随辐照注量的升高而增大,而高注量辐照的样品表面晶粒间连接疏松并存在孔隙,钨表层可能生成了大尺寸的He空位复合体或He泡. 相似文献