信息技术与现代教育

伴随着信息的急剧膨胀和信息技术的飞速发展,人类社会将进入信息时代。新的时代对人才提出了新的素质要求,实质上是对传统教育提出了新的挑战。信息技术的应用,将促进教育发生一系列变化,并要求其为新时代培养新的人才。     

高效催化3-氰基吡啶腈水解酶新菌株的筛选

通过富集培养技术,从土壤中筛选出1株具有较高3-氰基吡啶催化活力的产腈水解酶新微生物。实验主要通过让微生物在以甘油为碳源、腈类化合物为氮源的培养基中生长,达到筛选的目的。当以乙腈为氮源时,从土壤中筛选出具有芳基乙腈水解酶活力的菌株8株,其中2株表现出了对3-氰基吡啶的催化活力;当以3-氰基吡啶为氮源时,从土壤中筛选出具有芳香腈水解酶活力的菌株2株,它们对3-氰基吡啶具有较专一催化活力,其中活力最高的菌株被鉴定属于红细菌属(Rhodobacter),本文首次报道该种属菌株中具有腈水解酶。     

LaNiO_3缓冲层对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜微结构和介电性能的影响

利用射频磁控溅射法,在Pt/Ti/SiO2/Si和LaNiO2/Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜.采用X-ray衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM),研究了两种衬底上BST薄膜样品的结晶性和表面形貌.结果表明:BST薄膜材料均为钙钛矿相,直接生长在硅衬底上的BST薄膜无择优取向,晶粒尺寸为20～30 nm,而LaNiO2缓冲层上生长的BST薄膜则为(100)择优取向,晶粒尺寸约为150～200 nm.室温下测试了薄膜的介电性能.研究结果表明,LNO缓冲层显著提高了BST薄膜的介电常数和介电可调率.     

离子束溅射Fe和Cu薄膜初生过程的原位研究

薄膜初生过程对薄膜的结构,界面的形成和性能有着重要的影响.真空蒸发沉积薄膜的大量研究表明:薄膜的生长方式主要有3种:层状方式(Frank-van der Merwe Mode,FMMode)、岛状生长(Volmer-Weber Mode,VW Mode)和层岛混合型(Stranski-KrastanovMode,SK Mode).基片的种类、位向、表面状况和沉积温度对薄膜的初生过程也有较大的作用.然而,作为薄膜制备的主要方法之一的离子束溅射成膜初生过程的研究尚少见报道.由于离子束溅射成膜速度快、质量优、易控制而得到广泛应用.本文应用扫描Auger能谱仪原位研究离子束溅射纯元素成膜的初生过程.利用能谱仪的超高真空环境和二次离子枪完整地重复了正常的离子束溅射铜,铁元素的成膜过程,较为直观地了解了溅射成膜的整个过程.     

马尾松梢头枯萎与厉蝽

研究引起马尾松梢头干枯的厉蝽的形态特征、危害情况、生物学特性和控制办法,以维护松林的的正常生长与观赏价值。