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本文叙述了应用极谱、循环伏安法、库仑法和交流阻抗法等方法研究尼克酰胺在二甲基甲酰胺(DMF)溶液中、在汞膜和滴汞电极上的阴极还原机理:始由单电子电化学步骤形成菏负电的自由基,后自由基迅速二聚合。借助微型计算机用曲线拟合法求得18℃下二聚合速度常数为1.0×10~6升·摩尔~(-1)秒~(-1)。交流阻抗实验结果表明:尼克酰胺在汞膜电极上的吸附行为符合朗格谬尔吸附等温线,且吸附使尼克酰胺分子活化,更易于电子传递。 相似文献
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测量了正电子在化学沉积的非晶态Ni-P合金镀层中的透射强度,借此求得正电子在该镀层中的有效质量吸收系数和注入剖面。研究了磷含量和热处理对化学沉积和电沉积的非晶态Ni-P合金结构缺陷的影响。 相似文献