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采用基于密度泛函理论的超软赝势法(USPP)并选择GGA-PW91交换关联势对V掺杂、(VN)共掺杂和(VAl)共掺杂ZnO进行了几何结构优化及最稳定结构的电子结构和差分电子密度计算.V掺杂、(VN)共掺杂和(VAl)共掺杂不同程度地影响了ZnO晶格常数,V掺杂ZnO表现铁磁性,(VN)共掺杂对体系铁磁稳定性没有改善作用,而(VAl)共掺杂由于电子载流子在双交换机制中起到了媒介作用使基体的铁磁性更稳定. 相似文献
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采用嵌入原子势和分子动力学方法研究了Fe的小团簇(小于10个原子)在Fe(110)表面上的结构稳定性和扩散特性.计算结果表明体心立方结构的Fe表面,四原子和七原子团簇有较高的转变能和扩散势垒,说明这两种团簇比其他原子团簇更稳定和容易观测到.这两种团簇可能是薄膜生长过程中的临界晶核.研究了三聚体的旋转扩散和团簇扩散过程中二聚体剪切机制,发现二聚体扩散可能是Fe的小团簇在Fe(110)表面扩散的一种重要扩散方式. 相似文献
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用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法研究了Pb(111)超薄膜在GaAs(111)极性衬底表面上的生长过程中所表现的量子尺寸效应.研究了包括Ga截断和As截断的两种情况.研究结果发现薄膜体系的表面能、功函数和晶格驰豫随着Pb(111)超薄膜的厚度变化出现了强烈的双层振荡现象.和自由铅薄膜比较,其转折点的位置和周期的大小随着衬底及极性的不同有所变化,说明衬底电子遗漏可以在调控铅薄膜生长方面具有重要的作用. 相似文献
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在紧束缚模型框架下采用形式散射理论方法计算了具有闪锌矿结构的化合物半导体GaN,AlN和BN(110)反常弛豫表面的表面电子结构,讨论了表面弛豫对表面电子结构的影响,并将结果同GaAs(110)表面的表面电子结构作了比较. 相似文献
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立方相GaN/β-SiC(100)(2×1)混合界面的电子结构 总被引:1,自引:1,他引:0
讨论了含有一个混合层的GaN/ β SiC(10 0 ) (2× 1)重构界面模型 ,在此基础上提出了 (2× 1)混合界面在层轨道表象中的微扰势形式 ,计算了立方相GaN/ β SiC(10 0 )异质结中N/Si界面的电子结构和波矢分辨的层态密度 ,详细讨论了混合界面的原子结构对界面电子结构和层态密度的影响 .结果表明 :混合界面降低了表面态的对称性 ,能量简并消失并产生新的界面态 .层态密度计算结果显示 ,几乎所有界面态都局域在界面附近 ,界面上新形成的化学键使半共振态在界面的一侧高度局域 ,在另一侧为扩展态 相似文献
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利用计算机数值求解的方法,在一定的近似条件下讨论由异核双原子分子构成的理想气体在低温下的平动、转动以及振动的热容.并由此说明由能量均分定理以及经典统计力学所求出的热容结果只是在常温或者高温的范围内才成立,而在低温条件下则需要用量子统计力学才能得到合理且符合热力学第三定律的结果. 相似文献
8.
采用最近邻的紧束缚的sp^3.s模型,利用形式散射理论的格林函数方法,计算了InAs(110)弛豫表面的电子结构给出了表面投影能带和M占的层态密度,分析了产生表面态的原因和轨道特性以及弛豫引起表面态的变化,所得结论与实验和其他理论结果相符合。 相似文献
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Sb吸附在GaAs(110)(1×1)—Sb(1ML)表面上的电子态特性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用紧束缚的sp^3s模型本电子态,用散射理论的格林函数方法研究了Sb吸附在GaSAs(110)表面上的电子特性,计算结果表明:在-12eV-+2eV的能区内有9个表面态存在,对于这样的金属/半导体系统仍有带隙存在,其带隙宽度为0.4eV左右;体系的性质表现为半导体的性质,而不表现出金属的性质。 相似文献
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通过改变溶液的组成成份,用水热腐蚀技术原位制备出具有不同表面钝化状况的四类多孔硅样品.将上述样品室温下存放于空气中,其光致发光谱的时间演化特性差异很大.其中,氢钝化多孔硅的发光强度衰减最快,峰位蓝移量也最大,而铁钝化多孔硅的发光强度和峰位则几乎不发生变化.红外吸收谱实验揭示出这种差异可能来源于样品表面钝化成份的不同.此发现为一步原位制取具有稳定发光性能的多孔硅提供了新的思路. 相似文献