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231.
正科普是建设创新型国家和世界科技强国的基础支撑。习近平总书记多次强调,科技创新、科学普及是实现创新发展的两翼,要把科学普及放在与科技创新同等重要的位置。针对创新与普及不平衡、供给与需求不平衡、事业与产 相似文献
232.
本文研究了在乙酸—乙酸钠缓冲溶液中,在盐酸羟胺还原剂存在下,邻二氮菲与钌的显色反应。结果表明,配合物非常稳定,在最大吸收峰448nm处表观摩尔吸光系数为1.38×104L·mol-1·cm-1,符合比尔定律线性范围0~80μg/25ml。应用于氯碱厂阳极泥中钌的含量分析具有满意的分析结果。 相似文献
233.
234.
蜂花粉营养十分丰富,但花粉含杂菌较多,且具有苦涩味,不易为人们接受。我们通过温差灭菌,酵母菌发酵,乳酸菌发酵,以及米曲霉和酵母菌混合发酵,解决这一难题,收到良好效果。 相似文献
235.
236.
阐述了带符合十进制数原码,补码位数的扩展和压缩方法,介绍了十进制补码的加法运算和减法运算。 相似文献
237.
抛光光学玻璃等硬脆材料时常选用聚氨酯抛光垫,其微观形貌和磨损直接影响抛光精度和效率.本文对不同抛光时长下聚氨酯抛光垫微观形貌和磨损行为及其对材料去除率和表面粗糙度的影响进行了实验研究.结果表明:当主轴转速为8 000 r/min,进给速度为0.015 0 mm/s,轴向超声振幅为5μm时,材料去除率和表面粗糙度分别为0.977μm/min和153.67 nm.聚氨酯抛光垫在30 min内磨损量较小,随着抛光时长的增加,抛光垫表面孔隙逐渐被磨粒和玻璃碎屑填充,破坏抛光垫表面的疏松多孔结构,导致抛光垫表面硬化,失去弹性.同时,侵入抛光垫表面的磨粒会阻止抛光接触区域内的磨粒更新,导致抛光质量降低. 相似文献
238.
十进制计算机中机器码的研究 总被引:2,自引:2,他引:0
陈书开 《长沙水电师院学报》1998,13(4):373-377
阐述了十进制数值在计算机中的表示,提出了十进制原码,反码和补码的定义,并重点介绍了这三种机器码的表示方法和特点。 相似文献
239.
简述了三值逻辑电路的研究意义和数学基础理论,巧妙地用晶体管分立元件组建三门电路,并在EWB电子工作平台下仿真实现。 相似文献
240.
二十一世纪微电子光刻技术与设备的发展对策研究 总被引:1,自引:0,他引:1
微电子、集成电路的水平是国家地位和综合国力的重要标志。集成电路集成度的增长离不开生产和制作集成电路的光刻设备。本文重点介绍集成电路的制造技术的制作设备的最新发展状况,提出发展我国微电子光刻技术的建议。 相似文献