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11.
一、政治课是培养学生具有良好道德品质的前哨阵地近年来常听到这样一些议论:政治课讲的是教条,学了无用;政治课平时学不学没关系,临考前请老师猜几道题,背一下就能对付等等。这些议论其实是极端错误和十分有害的。发这种议论的人,不懂政治课在中学教学中的作用,只是把政治课当成敲门砖,根本否定了政治课的地位。在中学开设政治课的意义是极为深远的,它关系到祖国下一代的精神面貌和道德风  相似文献   
12.
50.arrange 《上海学生英文报》第2版(1986年5月6日): In his third year in junior middle school, theschoolmaster,member of the Shanghai MathematicsSociety, discovered his talent in maths and arrangedhim to listen to lectures on mathematics sponsored bythe Children's Palace.  相似文献   
13.
3,4-二硒方酸的从头算研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在RHF/STO-3G,STO-4G*和STO-4G*水平上、用abinitioSCF方法优化得到3,4-二硒方酸(3,4-二硒氢基-3-环丁烯-1,2-二酮)三种平面异构体的平衡构型,发现三种平面异构体中ZZ型最稳定,ZE型次之,并与方酸和3,4-二硫方酸从头算结果作了比较在STO-4G*水平用abinitio数值方法计算了三种异构体的谐振动频率  相似文献   
14.
广义相关时延估计算法的自适应实现形式   总被引:3,自引:0,他引:3  
认为广义相关时延估计算法的缺陷是依赖对输入信号及噪声先验知识,特别是对其功率谱的了解,而在实际应用中,往往缺乏这种先验知识,只能以估计值来代替,从而影响时延估计精度,自适应滤波器一般只需要很少或根本不需要任何关于输入信号和噪声的先验知识且性能良好,若用自适应滤波器替代广义相关法中的预滤波器就可放松或免除对输入信号和附加噪声的条件限制,提高时延估计的精度,广义相关时延估计算法时域中的预滤波器就是其频域中的权函数,从理论上证明了,任何一个广义相关权函数,都能够变换成一个或几个Roth处理器的组合形式,实际上,Roth处理器就是自适应滤波器实现的,能对原始带噪信号做最优化估计的维纳滤波器,从而实现了自适应广义相关时延估计算法。  相似文献   
15.
冬季种植覆盖作物结合免耕法构成的保护性耕作法,能够提高土壤养分和抑制土壤风蚀.本文主要讨论了免耕条件下覆盖作物对微生物生态的影响,结果显示覆盖作物对微生物活性有显著的促进作用.  相似文献   
16.
Struts框架是Web应用开发中最为流行的框架之一。它很好地实现了MVC设计模式的思想,但却存在着持久层开发的问题。文中介绍了一种O/R Mapping工具Hibernate,它简化了通常的数据持久化编程任务,并给出使用Struts和Hibernate两个框架进行整合开发的实例。  相似文献   
17.
行建明 《科技资讯》2012,(31):155-155
本文以管理学中的PDCA循环管理为基础,以煤矿企业的生产为背景,分析了当前煤矿生产中的常见问题,进而探讨了在采用PDCA循环管理后的各个阶段需要处理的问题。  相似文献   
18.
生产计划最优化的数学模型与软件实现   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究大型毛纺企业的生产计划最优化问题,建立该问题的数学模型,讨论计算机的实现方法和获得满足要求的其他解的问题。  相似文献   
19.
尽管国内外的水文预报模型甚多,但是每个模型大都有一定的适用条件,对于特定的流域、下垫面以及资料系列要求较为苛刻。在实时洪水预报中必不可少的是有一套完整的实用洪水预报方案,本文按照流域产汇流的基本理论,以水量平衡为内核,制作一套实用洪水预报方案。  相似文献   
20.
本文针对三维尺寸均处于纳米量级的材料与结构中常见的界面分层破坏问题,利用聚焦离子束技术(FIB)和透射电子显微镜(TEM)开发设计了一套研究纳米材料中界面端部裂纹启裂行为的实验方法.采用FIB成功从宏观多层薄膜材料(硅/铜/氮化硅,Si/Cu/SiN)中切割制备出了由硅基体(Si)和200 nm厚铜薄膜(Cu)及1000 nm厚氮化硅层(SiN)构成的纳米悬臂梁试样.利用高精度微小材料加载装置,在TEM中对该试样进行加载实验,并原位观测了不同试样中Cu/Si界面端部裂纹启裂的行为.通过对启裂瞬时Cu/Si界面上临界应力分布的有限元分析发现,不同尺寸试样中的界面上法向应力与剪切应力均集中在距界面端部100 nm的范围内,且临界法向应力远大于剪切应力.对应力分布的进一步分析则发现,距界面端部5 nm区域内的法向应力场控制着Cu/Si界面的分层破坏过程,可用于表征界面分层破坏的局部控制准则.  相似文献   
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