转折年代的民主建政——以1940年代末的华北安国为例

1940年代的华北地区,在准和平的环境下进行了民主建政工作,初步构建了农村的基层政权体系,为中共在新时期的基层政权运作进行了有益的探索。     

黄花变豆菜——浙江变豆菜属(伞形科)一新种

描述了浙江伞形科Apiaceae变豆菜属Sanicula L.一新种:黄花变豆菜Sanicula flavovirens,并附有墨线图.新种接近于瘤果变豆菜S.tuberculata,但植株较高大,高达30cm,小苞片8～12枚,条形,较小,长3～7mm,全缘,雄花花梗较长,长3～5mm,花黄色,分生果横剖面近圆形而显著不同.     

一种难溶难熔未知组分板材的定性分析

由于分离提纯困难,难溶难熔未知物的组分剖析研究较少.借助差示扫描量热仪(DSC)、热失重—微商热重仪(TG-DTG)、傅里叶红外光谱(FTIR)、扫描电镜—能谱(SEM-EDS)、热失重—质谱(TG-MS)、热失重—红外光谱(TG-FTIR)等多种方法,进行了一种难溶难熔未知板材的定性分析.结果表明,未知物为填料增强热固性树脂体系,树脂基体为对苯型不饱和树脂与苯乙烯的共聚物,增强填料为硅灰石、硅藻土和碳酸钙;未知物的三级热分解特征和分解产物佐证了分析结果.本分析方法可为难溶难熔的未知物的剖析提供借鉴.     

沉积温度对磁控溅射镀钌薄膜微观结构和附着力的影响

采用中频磁控溅射技术在钼圆片表面镀覆钌薄膜,通过X射线衍射仪、扫描电镜、平整度仪、宏观浸蚀试验和百格测试等对镀层进行表征和检测,研究不同沉积温度对薄膜微观结构和附着力的影响。结果表明,随着沉积温度由室温升至200℃,钌薄膜的表面平整性和致密性逐步改善,附着力得以提高;200℃沉积薄膜的膜/基结合力最大,其微观结构、致密性等也均达到最优;但当沉积温度进一步提高到300℃时,钌薄膜的表面起伏反而增大,附着力有所下降。     

浅谈幼儿教师与家长之间的沟通

本文分析了目前幼儿园教育中教师和家长沟通的现状。介绍了幼儿教师与家长沟通的技巧与方法。     

从居里夫人的获奖过程看诺贝尔物理奖

 居里夫妇与贝克勒尔分享了1903年的诺贝尔物理奖。居里夫人是最早获得诺贝尔奖的女科学家。1911年居里夫人再获诺贝尔化学奖,截止目前居里夫人是唯一获得2次诺贝尔科学奖的女科学家。     

妈妈,你辛苦了

我骑自行车到学校要一个多小时。我每天天还没亮就要上学,天黑了才能到家。妈妈看我这样起早贪黑的,太辛苦了,就说:“你租房子住在那里吧,整天骑车跑来跑去的太累了。”我在学校不远处住了下来。星期五下午回家,星期日下午到校。每次回到家,妈妈总是把饭烧好等我。有一次我回到家,看见妈妈刚做饭,就气乎乎地说:“怎么现在才做饭?”妈妈没有解释,只是不停地忙碌着。待一会等我的气消了,她才笑眯眯地走到我面前说:“今天我实在忙得转不过身。几块地挖完已是一点多钟了,就热了一点剩饭吃,吃过饭又挑水泼菜园,一直忙到天黑,我也才到家……”听着…     

Cu-45% Ni合金基带强立方织构的形成研究

采用X射线四环衍射技术研究了大应变量冷轧Cu-45%Ni(原子百分含量)合金基带冷轧织构的形成、低温回复以及再结晶过程中织构的演变行为。结果表明:Cu-45%Ni合金经大应变量冷轧后形成以S取向、Copper取向和Brass取向含量为主的Copper型轧制织构;在低温回复过程,仍为Copper型轧制织构,并且其轧制织构的强度有所增强;在再结晶过程,立方取向的含量迅速增加,各轧制取向含量均迅速减少,表明S取向、Copper取向和Brass取向在再结晶过程中均被逐渐长大的立方晶粒所吞并。在此基础上,采用背散射电子衍射技术表征其高温下强立方织构的形成过程,Cu-45%Ni合金基带经1 000℃保温1h后,其立方织构含量高达98.6%(10°),大角度晶界的含量仅为13.6%,其中包含约5%的Σ3晶界。     

Cu-45%Ni合金基带强立方织构的形成研究简

采用X射线四环衍射技术研究了大应变量冷轧Cu-45％Ni （原子百分含量）合金基带冷轧织构的形成、低温回复以及再结晶过程中织构的演变行为。结果表明：Cu-45％Ni合金经大应变量冷轧后形成以S取向、Copper取向和Brass取向含量为主的Copper型轧制织构;在低温回复过程,仍为Copper型轧制织构,并且其轧制织构的强度有所增强;在再结晶过程,立方取向的含量迅速增加,各轧制取向含量均迅速减少,表明S取向、Copper取向和Brass取向在再结晶过程中均被逐渐长大的立方晶粒所吞并。在此基础上,采用背散射电子衍射技术表征其高温下强立方织构的形成过程,Cu-45％Ni合金基带经1000℃保温1 h后,其立方织构含量高达98．6％（＜10°）,大角度晶界的含量仅为13．6％,其中包含约5％的Σ3晶界。     

模拟散斑尺寸对数字图像相关算法影响分析

数字散斑测试精度的影响因素相对较多、精准控制难度较大,定量分析程度不足。为了提高数字散斑测试精度,文章通过模拟散斑的方法分析观测散斑尺寸大小对计算结果的影响。结果表明：随着散斑尺寸的增加,位移计算误差呈现先降后升的趋势,即散斑尺寸过大或者过小都不利于数字图像相关的位移计算,最优散斑尺寸为5～7像素。研究结果为数字图像相关计算的观测对象设计提供了数据基准,为实际现场监测的观测目标变形信息的精度提高提供了数据基础。