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411.
郑星原 《五邑大学学报(自然科学版)》1999,13(1):85-88
概括地介绍了江门市区排污收费现状,对市区的排污收费作了预测,并对预测结果进行了分析,由此提出加强排污收费的对策。 相似文献
412.
通过反应H2^++H2→H4^+制备并存贮H4^+,存贮时间长达0.1s量级,长于以前观测到的μs量级的稳定时间,处于基态的H2^+,H2有进行上述反应,强磁场可能有助于该反应。 相似文献
413.
对扫描辐射计光机建模,采用光线倒追法找到可见杂光的入侵途径,并工程化实施了次镜罩、折镜光栏的抑制措施。在此基础上设计百叶窗,应用积分球进行比对试验,结果表明百叶窗能够消除残余的一级杂光。进一步分析多级杂光的发生机理.提出次镜人字形光栏的改进建议。 相似文献
414.
SESAME源项分析程序的应用与研究 总被引:1,自引:0,他引:1
详细分析了一套用于分析压水堆核电厂事故情况下源项释放的软件系统——SESAME系统,并针对秦山二期对SESAME系统中调用的函数、经验公式和固定常数进行了改编,希望建立适应于我国秦山二期的源项实时分析系统。 相似文献
415.
富水岩溶隧道施工时掌子面前方的安全岩柱对保障隧道的安全施工至关重要。为了计算出较为合理的隧道掌子面安全岩柱厚度,以华丽高速营盘山隧道为依托,基于塑性区贯通准则及位移突变准则,建立三维流固耦合数值模型,分别对不同埋深、溶洞内水压力及开挖方法下的掌子面安全岩柱厚度进行了研究,并给出掌子面安全岩柱厚度的区间。结果表明:隧道安全岩柱厚度随隧道埋深及掌子面前方溶洞内水压增加而增大;隧道一次开挖洞径越小,支护越及时,安全岩柱厚度越小;最小安全岩柱厚度区间随隧道埋深增加而增大,但随掌子面前方溶洞内水压增大而减小。采用CRD法开挖时,掌子面安全岩柱厚度及安全岩柱厚度区间均最小,对岩溶隧道掌子面的稳定性也最好。 相似文献
416.
基于路标的机器人自定位方法 总被引:4,自引:1,他引:3
介绍了一种基于路标的移动机器人自定位方法。为了解决仅仅利用视觉系统得到的路标信息使用蒙特卡洛自定位(MCL)算法进行机器人自定位时存在较大误差的问题,提出了一种将MCL算法与unscented卡尔曼滤波器相结合进行自定位的方法,将从机器人视觉系统获取的路标信息,从驱动轮码盘获取的位置信息,以及从电子罗盘获取的机器人方位信息进行有效融合,从而提高了机器人的自定位精度。实验结果表明,该方法不但可以提高机器人的自定位精度,而且具有较好的鲁棒性。 相似文献
417.
<正> 实验大鼠已愈来愈多用于医学实验研究,为了在国内尚无大鼠标记的放免药盒测定大鼠体内激素分泌水平的情况下,能够研究大鼠内分泌腺组织的分泌功能,我们尝试用人类放免药盒测DA大鼠血中T_3、T_4、皮质醇、胰岛素水平,并将其值与人类相应值进行比较。现将我们的实验结果报告如下: 材料和方法一、实验动物:DA近交系大鼠30只二、血清标本的采取方法: 将DA大鼠全麻眶下静脉撕脱取血约3毫升于4°C放置半小时后,2000rpm离心10分 相似文献
418.
硼(B)有两个稳定的同位素10B和11B,二者之间相对质量差较大,因此在自然界存在显著的同位素分馏,其同位素组成变化可为认识地球大气、海洋和上层地壳之间的演化过程和相互作用提供重要线索。B同位素作为灵敏的地球化学示踪剂广泛应用于化学、地质、海洋、生物和医学等研究领域,而其同位素组成的高精度测定是一切研究的基础。近年来,由于B同位素测定技术突破性改进和创新,大大提高了同位素测定的精度,因此有必要对B同位素组成测定主流方法、主要应用领域和未来挑战进行综述。测试方法主要包括:热电离质谱法(TIMS)、电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)、多接收电感耦合等离子质谱法(MC-ICP-MS)、二次离子质谱法(SIMS)和激光剥蚀多接收电感耦合等离子体质谱法(LA-ICP-MS)。其中TIMS方法测试精度最高,能够达到0.01‰,而MC-ICP-MS测试效率高,目前成为B同位素测定的主流方法。这些测试方法分别面临不同的挑战:TIMS在分析过程中容易产生同质异位素的干扰,MC-ICP-MS容易受到记忆效应的影响,而SIMS和LA-MC-ICP-MS分析过程... 相似文献
419.
为提升危化品道路运输风险评估的准确性,运用轨迹交叉事故致因理论,从危化品道路运输全路段的人员素质、运输装备、危险货物、安全管理及环境条件等方面分析事故致灾机理,构建风险量化评估指标体系,提出风险指数综合评估数学模型,完善并修正风险分级指数法的路径影响因子与安全补偿因子.通过实例分析不同路段组成的16条运输路径的风险特性和综合风险指数,获得了最佳运输路径.结果表明:改进的风险分级指数法能更加客观地反映危化品道路运输风险,为事故预防与控制提供了方法与思路. 相似文献
420.
讨论了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的方法,使用过氧化氢和氟化氢混合水溶液作为化学媒质,分别使用193nm准分子激光和266nm四倍频固体Nd︰YAG激光作为光源.实验结果显示,可以不需要任何抗蚀膜,直接在硅表面进行图案蚀刻.对于193nm波长,在H2O2/HF质量比为1.3时,得到最佳蚀刻深度.在29mJ·cm~(-2)能量密度和10000个脉冲照射下,得到210nm的蚀刻深度.在相同条件下,使用H2O2与HF混合液时的蚀刻深度大约是使用H2O与HF混合液时的4倍.对于266nm波长,在H2O2/HF 质量比为2时, 得到最佳蚀刻深度. 在12mJ·cm~(-2)能量密度和30000个脉冲照射下,得到420nm的蚀刻深度. 相似文献