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用离子束溅射方法制成了非晶态软磁薄膜,具有良好的软磁特征。本文研究了离子能量、氩气压强、沉积速率和入射角对磁膜性能的影响。 相似文献
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谢东珠 《上海师范大学学报(自然科学版)》2005,34(3):42-45
报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌.测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化,当刻蚀深度等于0.1μm时,表面粗糙度为最小(5.26nm,刻蚀前为14.88nm);刻蚀深度小于0.1μm时,表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小;当刻蚀深度大于0.1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大,其原因是刻蚀深度大于0.1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构.此外,表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减小,当离子束流为2.5nA时,表面粗糙度从刻蚀前的14.88nm减小到4.67nm. 相似文献
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用辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积方法,在304不锈钢基材上沉积聚四氟乙烯薄膜。经XPS和IRS分析,确定了聚四氟乙烯膜的存在并进行了结构分析。划痕试验表明:这种方法制成的聚四氟乙烯膜与基材之间有较好的结合力。 相似文献
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1 离子束蚀刻实验 1.1 样品制备取机械抛光的N型单晶硅片(1,1,1)作蚀刻样品,均匀涂上厚度为1μm的OMR-83光刻胶,利用集成电路制版技术,用曝光方法将光刻胶刻出宽度分别为15μm,10μm,5μm,长为2mm的长槽。 相似文献
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用Ar~+离子束溅射高纯多晶Ni靶,在Si(100)基面上沉积150nm的Ni膜。经400℃的真空退火1小时后,分别用XRD和XPS检验了两种大小不同角度上沉积试样的生成相及界面态。当沉积角≥66°时,试样退火后仅出现Ni膜择优取向晶化,无硅化物生成。而在接近0°的小角度处沉积的试样,在相同条件退火后则出现以NiSi为主的三种硅化物混合相。 相似文献
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王敬义 《华中科技大学学报(自然科学版)》1988,(Z2)
本文论述了应用离子束溅射淀积非晶硅薄膜及薄膜制成后的退火与氢化处理,讨论了薄膜光特性差异的机理和获得良好光特性的方法。文中提供了有关工艺参数、光电导和暗电导与温度的关系曲线以及光学参数。 相似文献
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使用聚焦粒子束(FIB) 在LiNbO3上刻蚀用于光子晶体的亚微米圆孔二维点阵, 研究了刻蚀束流、刻蚀时间和填充率等刻蚀参数对刻蚀结果造成的影响。为获得更好的刻蚀效果, 还采用了FIB的气体辅助刻蚀方法(gas-assisted etching , GAE) 。研究发现,与直接刻蚀结果相比,GAE 减小了反沉积效应, 得到了更好的孔形。禁带模拟计算表明, 与常规FIB 刻蚀出的锥形圆孔相比, 使用XeF2气体辅助刻蚀得到的这种侧壁更陡直的圆孔阵列构成的光子晶体禁带更趋近于理想光子晶体的禁带。 相似文献
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以微悬臂梁的制造工艺为例,探讨了MEMS中的牺牲层腐蚀技术,对牺牲层材料的制备方法和腐蚀牺牲层材料得到微悬臂梁结构等工艺中的关键与核心技术作了详细阐述,从腐蚀机理的角度探讨了腐蚀速率及其影响因素。 相似文献
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随着聚焦离子束(focusedion beam,FIB)无掩膜微细加工能力的迅速发展,结合精确定位能力,FIB已成为新型且出色的纳米制造工具.对FIB无掩膜注入单晶硅衬底的注入效果与离子束流、注入剂量的关系进行研究发现,以固定能量注入的离子,当注入剂量恒定,离子浓度随深度的分布与离子束流大小无关;当离子束流恒定,注入离子的表面浓度随注入剂量的增加而增加,但是由于FIB注入的同时会刻蚀材料表面,注入剂量达到饱和值后,会造成材料一定程度的减薄. 相似文献
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对制作大面阵微透镜阵列的氩离子束刻蚀技术进行了讨论和分析.实验结果表明,衬底材料不同时,制作表面形貌良好并具有预定参数指标要求的微透镜阵列的工艺条件有明显的差异,给出了在几种衬底材料上刻蚀制作面阵微透镜阵列的离子束刻蚀速率与离子束能量之间相互关系的实测结果. 相似文献
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阐述了利用离子束刻蚀技术制作微光学阵列元件的工艺条件.研究和实验结果表明,通过光刻热熔法制作的光致抗蚀剂掩模图形经具有不同能量的离子束刻蚀后可以有效地实现向衬底材料上所作的选择性转移,所作的理论分析结果为非球面微光学阵列元件的制作提供了一条可行的技术途径. 相似文献
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以有机玻璃薄片为原料,进行反应离子深刻蚀,探讨了有机玻璃的刻蚀反应机理,着重研究了工作气压和功率密度对刻蚀速率、图形形貌的影响.结果表明,O2反应离子刻蚀有机玻璃是以化学刻蚀为主,同时离子碰撞作用也很重要.刻蚀速率开始随气压增大而加快,刻蚀速率主要受氧活性粒子浓度控制;气压超过一定值时,刻蚀速率反而减小,气压太高不利于各向异性刻蚀.刻蚀速率随功率增加而增大,适当增大功率有利于各向异性刻蚀.通过优化刻蚀工艺,可以获得侧壁较陡直光滑的有机玻璃微结构,扩展了加工微结构的方法. 相似文献
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高频离子源物理参数对离子束性能的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
作者从静电加速器用高频离子源的结构出发,通过实验台上的调试,测试并分析了振荡器板压、气压和引出电压对离子束性能的影响.结果表明,在575 V板压、7.7×10-4Pa气压、1.6 kV引出电压和21 kV聚焦电压的状态下,可得到束流为169μA、质子比为88%的稳定离子束. 相似文献