用质子激发X射线发射分析技术测量晶片表面的污染物

介绍了PIXE（质子激发X射线发射）分析技术分析硅晶片表面杂质元素的探测灵敏度和最低可探测限,用此分析技术,对在几个注入机上进行的注氧硅晶片的污染情况进行了测定,发现在有的注入机上注氧时带进了Cr,Mn,Fe,Cu等污染元素,结果表明,PIXE分析技术具有高灵敏、非破坏性等优点,十分适合在这一领域的研究中应用。     

水平管内液膜厚度计算及其在双参数测量中的应用

本文采用液滴交换模型计算了水平圆管内环状流液膜厚度沿管周的分布及液膜流量。根据计算结果,提出了一种新的双参数测量方案,这种方案对流动的阻力很小,具有较好的发展前景。     

矩阵正态分布的一个应用

李泽慧、乔彦友在[1]中提出了对于正态分布x=(x_1…x_n)′～N(u,Σ),X与S_n~2何时相互独立的问题,本文将此问题推广到矩阵正态分布的一般情况,并通过矩阵正态分布的性质,完全解决了此问题。     

润滑脂弹流膜厚与摩擦的研究

应用磁路法测量了润滑脂在弹流条件下的膜厚,并且同时测量了对滚田盘间在滚滑运动时的切拖力。所得结果的特征是:随著剪切时间的增加切拖力也将增大而膜厚则逐渐减小最后达到稳定值,这个值略低于基础油在相同工作参数时的膜厚。目前已有的假说还无法对此现象作出满意的解释。但是,润滑脂的流变性能(压粘系数和流变指数)看来能夠帮助人们对它的认识和理解。     

用X射线荧光方法测定薄层样品、镀层和涂层的厚度

该文提出用特征X射线的发射(表层特征谱线照射量率法)或吸收(底层特征谱线吸收法)来测定薄层或涂层的厚度。并根据大量的实验数据和理论分析,确立了正确选择工作条件及确定方法适用范围的依据。实践证明了方法的可靠性和实用性。     

分离变量法求变厚度基础板四阶偏微分方程的解析解

变厚度基础板四阶偏微分方程，在工程技术中有许多应用，本文用累次分离变量法求出了该方程的解析解。     

层厚分布分析法及其在潮滩地层堆积过程研究中的应用

重新考察地层堆积过程的随机模式——Y分布的事件沉积学原理,结合地层观测尺度的逐步提高,首次赋予Y分布中统计参数k以沉积学意义,使事件沉积学向定量化方向发展。在将其应用于长江口区现代及晚第四纪、浙江桐庐志留纪文昌组潮滩地层剖面的堆积过程研究时,发现其cm级沉积层序受不连续的风暴潮事件控制,且风暴潮沉积物占剖面总厚度的60％以上,反映了中纬度中国东部潮滩沉积特点。     

北京师范大学大气颗粒物外束PIXE分析系统

北京师范大学串列加速器实验室建立了大气颗粒物外束PIXE分析系统,并利用标准样品获得了16种大气颗粒物常见元素的外束PIXE分析系统刻度因子.对Z≥15的大多数元素,刻度因子的重复性较好,相对标准偏差在2%左右.通过降低样品与探测器Be窗之间空气层的有效厚度来削弱空气对低能X射线的吸收作用并降低空气中Ar元素的峰面积,可使标准样品中Mg的探测限由9 157ng.cm-2降至331ng.cm-2,Al的探测限由645ng.cm-2降至191ng.cm-2.大气颗粒物样品中Al及原子序数高于Al的元素外束PIXE的探测限约为内束PIXE的2～6倍.     

关于麦克斯韦速率分布律的一个应用实例

工科大学物理书中已给出了麦克斯韦速率分布律,本文先把麦氏速率分布律变成麦氏速度分布律后,再由麦氏速度分布律求出分子与器壁的碰撞次数,进而求出金属表面的镀膜质量。