Web GIS技术及其实现方法

基于网上地理信息发布系统,介绍了ＧＩＳ的新兴技术－－ＷｅｂＧＩＳ技术的概念,以及与传统ＧＩＳ技术的不同之处和它的特点,并以ＥＳＲＩ公司的产品为例,说细论述了ＷｅｂＧＩＳ技术的两种不同的实现方法。     

碘硒氟联用对小鼠肝肾脂褐素含量的影响

为研究碘、硒、氟联用对小鼠肝脏和肾脏脂褐素含量的影响,让小鼠饮用加氟、加碘和加硒的溶液10周后,采用生化方法测定其肾脏和肝脏组织内脂褐素含量的变化.结果表明,高氟能导致小鼠肝脏和肾脏内脂褐素含量显著上升(P<0.05);适当量的碘或碘硒联用可引起小鼠肝脏和肾脏脂褐素含量显著下降(P<0.05),而碘量过高则与氟产生协同毒性作用.结果提示,一定量的碘或碘硒联用可改善氟致肝脏和肾脏组织抗氧化能力的损伤.     

高层钢结构设计中几点问题的探讨

章介绍了钢结构在我国的运用和钢结构的优越性能；探讨了高层钢结构在设计方法、设计指标(高宽比限制，层间变形限值)、抗风设计(风振系数、人体舒适度等)、抗震设计、抗火设计中存在的一些问题以及迫切需要研究的方面。     

组合赋权聚类-双基点模型的井下人体热舒适评价

针对井下人体热舒适性评价不准确、评价指标少等问题,以蒋家河煤矿工作面为例,选取环境温度等13个评价指标,构建井下人体热舒适评价指标模型.采用主客观赋权的方法计算各指标权重,引入拉格朗日函数,优化决策模型,通过欧式距离建立两者联系,确定两种方法偏重系数,计算各指标的理想组合权重,构建组合赋权聚类-双基点综合评价模型,利用...     

碳纤维的丙烯酸电聚合涂层及其复合材料的界面

丙烯酸10%水溶液,于25℃下,经电引发后在碳纤维表面发生聚合反应。采用FT-IR、~(13)C-NMR、XPS、SME和元素分析等方法对所发生的电聚合反应和成为涂层的高聚物进行了表征和鉴定。结果表明:涂层/碳纤维界面粘合层中存在物理吸附和化学键合或端聚物。而涂层/基体界面层是化学键合。     

特低渗油藏考虑启动压力梯度的物理模拟及数值模拟方法

从流体在低渗透多孔介质中的渗流机理出发，通过室内基础实验和基础理论研究，以及物理模拟和数值模拟方法，运用流体边界层理论，分析了由于启动压力梯度的存在而使得低渗储层产生非达西渗流的机理和规律，建立了描述低渗油气非达西渗流模型，并对特低渗长庆油田某区块一个菱形反九点注采井网进行了实例模拟计算。结果表明，启动压力梯度的存在不但降低了低渗透、特低渗透油田的开发指标，而且还增加了开采难度。增大注入率、缩小井距可以在某种程度上降低启动压力梯度的不利影响。     

一个模糊关联规则挖掘系统的设计与实现

将模糊技术和概念分层应用到关联规则挖掘中，给出了多层次模糊关联规则挖掘系统的设计和实现的具体方案．并以Fnodmark2000数据库为基础，建立了客户信息主题数据库．建立起系统基本框架，实现了模糊关联规则挖掘算法，使用该算法成功挖掘出客户消费—特征之间的关联规则，并对得到的模糊关联规则作了分析。     

水平并联管系统中两相流流量分配的理论及实验研究

在空气－水两相流试验台上，对水平放置集箱的Ｕ型和Ｚ型并联管系统中的两相流流量分配特性进行了理论和实验研究，着重对水平并联管中两相流流量分配规律进行了理论上的分析和推导，得到了计算各支管流量的计算式，并用实验进行验证，其计算结果和实验结果符合较好，研究结果对两相流并联管束的工程设计具有重要的参考价值。     

基于非成像模型的摄像机校准方法

作为摄影测量关键部件的摄像机,其校准精确度直接影响了整个测量系统的测量不确定度．通过对常规摄像机校准技术的研究,发现基于内参数成像模型的校准方法会因为内参数综合优化的相关性干扰和非线性求解的不确定性使校准的畸变参数不稳定,且无法修正由镜头透镜组制造中的曲率变化非连续平滑等造成的非模型化畸变．结合航空摄影测量光学实验室方法与垂线法,以摄像机的成像原理为依据提出基于非成像模型的校准方法,以实现逐像元（甚至亚像素级）畸变的细化修正．实验表明,该校准方法的角度测量精度为±5″,系统不确定度为10×10-6,并可适用于所有的相机和镜头．     

基于FIB和TEM的纳米材料中界面分层破坏的实验方法研究与应用

本文针对三维尺寸均处于纳米量级的材料与结构中常见的界面分层破坏问题,利用聚焦离子束技术(FIB)和透射电子显微镜(TEM)开发设计了一套研究纳米材料中界面端部裂纹启裂行为的实验方法.采用FIB成功从宏观多层薄膜材料(硅/铜/氮化硅,Si/Cu/SiN)中切割制备出了由硅基体(Si)和200 nm厚铜薄膜(Cu)及1000 nm厚氮化硅层(SiN)构成的纳米悬臂梁试样.利用高精度微小材料加载装置,在TEM中对该试样进行加载实验,并原位观测了不同试样中Cu/Si界面端部裂纹启裂的行为.通过对启裂瞬时Cu/Si界面上临界应力分布的有限元分析发现,不同尺寸试样中的界面上法向应力与剪切应力均集中在距界面端部100 nm的范围内,且临界法向应力远大于剪切应力.对应力分布的进一步分析则发现,距界面端部5 nm区域内的法向应力场控制着Cu/Si界面的分层破坏过程,可用于表征界面分层破坏的局部控制准则.