离子束增强沉积纳米Fe—N磁性膜

利用高能量（〉１５ｋｅＶ）、脉冲氮离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）Ｆｅ－Ｎ磁性薄膜。合成了含有α－Ｆｅ、α″－Ｆｅ１６Ｎ２、γ＇－Ｆｅ４Ｎ和ε－Ｆｅ２￣３Ｎ相的纳米多晶薄膜。Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性取决于膜层的相结构及微观形貌。纳米尺度的α″－Ｆｅ１６Ｎ２和α－Ｆｅ相的混合物膜层的饱和磁性强度可达２４５ｅｍｕ／ｇ。多元ＩＢＥＤ Ｆｅ－Ｃｏ－Ｎ合金薄膜与相同制备条件下合成的Ｆｅ－Ｎ薄膜相比，其相结构相似，但饱和     

纳米α—Fe金属磁粉制备及其磁性能研究

探讨了一种新的纳米αＦｅ 金属磁粉制备方法．在乳化剂ＰＧ参与下,从铁盐溶液中沉淀析出ＦｅＣ２Ｏ４·２Ｈ２Ｏ作前驱体,经热分解、氢气还原和表面钝化处理,制备出轴比１～３（长短径比）、长径约５０ ｎｍ 的椭球或短棒状αＦｅ 金属磁粉．其主要磁性能,比饱和磁化强度σｓ 在１３７．３ Ａ·ｍ２·ｋｇ－１ ～１５７．５ Ａ·ｍ２·ｋｇ－１（ｅｍｕ·ｇ－１）之间,矫顽力Ｈｃ 在３１．８ ｋＡ·ｍ －１～４３．３ ｋＡ·ｍ －１（４００ Ｏｅ～５４４ Ｏｅ）之间．     

Fe3N和Fe2N体状化合物合成及其磁特性

纯铁粉在一定比例的氨和氢的气氛中与氮可以固气反应形成Ｆｅ３Ｎ和Ｆｅ２Ｎ体状化合物，研究了氨气和氢气的比例，温度和时间对反应产物的影响规律，进而确定了形成单一均匀的体状Ｆｅ３Ｎ和Ｆｅ２Ｎ化合物的条件，利用振动样品磁强计，磁天平和热磁分析等手段检测了Ｆｅ３Ｎ和Ｆｅ２Ｎ的磁特性Ｆｅ３Ｎ化合物饱和磁化强度（室温）为１３４Ａｍ＾２／ｋｇ居里温度为２６０℃而Ｆｅ２Ｎ化合物饱和磁化强度为２３．１Ａｍ＾２／ｋｇ属     

用MTGA法研究非晶合金的纳米晶化过程

用ＭＴＧＡ测量ＦｅＣｕＮｂＳｉＢ非晶样品的表观失重与温度关系σ－Ｔ和ｄσ／ｄＴ－Ｔ,发现非晶合金晶化过程可区分为５个不同阶段．研究经７５３～８８３℃等温退火１ｈ的样品发现,Ｔａ升高,析出的磁纳米晶体αＦｅＳｉ量增多,剩余非晶相的居里温度也升高．ＴＣ＝０．５２Ｔａ＋３６４．８,相关系数ｒ＝０．９８．用ＭＴＧＡ法测量αＦｅＳｉ或剩余非晶相的体积百分数随退火温度的变化     

Sm─FeCo─N合金薄膜的磁性与微观结构

采用离子注入方法制备Ｓｍ－ＦｅＭ－Ｎ磁性合金薄膜，研究少量Ｃｏ部分取代Ｆｅ对薄膜磁性能的影响，探索研究Ｓｍ－ＦｅＭ－Ｎ磁性材料的新途径．实验发现：Ｃｏ＋注入使样品的饱和磁化强度明显增加，Ｓｍ－ＦｅＣｏ－Ｎ薄膜的饱和磁化强度是Ｓｍ－Ｆｅ－Ｎ薄膜的１．６倍．经ＴＥＭ分析，Ｃｏ＋没有与Ｓｍ或Ｆｅ形成化合物     

电沉积Ni－Fe合金的穆斯堡尔效应

对电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的穆斯堡尔谱分析表明γ相Ｎｉ－Ｆｅ合金的同质异能移（Ｉ．Ｓ．）为－０．０６～０．０２ｍｍ／ｓ；α相的Ｉ．Ｓ为～＋０．０５ｍｍ／ｓ，与冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金的Ｉ．Ｓ．（冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金的γ相Ｉ．Ｓ为－０．１９～－０．２２ｍｍ／ｓ；α相Ｉ．Ｓ．为－０．０７～０．１０ｍｍ／ｓ）相比，向正值方向偏移，γ相平均偏移０．１８ｍｍ／ｓ，α相约０．１３ｍｍ／ｓ．电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的磁超精细场随合金中Ｆｅ含量的变化情况与冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金中的情况不完全一样。此外，还观察到电四极裂矩不等于零，表明电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金中存在电场梯度．根据镀层合有杂质Ｓ和结构缺陷的特点，讨论了上述穆斯堡尔参数的变化情况。     

水杨叉乙二胺Schiff碱（SEDA）铜配合物的单晶结构

合成标题化合物［（ｓｅｄａ）Ｃｕ］·ＥｔＯＨ,并得到单晶［ｓｅｄａ＝Ｎ,Ｎ′－二水杨叉基－１,２－二－（４－甲氧基苯基）乙二胺］．Ｘ－衍射结构分析表明,晶体属正交晶系,空间群Ｐｂｃａ,晶体学数据：ａ＝２．０１１５（４）ｎｍ,ｂ＝１．３１９６（３）ｎｍ,ｃ＝２．１０５７（４）ｎｍ,晶胞体积Ｖ＝５．５８９（３）ｎｍ３,分子量５８８．１６,Ｚ＝８,Ｄｘ＝１．３９８ｇ／ｃｍ３,μ＝８．２３９ｃｍ－１,Ｆ（０００）＝２４６５,最终偏离因子Ｒ＝０．０７９,Ｒｗ＝０．０８３,（Δ／σ）ｍａｘ＝０．６８．结构分析表明,配体中二个偶氮甲碱中氮原子和二个酚氧原子与中心Ｃｕ原子配位,形成规则的菱形平面结构．     

固-液合金化 Fe-1Mn-1Cu-C 材料

采用５０Ｍｎ－５０Ｃｕ母合金粉末作添加剂及复压－热处理工艺制取Ｆｅ－１Ｍｎ－１Ｃｕ－（０．３～０．５）Ｃ烧结低合金钢．研究了实现固－液合金化的工艺条件及材料的性能．结果表明,在１０５０℃烧结３０ｍｉｎ,或在１１００℃烧结２０ｍｉｎ,均可通过固－液合金化方式,实现Ｍｎ,Ｃｕ两合金元素快速溶入Ｆｅ基体中．经复压－热处理后试样的性能可达到：密度ρ＝７．３１～７．５４ｇ／ｃｍ３;抗拉强度σｂ＝８６４～９６８ＭＰａ;冲击韧性αＫ＝１７．７～３４．８Ｊ／ｃｍ２．     

Fe—Ni／Cu磁性多层膜中层间耦合和磁性的研究

利用振动样品磁强计和电子顺磁共振谱仪研究了Ｆｅ－Ｎｉ／Ｃｕ多层膜中的层间耦合和二维效应，以及它们对磁性的影响，对于Ｆｅ－Ｎｉ（３．０ｎｍ）／Ｃｕ多层膜，面内饱和场Ｈｓ，矫顽力Ｈｃ，剩磁比均随Ｃｕ层厚度作同步振荡变化，对于Ｆｅ－Ｎｉ（２．０ｎｍ）／Ｃｕ和Ｆｅ－Ｎｉ（３．０ｎｍ）／Ｃｕ多层膜，有效饱和磁化强度与共振线宽ΔＨ，随Ｃｕ层厚度作同步振荡变化。在它们的铁磁共振谱中，除了一致进动共振模外，还存在     

Sm—FeCo—N合金薄膜的磁性与微观结构

采用离子注入方法制备的Ｓｍ－ＦｅＭ－Ｎ磁性合金薄膜，研究少量Ｃｏ部分取代Ｆｅ对薄膜磁性能的影响，探索研究ＳｍＦｅＭ－Ｎ磁性材料的新途径，实验发现Ｃｏ＾＋注入使样品的饱和磁化强度明显增加，Ｓｍ－ＦｅＭ－Ｎ薄膜的饱和磁化强度是Ｓｍ－Ｆｅ－Ｎ薄膜的１．６倍。经ＴＥＭ分析，Ｃｏ＾＋没有与Ｓｍ或Ｆｅ形成化合物。