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61.
CT图像的运动伪影校正   总被引:6,自引:0,他引:6  
为了消除因患者晃动造成的运动伪影及相关误差,提高CT图像的精度,提出了通过A型或U型圆柱管校正器对CT图像的扫描过程进行监测,并通过对图形的反向缩放、平移、旋转和偏移变换,对原始图像的伪影进行校正.研究表明,提出的校正器校正法能够有效地提高CT图像的可靠性和精确性,不仅能消除或减少运动伪影,还能对CT扫描过程中的其他误差及图像处理中的误差加以校正,从而为CT图像的三维重建和定制化植入体的精确制造奠定了基础.  相似文献   
62.
阐述了节水灌溉设备的关键部件微滴头的快速开发过程,介绍了根据流道的流体力学原理进行的微滴头迷宫形流道设计,面向工艺的结构CAD模型生成,利用快速成形制造技术进行样件的快速制备。实现了节水微滴头的快速开发,开发的微滴头可直接应用于灌流实验和生产实际中。 (将发表在《西安理工大学学报》2001 Vol.17 No.2)  相似文献   
63.
针对节水灌溉设备中滴管的嵌入式迷宫流道,应用快速成型制造技术进行了滴管的设计及快速模具制度,研究内容包括:应用参数化设计思想进行滴管CAD设计;以精密模具制造技术为核心进行滴管CAD工艺设计和快速模具制造(RT)工艺模型的生成;应用快速成型制造技术进行样件的制备和功能试验,完成了滴管设计的快速试验和修改;进行金属喷涂快速注塑模具的制造,实现了产品和模具设计-验证-制造的集成化。  相似文献   
64.
通过对零件图尺寸、工序尺寸、调刀尺寸之间的相互关系的分析,阐述了夹具定位误差对它们的影响,提出了新的定位误差定义。  相似文献   
65.
冷压印光刻中高分辨率抗蚀剂的研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
在集成电路的冷压印光刻中,为了获得高分辨率抗蚀剂,着重对溶剂挥发固化型、化学交联固化型和紫外光照交联固化型材料,从复形分辨率、涂铺均匀性、脱模性、流动性、物理粘度、刻蚀比率、固化速度、固化方式和固化收缩率等方面进行了分析和研究。经过对比,得出低粘度光固化树脂具有薄膜厚度容易控制且均匀(误差为O.3%)、固化速度快(小于O.2min)和固化收缩率小(3%)等特性,其对冷压印光刻工艺的匹配性明显优于溶剂挥发固化型和化学交联固化型材料。因此,最终决定采用低粘度光固化树脂作为冷压印光刻工艺中的抗蚀剂。  相似文献   
66.
光固化快速成型中零件变形机理的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
以光固化快速成形过程 的零件变形为研究对象,详细分析了收缩力产生的根源及其作用原理,根据树脂固化时必然产生的收缩及层累加的特点,提出了收缩力、面分布载菏的概念;根据零件在成型过程中结构变化的特点,提出了时变刚度的概念,基于此,建立了零件成型过程中的力学模型,揭示了成型过程中零件变形的本质问题,通过实验研究了零件的变形问题,实验结果证明了理论分析的正确性,由此提出了改进扫描工艺的分区域扫描策略,显著地减小了成型过程中零件的变形,提高了成型零件的精度。  相似文献   
67.
RP/RT技术在迷宫型滴头快速研制中的应用   总被引:4,自引:1,他引:4  
为实现迷宫型滴头的快速研制,利用快速成型制造技术(RPM)在迷宫型滴头的参数化CAD实体造型的基础上进行滴头原型件的制造,用以滴头的流量实验和参数定型,再应用快速制模(RT)技术进行滴头快速喷涂模具的制造,用以滴头的试制,使滴头可直接用于节水灌溉实际中。  相似文献   
68.
采用立体编织工艺构造人工骨仿生微结构   总被引:4,自引:0,他引:4  
为了实现人工骨植入体内的有效活化,应用立体编织法制作人工骨的微管结构.以CAD设计人工骨的微结构,用三维立体编织技术将可吸收手术缝合线编织成人工骨微结构支架的负型,为控制人工骨的微管尺寸,在缝线上涂敷Ⅰ型胶原蛋白,在编织物内充填自固化磷酸钙骨水泥(CPC),固化后形成含有微孔结构的人工骨.实验表明,缝线的降解速度高于CPC的降解速度,能够早期在人工骨内部形成相互导通的微管道结构,这不仅有利于骨生长,还可以促进人工骨的活化,同时还具有一定的力学强度,可望用于骨缺损的修复.  相似文献   
69.
基于微束等离子焊的快速成形中成形参数的优化   总被引:4,自引:0,他引:4  
介绍了一种基于微柬等离子焊的直接金属快速成形方法,采用正交试验方法对成形工艺参数对截面宽高比的影响规律进行了研究,并获得了优化的工艺参数.研究结果表明,用宽高比大的成形轨迹制作的零件质量比用宽高比小的成形轨迹制作的零件质量高,而且脉冲电流、送丝速度、占空比、扫描速度和离子气流量对宽高比有显著影响.对采用优化参数制作的零件进行了表面平整度、抗拉强度、延伸率的测试,其测试数据明显优于未经优化参数制作的零件.  相似文献   
70.
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析.通过对比几组试验参数的应力分析结果,验证了薄膜应力的大小和应力梯度的分布主要与匀胶时间和速度有关,而与加速度的关系较小.因此,当选用匀胶转速为5000r/min、时间为30s时,薄膜应力分布最优,成膜质量最佳,能够满足压印光刻工艺中300nm级图型的保真复型需求.  相似文献   
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