等离子增强型化学气相淀积氮化硅的淀积

等离子增强型化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）氮化硅是目前器件唯一能在合金化之后低温生长的氮化硅．本文研究了各种波积参数对薄膜性能的影响，提出了淀积优质氮化硅钝化膜的条件，对折射率随生长速率而变化给出了新的解释．     

布地奈德气雾剂治疗支气管哮喘的疗效评价

目的：评价吸入性皮质激素——布地奈德气雾剂对支气管哮喘的疗效。方法：采用随机双盲、空白对照法,对８２例哮喘患者进行为期４周吸入布地奈德气雾剂４００μｇ,每日２次的治疗观察。结果：治疗组控制咳嗽、喘息、喘鸣音的有效率分别为８０．８％,８２．１％和７８．１％,肺功能于治疗２周后即有显著变化。治疗组症状缓解,肺功能改善,其它平喘药用量的减少均明显优于对照组。结论：布地奈德气雾剂是安全而有效的支气管哮喘治疗药物。     

磁控弧光增强等离子体CVD(化学气相沉积)法制备立方氮化硼薄膜

采用一种新的自行设计的磁控弧光增强等离子体化学气相沉积法制备立方氮化硼(c-BN)薄膜.现已成功地在单晶硅上制备出了含量较高的立方氮化硼(c-BN)薄膜.制备出的薄膜用傅立叶红外(FTIR)光谱和X射线衍射(XRD)谱来表征.同时研究了各个沉积参数(基底直流负偏压、弧光等离子体放电电流、气体流量比)对立方氮化硼薄膜制备的影响.     

表面光滑的金刚石薄膜的合成

以[CH4+H2]为反应气体,利用EACVD的方法在Si(100)衬底合成了表面光滑的超薄金刚石薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、显微喇曼光谱、X射线衍射等手段对合成的金刚石薄膜的成分与结构进行了分析.实验得到了生长表面光滑、厚度均匀的超薄金刚石薄膜的最佳条件.