射频溅射超导铌膜的新方法

本文描述了射频溅射超导铌膜的一种新的工艺方法。这种工艺方法的特点是采用了红外预热基片衬底,多次充氩“冲洗”溅射室,静氩状态下溅射和红外退火等一系列工艺流程,并且获得了较满意的效果。     

超导体临界参量的电磁测量方法

本文主要描述了超导体临界参量电磁测量方法的物理依据,超导体各种临界参量测试中的电磁测量方法及参量的定义等几个问题。