用高能量密度等离子体在室温下制备氮化钛薄膜

氮化钛薄膜具有很多优异的性质,如高硬度,耐磨性,耐腐蚀性以及漂亮的金黄色.它是唯一在工业上被广泛运用的镀膜材料.然而目前主要沉积氮化钛膜的技术,如化学气相沉积(CVD),物理气相沉积(PVD)和近几年发展起来的离子束技术(IBM,IBAD)都有其自身难以克服的缺点,它们限制了氮化钛薄膜沉积技术的应用范围.这些缺点是:反应温度太高,镀膜与基底结合不牢,以及沉积速率太低.     

离子束混合对纯铁腐蚀行为的影响

文章介绍了用不同剂量的氮离子束和氩离子束分别轰击纯铁镀铬样品，研究其在１ＮＨ＿２ＳＯ＿４水溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明：不同剂量的氮离子束混合样品具有相当好的耐蚀性能；低剂量的氩离子束混合样品也在一定程度上提高了纯铁的耐蚀性能，但高剂量的氩离子束混合却降低了纯铁的耐蚀性能。ｘ光衍射仪的分析，解释了实验结果。     

弯曲碳纳米管表面包覆偏硼酸锌单晶及其矫直碳管之机理

国际上首次在多壁碳纳米管表面生长了偏硼酸锌单晶包覆层. 通过SEM, TEM观察, 发现包覆后的碳纳米管-偏硼酸锌单晶复合棒直径从几十到几百纳米不等. 值得注意的是原本弯曲的碳纳米管在单晶包覆后变直了. 结合实验结果, 建立了一个二维模型, 对晶体在碳管表面成核及生长进行了解释, 并探讨了弯曲碳管被矫直的机理.     

立方氮化硼薄膜的脉冲等离子体室温生长

立方氮化硼是一种具有仅次于金刚石的高硬度、高的热传导率、低的热膨胀系数、良好的红外光学性能和化学稳定性极强的新材料.其综合性能可以和金刚石相比拟.它在金属、半导体、电子和光学材料研究方面具有良好的应用前景.     

镍纳米粉的比表面积测试研究

采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对样品的形貌、晶体结构、粒度进行性能表征.依据BET多层吸附原理,采用静态低温氮气等温吸附方法,测试镍纳米粉末在液氮温度(77K)环境下在气体饱和蒸气压力范围内对氮气的吸附量,利用图解法由吸附等温线求出单层吸附容量,由BET吸附公式计算出纳米粉末比表面积为14.23m2/g.     

直流电弧等离子体法制备镍纳米粉

运用直流电弧等离子体法制得镍纳米粉，并利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(ED)、BET吸附等测试手段对样品的化学成分、形貌、晶体结构、晶格常数、粒度及其分布、比表面积进行性能表征．结果表明：本法所制得的镍纳米粉的晶格结构与相应的块物质相同，为fcc相结构．平均粒径47nm，粒径20～70nm，比表面积14．23m^2／g，呈规则的球形链状分布，并发现纳米晶体的晶格常数发生膨胀．     

非晶金刚石纳米棒阵列制备及其场发射性能

采用磁过滤等离子体结合氧化铝模板技术制备了具有优异场发射性能的非晶金刚石纳米棒阵列膜. 显微分析表明, 阵列棒分布均匀, 棒密度达10⁹ cm^–2. 场发射性能测试表明, 其最低阈值电场为0.16 V/μm, 在2 V/μm较低电场值下可获得最大电流密度180 mA/cm², 并且发射电流在长时间内非常稳定. 利用扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(IR)和场发射测试装置等手段对样品的形貌、内部结构以及场发射性能进行表征. 初步探讨了非晶金刚石纳米棒阵列场发射机理.     

阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉末

根据阳极弧放电等离子体方法制备金属纳米粉末的基本物理原理,运用自行研制的实验装置制备得到镍纳米粉,并利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(ED)等测试手段对制得的样品的化学成分、形貌、晶体结构、粒度及其分布进行性能表征.结果表明所制得的镍纳米粉的晶格结构与相应的块物质相同,为fcc相结构.平均粒径为47nm,粒径范围在20～70nm,纯度高.