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介绍了PIXE(质子激发X射线发射)分析技术分析硅晶片表面杂质元素的探测灵敏度和最低可探测限,用此分析技术,对在几个注入机上进行的注氧硅晶片的污染情况进行了测定,发现在有的注入机上注氧时带进了Cr,Mn,Fe,Cu等污染元素,结果表明,PIXE分析技术具有高灵敏、非破坏性等优点,十分适合在这一领域的研究中应用。 相似文献
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以百合花粉为材料研究顾低能N^ 注入对花粉营养细胞Ca^2 浓度和膜电位的影响,花粉细胞经100keV和10^13离子/cm^2剂量注入N^ 后,胞内明显增加,加下钙通道抑制剂后,Ca^2 浓度的增加受到部分抑制,并且这种抑制作用随着抑制剂浓度的增加而加强,利用细胞内微电极技术测定细胞膜电位的结果表明,注入N^ 后花粉细胞膜出现去极化反应,即膜值升高,加入钙通道抑制剂后,膜电位的上升幅度虽有所降低,但仍明显高于对照细胞,说明至少部分膜电位的升高是由N^ 注入首先引起的,因此推测,细胞膜电位的去极化引起细胞膜钙通道打开从而使细胞内钙浓度升高可能是低能离子注入促进花粉萌发的初始效应。 相似文献
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建立了基于半经验势的分子动力学模型,研究了不同入射能量下C60+C60和He@C60+He@C60的对心碰撞动力学性质,并比较了富勒烯内嵌He原子的存在对碰撞的影响.发现随着入射能量的不同,形成的碰撞产物的二聚体结构不同,并呈现出自组装的性质.He原子在能量较高时对碰撞产物的结构影响较大,在一定程度上能够增强富勒烯二聚体结构的稳定性。 相似文献
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PECVD沉积氮化硅薄膜在退火过程中的特性变化及在太阳电池中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
采用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD),在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN)薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN薄膜的退火特性.通过椭圆偏振光仪测量了薄膜厚度和薄膜的折射率,发现退火后薄膜的厚度下降,折射率升高;采用准稳态光电导衰减QSSPCD测少数载流子寿命,发现少子寿命有很大程度的下降.还研究了SiN薄膜对多晶硅电池性能的影响,发现它能较大幅度地提高电池效率. 相似文献
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