巨磁电阻AgCo颗粒膜的制备工艺和结构

采用磁控射频溅射法制备了AgCo颗粒膜;研究了薄膜制备工艺对薄膜结构的影响．实验结果发现,在AgCo颗粒膜中,Ag和Co的分离度很好,没有形成合金或化合物;退火和提高Co含量,可以使薄膜中Co颗粒增大;随着退火温度的升高,Ag和Co的分离度提高．     

磁性旋转编码器磁阻磁头研制

分析了磁性旋转编码器的工作原理,对磁阻磁头的工作过程作了详细分析．通过差动放大输出及选择高性能磁阻薄膜材料,设计了温度系数小、信噪比高的磁阻磁头．采用半导体工艺制备了磁性旋转编码器磁阻磁头．该磁性旋转编码器具有结构简单、紧凑,响应速度快,抗环境污染能力强和功耗低等优点,可广泛应用于伺服马达、数控机床等．     

智能磁光仪的盘温测控系统研制

介绍了磁光静态磁参数测量用盘温控制系统的软硬件。硬件部分以 80 3 1单片机为核心 ,包括数据采集、测量处理的温度控制部分 ,并利用单片机和上位机之间的双向通讯功能实现温度设定及显示 ;软件部分采用C语言和 MCS5 1汇编语言编制。控温范围为 (0～ 1 0 0 )℃ ,控温精度为± 0 .8℃。     

TbFeCo非晶磁性薄膜温度特性的平均场理论计算

本文依据实验结果,运用平均场理论,计算了TbFeCo非晶磁性薄膜随温度连续变化时的饱和磁化强度M_s,得到了居里点、补偿点及M_s(T)随改变材料成分时的变化趋势图.这些结果对于研究磁光材料的记录特性及热稳定性具有一定的参考价值.     

磁控靶溅射刻蚀的模拟研究

建立了磁控溅射单粒子模型，结合靶表面磁场的分布，用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ方法研究了溅射气体粒子的运动规律，得到靶表面刻蚀的图形，发现靶中间圆环的刻蚀最强，这与实验结果和磁场的水平分量分布一致．     

热红外低比辐射、高漫反射比表面

在金属和非金属基体上，制备出了热红外低比辐射率以及镜反射率和漫反射率都很低的高漫反射比表面。对黄铜基体，Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的法向积分比辐射率ｎ＝０．１３，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８－２５μｍ的积分镜反射率Ｒｍ＝０．１５．积分漫反射率ＲＤ＝０．１６；对Ｋ９玻璃基体Ｔ＝３７３Ｋ，≥８μｍ的ｎ＝０．１５，Ｔ＝４１３Ｋ，＝８～２５μｍ的Ｒｍ＝０．２１，ＲＤ＝０．１４．对于以Ｋ９玻璃为基体的同种表面材料镜面，在相同条件下测得ｎ＝０．１２，Ｒｍ＝０．９３．ＲＤ＝０．１２。