滴加法制备超细α—FeOOH的工艺过程研究

以制备粒度分布窄的超细α－ＦｅＯＯＨ为目标，研究了滴加法制备超细α－ＦｅＯＯＨ过程中操作对产物组成和粒度分布的影响。研究表明，为制得纯α－ＦｅＯＯＨ其搅拌转速，通气量及滴加流量相互制约而存在一临界工艺条件。     

超细α-FeOOH表面包敷剂的作用机制

研究了包敷磷酸盐和稀土氧化物对α-FeOOH分散性、γ-Fe_2O_3热稳定性和磁性能的影响规律。结果发现,包敷磷酸盐能明显提高γ-Fe_2O_3磁性能。此类包敷剂的作用效应为六偏磷酸钠>高聚磷酸钠>焦磷酸钠。La_2O_3可阻止γ-Fe_2O_3烧结和相变,该作册源于La~(3+)在γ-Fe_2O_3晶格母体的填隙和La_2O_3与γ-Fe_2O_3间的界面化学作用。     

化学气相法制备纳米级氮化铁超细粉末

采用化学气相法制备了纳米级氮化铁超细粉末，利用ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＸＰＳ和ＶＳＭ测试了粉末的基本物性，初步表征了粉末的物相、形貌、粒度、成分及相应的磁性．实验结果表明，化学气相法可以制备出均匀、链状、超细的氮化铁粉末，并且该粉末的磁性指标优于γ－Ｆｅ２Ｏ３和田中隆夫的同类研究结果．     

绝缘粘结剂对铁硅铝磁粉芯软磁性能的影响

本论文主要探讨水玻璃绝缘粘结剂与硅酮树脂绝缘粘结剂对铁硅铝磁粉芯的磁导率、损耗、品质因数的影响规律及机理,为铁硅铝磁粉芯大规模生产找出最佳的绝缘粘结剂提供理论依据。     

聚铁硅制备中聚硅酸最佳活化状态

在复合型聚铁硅絮凝剂制备中，为获得最佳活化状态的聚硅酸，通过复合共聚法制备聚铁硅絮凝剂。并采用硅铁的形态分布、聚铁硅的稳定期以及残余浊度等指标对聚硅酸制备中的硅的质量分数、活化pH值、活化时间以及酸化剂等影响因素进行优化研究，结果表明，硅的质量分数在6％～10％、活化pH值小于1．50、活化时间15～30min、酸化剂采用H2SO4时可得到具有最佳活化状态的聚硅酸，从而制得高质量分数聚铁硅絮凝剂，该絮凝剂高效稳定、易于实现工业化生产。     

球磨技术制备铁的氮化物及性能研究

实验通过球磨α－Ｆｅ和脲的混合粉末,制得α’－Ｆｅ（Ｎ）超细粉末,Ｎ原子含量为８．８ａｔ％,饱和磁化强度σ为２４２．７ｅｍｕ／ｇ。样品经１６０℃真空退火４小时,α′－Ｆｅ（Ｎ）相部分转变为α″－Ｆｅ１６Ｎ１２相,此时样品的饱和磁化强度σｓ提高到２５２．０ｅｍｕ／ｇ,样品中α″－Ｆｅ１６Ｎ２相含量约２１ｗｔ％,其σｓ为２８７．３ｅｍｕ／ｇ。热分析表明,在１５０℃－２００℃,α′－Ｆｅ（Ｎ）相转移为α     

铁酸镧超细粉末的制备

以La(NO3)3·6H2O、(NH4)2Fe(SO4)2和Fe2O3为原料,运用正交实验法确定最优实验条件,利用固-液界面法制备稀土铁酸盐超细粉末———铁酸镧.对产物进行部分物理测试,分别测定其全铁、亚铁离子含量,用扫描电子显微镜测定其形貌和粒径.结果表明,产物为均匀的圆球状纳米微粒,平均粒径76.0nm,反应中没有经过中间化合物,而是在固液界面上进行的.     

超细α-FeOOH热转变过程规律及热处理工艺 Ⅰ.空洞形成机理及脱水条件选择

采用DTA、TEM、HREM、SEAD、BET等实验手段,研究了α-FeOOH脱水相变过程中空洞形成机理,并考察了焙烧温度、气氛对γ-Fe_2O_3磁性能的影响。结果表明,γ-Fe_2O_3空洞主要由脱水过程中α-FeOOH内部OH~-脱除时产生,铁黄表面缺陷部位和α-FeOOH初级粒子凝并区域是脱水相变的“发源地”。当在450℃湿空气下焙烧时,最终获得的磁粉性能较佳。     

铜/铁钝化多孔硅纳米复合薄膜的制备与形貌研究

由水热腐蚀技术制得的铁钝化多孔硅作为基底,采用浸渍镀膜技术成功制备了铁钝化多孔硅/铜纳米复合薄膜.利用扫描电镜(SEM)、XRD等分析手段对比研究了铁钝化多孔硅在沉积前与沉积后的结构变化特点以及沉积时间对所沉积的铜薄膜的结构的影响.结果表明,在浸渍一定时间后,铜/铁钝化多孔硅纳米复合薄膜继承了新鲜制备的铁钝化多孔硅的结构特点;同时,在溶液浓度保持不变的情况下,随着反应时间的的延长,铜的沉积量逐渐增加,铜纳米颗粒的平均晶粒尺寸逐渐长大.     

高温退火对浸渍包钴超微铁颗粒表面结构的影响

浸渍包钴的超微铁颗粒，经高温退火以后，X射线衍射谱表明，其表明及内核的结构有了明显的变化，这是由于高温退火过程中钴的高游移性及磁致伸缩效应，导致钴离子向内核扩散，改变了内核及表层的晶格结构。     

YAG:Ce~(3+)的包膜及其改性

溶胶-凝胶法合成了YAG:Ce3+荧光粉,测定了合成荧光粉的激发和发射光谱,研究发现包膜对荧光粉热稳定性有影响。用氧化铝和氧化镧对荧光粉包膜,会降低荧光粉的发射强度,但可明显提高荧光粉的高温稳定性。     

无取向硅钢绝缘涂料的研究进展

对国内外无取向硅钢片用绝缘涂料的研究进展做了综述,并对我国今后硅钢片绝缘涂料的发展方向提出了建议。     

超细SiO2颗粒废料的表面改性

以通信光纤生产中产生的超细二氧化硅颗粒废料为原料,经水纯化处理后,用硅烷类偶联剂对其表面进行化学改性.傅立叶红外光谱和热重分析结果表明,改性后的超细二氧化硅颗粒表面的硅羟基吸收峰明显减小,热失重增加,表明其与硅烷类偶联剂发生了化学键合;激光光散射和扫描电字显微镜的测定结果发现,改性后的超细二氧化硅颗粒粒径减小,颗粒分散性大大提高,在电镜照片中无明显的大团聚体,表明超细二氧化硅颗粒表面键合了疏水性有机分子链,疏水性增强,达到了改性目的,为超细二氧化硅废料的回收利用提供了广阔的市场.     

掺杂对酸法铁黄制备过程的影响

研究了酸法铁黄制备过程中掺杂Ｚｎ＾２＋，Ｎ＾２＋，Ｃｄ＾２＋，Ｃｒ＾３＋，ＰＯ４＾３－等离子对晶种及铁黄形态和结构的影响，并初步探讨了杂质的作用机制。研究发现：掺杂离子改变晶种及铁黄的形态和结构，掺杂Ｚｎ＾２＋可增加晶种轴比，减少枝权和孪晶，优化铁黄形态。     

均匀纺锤形α—FeOOH微晶制备过程

在过程分析的基础上，以Ｎａ２ＣＯ３作为沉淀剂，在ＦｅＳＯ４溶液中形成Ｆｅ（ＯＨ）２－ＦｅＣＯ３沉淀，通入空气氧化制备了均匀纺锤形α－ＦｅＯＯＨ微晶。研究了碱比、通气量、温度、浓度、搅拌转速以及加料方式等对制备过程以及纺缍形铁黄形态的影响规律，并制备出粒度为０．２μｍ，轴比为３～４，均匀、无枝杈的纺锤形α－ＦｅＯＯＨ粒子。实验验证了该过程为传质控制。     

钝化硅太阳电池减反射膜的研究

从多层膜系在某一波长的反射率的计算原理和计算方法入手，采用等效分界面和权重反射率Ｒｗ的概念，给出了多层膜系优化的普适方法．具体计算了钝化太阳电池（含ＳｉＯ２钝化层）的单层减反射膜和双层减反射膜的优化设计，给出了常用减反射材料的最佳膜厚值，并得出结论：双层膜的减反射效果优于单层膜，平面双层减反射膜的权重反射率Ｒｗ小于６％，加微槽结构后降至２％以下（ＳｉＯ２钝化层厚度为２５ｎｍ）．     

硅膜特性与1060nm窄带干涉滤光片的研究

实验研究表明,硅膜在800～1100nm是一个弱吸收膜,在波长短於800nm处是个强吸收膜;利用硅膜的这一可贵特性,设计并制备了1060nm窄带干涉滤光片。     

PCVD法渗6.5%Si的动力学问题研究

提高硅铜片磁性能的最佳途径是提高钢片的硅含量。本研究采用等离子体化学气相沉积(PCVD)法，在(0．1～0．3)mm厚的普通硅钢片表面上涂硅，然后进行短时间高温扩散处理。结果表明：硅钢片的Si含量可达到6．5％，磁性能有很大改善。在(460-600)℃范围内渗硅，其它条件不变，渗硅速度随着温度的升高而降低，这是由等离子体反应的特殊动力学和热力学性质所决定。     

pH值对电致发光粉表面包覆SiO2膜的影响

采用Na2SiO3水解法,在ZnS:Cu电致发光粉表面包覆SiO2膜层,并主要分析了包SiO2膜时,pH值对包覆膜致密性的影响.发现电致发光粉在pH=9.5的Na2SiO3溶液中预分散条件下,陈化至8.5,易于形成均匀致密的SiO2膜层.因此,电致发光粉的老化性能得到一定程度的改善,延缓了它的老化.