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最低能量原理是自然界中最普遍的规律之一,物理学中很多现象都可以用它来解释,让高中生了解相关知识可以帮助他们更深刻地理解物理学和自然界。本文首先介绍了最低能量原理的概念和普遍性,然后通过对三道精选物理问题的分析解答,讨论了在物理课堂上向学生传授相关知识的方法。 相似文献
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用X衍射测定了离子束混合所形成铂硅化物的衍射线宽,并计算出了其晶粒大小.发现混合时的注入剂量和后退火温度都会影响其晶粒大小. 相似文献
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本主要探讨了在高中物理竞赛培训中应注意的一些问题．指出了在高中物理竞赛培训中，教师应摆脱传统教学模式的禁锢．重视对学生非智力因素的培养．充分发挥学生的自主能动性．按照“独立思考 学生讲课 自由讨论”试探教学方法，努力贯彻“因材施教”的教学原则．建立起以“教师为主导，学生为主体”的教学模式。 相似文献
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采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °. 相似文献
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采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜,并重点研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响.结果发现,当磁性层溅射功率为60 W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为8min,且底层溅射功率为125 W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为4min时,薄膜的矫顽力高达3500Oe. 相似文献
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设计性实验是一种新型的实验教学方式．实践证明它能更好地培养学生的实验能力和创新精神。本文试图从教育学心理学方面的知识去建立一种适用于设计性实验的科学、客观、完整的评价体系。 相似文献
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采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功地制备了(Sm)TbCo/Cr非晶垂直磁化膜,并就薄膜组分对其磁特性的影响进行了研究.部分Tb原子取代Sm以后,薄膜仍然具有较高的磁各项异性.薄膜组分为(Sm0.286 Tb0.714)31Co69/Cr时,其饱和磁化强度Ms为330 emu/cm3,矫顽力为5.0 KOe;薄膜组分为(Sm0.343Tb0.657)31 Co69/Cr时,其饱和磁化强度Ms为385 emu/cm3,矫顽力为4.7 KOe.薄膜组分对SmTbCo/Cr非晶垂直磁化膜的磁特性影响,可以通过对薄膜结构特性的分析得到合理的解释. 相似文献
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发电机灭磁是发电机发生故障时消除故障防止事故扩大的最后防线,发电机安全可靠和快速的灭磁能力直接决定了发电机主变压器等设备的安全水平.本文应用MATLAB软件对600MW级汽轮发电机组的灭磁时间特性进行了仿真分析,具体对比分析了该机组在线性、氧化锌和碳化硅非线性灭磁电阻配置情况下,以及各种工况条件下的灭磁时间特性,其结果对于灭磁系统设计具有实际指导意义. 相似文献
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Mo膜中的杂质氧明显减慢了Xe~+离子轰击诱生的MoSi_2的生长速率,氧的内扩散和再分布是由损伤分布支配的.小电流密度(<5×10~(-7)A/cm~2)Xe~+离子轰击引起的Mo/Si混合区,随轰击剂量增大而增大,但不生成钼硅化物相;衬底适当加温(>300℃)条件下,Xe~+离子轰击诱生的MoSi_2为六角结构.后退火温度大于850℃时,六角结构的MoSi_2转变为四角结构.选择适当的轰击剂量和衬底温度,利用离子束混合技术可以生长出不含氧杂质的均匀的Mosi_2层. 相似文献
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采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功地制备了（Sin）TbCo／Cr非晶垂直磁化膜,并就薄膜组分对其磁特性的影响进行了研究．部分Tb原子取代Sm以后,薄膜仍然具有较高的磁各项异性．薄膜组分为（Sm0.286Tb0.714）31Co69／Cr时,其饱和磁化强度Ms为330emu／cm^3,矫顽力为5．0KOe;薄膜组分为（Sm0.343Tb0.657）31Co69／Cr时,其饱和磁化强度Ms为385emu／cm^3,矫顽力为4．7KOe．薄膜组分对SmTbCo／Cr非晶垂直磁化膜的磁特性影响,可以通过对薄膜结构特性的分析得到合理的解释． 相似文献