纳米氮化硅粉体的表面改性研究

本研究采用聚乙二醇(PEG1000)作为表面改性剂对纳米氮化硅进行表面改性处理.通过测定氮化硅在丙酮中的悬浮层体积和悬浮液的透射电镜(TEM)分析来表征其分散性.用傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析、比表面积测定及透射电镜等探测纳米Si3N4粉体的表面改性效果.结果表明:PEG的添加量为Si3N4的5wt%,Si3N4的改性效果最佳.     

表面修饰MoS2纳米微粒的XPS研究

本文用Ｘ射线光电子能谱表征了ＭｏＳ２纳米微粒的结构及元素存在的化学状态。结果表明：不同合成条件和不同反应物对纳米微粒的结构和元素存在的化学状态有较大的影响。二烷基二硫代磷酸修饰于ＭｏＳ２纳米微粒的表面所形成的表面修饰层，有效地阻止了ＭｏＳ２纳米核的氧化。     

表面改性对氮化硅粉体及其涂层影响的研究

采用正硅酸乙酯水解法在氮化硅粉体表面包覆二氧化硅进行表面改性,并用改性后的粉体在石英基体表面涂层,通过IR、TG-DTA、XRD等对其结果进行了表征,结果表明氮化硅粉体在硅溶胶中达到了良好的分散,且改性后的氮化硅粉体的抗氧性提高,烧结温度降低,且制得涂层表面光滑,附着力良好,与基体结合牢固.     

纳米尺寸非晶氮化硅结构模型研究

根据晶态和非晶态氮化硅原子的相关性结构特征，构造出了正四面体Ｎ结构和平面三角形Ｓｉ结构相互嵌套的基本结构单元，模拟出了纳米量级非晶氮化硅的结构模型，其主要结构参数与实验吻合，这种模型可进一步用于非晶和纳米非晶氮化硅材料的结构和性能研究之中．     

不同电化学条件下氧化后碳纤维表面基团的XPS分析

在不同的电流密度,电解质浓度和处理时间上对粘胶基碳纤维进行电化学氧化,然后用Ｘ－射线光电子能谱分析了氧化后碳纤维的表面基团,讨论了表面基团随着这些电化学条件的变化规律。     

纳米氮化硅粉末的表面处理研究

采用溶液聚合法合成了丙烯酸丁酯-甲基丙烯酸-丙烯腈(BA-MAA-AN)三元共聚物,使用该三元共聚物作为大分子表面改性剂对纳米氮化硅进行表面处理,运用TEM、FTIR、XPS等仪器对处理后的纳米氮化硅粉末的结构及表面特性进行系统地研究.结果表明:纳米氮化硅处理后,在有机溶剂中分散性良好,大分子改性剂包覆在其表面,并与其发生了化学作用.     

FT-IR在研究蛋白质二级结构中的应用

目的 研究蛋白质的二级结构.方法 介绍蛋白质二级结构定量分析方法,综述FT-IR在蛋白质二级结构研究中的应用进展情况,并对其应用前景进行了展望.结果 FT-IR分析技术是一种高效、快速研究蛋白质结构的现代分析技术.结论 为了获得更精确的信息,须将FT-IR技术与生物样品的处理与实验设计相结合.     

基于XPS对不同密度级炼焦煤表面碳氧结构的分析

密度是煤的本征特性,碳是煤最主要的组成元素,氧是煤中最丰富的杂原子,采用XPS测试技术,基于不同密度解析煤中碳、氧两种元素赋存形态,对准确表征炼焦煤表面结构具有重要意义。以山西孝义煤为研究对象,XPS结果表明:C-C和C-O是煤中主要存在的碳氧结构,且煤样中存在较多的烷基侧链。随着密度的增大,煤中不同碳、氧官能团含量略有变化,C-C、C=O和O=C-O的相对含量减少,C-O的相对含量增加。     

纳米TiO2粉体的表面有机处理研究

筛选了最佳表面处理剂为月桂酸钠。探讨纳米TiO2表面改性机理和改性工艺条件的优化。对产品作了红外光谱(IR)和透射电镜(TEM)的测试,以比较改性前后纳米TiO2的键态和粒径是否发生了变化。     

冷等离子体对聚酯（PET）表面改性的XPS研究

采用不同工作气体的冷等离子体对聚酯（ＰＥＴ）进行表面改性,并用ＸＰＳ分析方法研究ＰＥＴ表面的组成和化学结构的变化,从而探索冷等离子体表面改性的机理和实验条件     

A Study on the Surface Structures of Viscose-based Activated Carbon Fiber by FT-IR Spectroscopy and XPS

Using viscose fiber (VF) as starting material and common steam as activating agent, formation of oxygen structures in activated carbon fiber is investigated. In the preparation of samples, VF was first heated at temperatures between 450℃ and 900℃ in N_2 artmosphere. Then, in a successive activation stage, the product carbonized at 600℃ was activated in steam at 450-900℃ for 30 min, and at 600℃ for 5-30 min. The other carbonization products were activated at 600 and 900℃ for 30 min respectively. The products activated at 900℃ were then activated at 450℃ for 30 min again. The starting materiah carbonized products and all activation products were examined by FT-IR spectroscopy and some products were examined by X-ray photoelectron spectroscope (XPS). And the yields of the carbonized and activated products were calculated. By analysing these spectra, the amount of oxygen-containing functional groups of the activated products attained under various activation time, various activation temperature and     

氮化硅薄膜的PECVD沉积工艺与绝缘耐压性能

用PECVD法制备氮化硅介质薄膜 ,分析了沉积温度、本底真空度及气体流量比等工艺参数对氮化硅薄膜绝缘耐压性能的影响 ,制备出 0 .4 μm的性能良好的氮化硅介质绝缘膜     

苯甲酸在纳米TiO2表面结合态的研究

文中通过浸渍法制备载有苯甲酸的纳米TiO₂分散体系样品,并尝试采用光电子能谱法 (XPS)对苯甲酸在纳米TiO₂ 表面键合方式进行研究,辅以红外光谱进行证明。结果表明XPS法可以很好的表征苯甲酸在TiO₂ 表面的键合方式,苯甲酸通过羧基与TiO₂ 表面形成螯合键。     

Preparation of graphitic carbon nitride by electrodeposition

A new C-N compound b-C3N4 with the mechanicalproperties similar to those of diamond was predictedthrough the ab initio calculations of Liu and Cohen[1] in1989. The high hardness, high wear resistance, low coef-ficient of friction and wide energy gap make it attractive for industrial applications. With further theoretical work,five C3N4 structures, a-C3N4, b-C3N4, cubic (c-C3N4), pseudocubic (p-C3N4 ) and graphitic (g-C3N4), were pro-posed[2]. Many efforts have been made in attempts to s…     

XPS研究多壁碳纳米管的阳极氧化处理效果

采用阳极氧化法对多壁碳纳米管（MWNTs）进行表面处理以提高其表面极性官能团含量。研究了不同电解参数对MWNTs处理结果的影响，采用X射线光电子能谱对处理前后的MWNTs的表面特征进行了分析。结果表明，经阳极氧化处理后，MWNTs表面氧原子摩尔分数与极性官能团总量均有不同程度增加。通电量和碱性电解质的电导率（物质的量浓度）是阳极氧化处理过程的主要影响因素，MWNTs表面极性官能团总量的增加可以归结为羟基的增加和羰基的减少，另外还探讨了可能的氧化反应机理。     

STM and XPS study on the self-assembled films of Schiff base on copper surface

SAMs (self-assembled monolayers) of Schiff base were prepared on the copper surface, and characterized by the modern technique of surface analysis. The results demonstrated that the well-ordered and densely packed SAMs of N-2-hydroxyphenyl-(3-methoxy-salicylidenimine), designated as V-bso, were formed on the Cu(111) surface. And two benzene rings in the V-bso molecule were not flat on the copper surface, but tilted at a certain angle. The development of this new system of self-assembly would be of significance to the application of the SAMs in the field of metal corrosion and protection.     

基于流态化技术硅粉直接氮化制备氮化硅粉

提出了一种基于流态化技术,利用硅粉直接氮化制备氮化硅粉的新工艺。在常温下,以氮气为载气,将硅粉快速流化并夹带离开供料装置,硅粉和氮气组成的气-固两相流进入到预热器中,预热后的混合物从底部进入到高温悬浮床的高温区,以稀相气力输送的方式连续穿过高温悬浮床,在高温常压下发生燃烧合成反应,最后在出口经冷却装置冷却后,由收集装置收集,得到氮化产物。借助SEM、XRD、元素分析和FTIR等方法分析了氮化产物的形貌、物相组成、化学成分以及价键结构。实验结果表明：对于平均粒径为2.7μm的硅粉,在反应温度为1653K, 反应时间为2.7min时,硅的转化率为53.4%,氮化产物为非晶氮化硅粉。通过理论预测,如果将反应温度升高至1723K,硅粉氮化7.1min后,其转化率可达99%。本文提出的方法可连续制备优质氮化硅粉,而且比现有的其他制备方法具有更高的生产效率。     

闪速燃烧合成的Fe-Si3N4中FexSi粒子的形成机理

采用SEM、EDS等手段研究了闪速燃烧合成的氮化硅铁及其原料FeSi75的组成、结构,并结合闪速燃烧合成工艺和热力学分析,揭示氮化硅铁中FexSi粒子的形成机理.结果表明:在以74μm的FeSi75氮化制备氮化硅铁过程中,金属硅和ξ(FeSi2.3)相中部分硅氮化为氮化硅,而氮化硅铁中FexSi粒子则来源于ξ相的氮化;当ξ相被氮化到其中的[Si]摩尔分数降低近25%时,[Si]的活度aSi趋于0,氮化趋于平衡,ξ相中不能被继续氮化的部分即为FexSi粒子,其Fe∶Si原子比例大约为3∶1;FexSi粒子的大小、均匀分布状况与ξ相颗粒粒径大小及分布状况有关.     

液相激光烧蚀合成TiO_2纳米颗粒及其XPS研究

采用液相激光烧蚀法制备了二氧化钛纳米颗粒,研究了二氧化钛纳米颗粒的生长与微结构．XRD、TEM、XPS等表征表明：此方法可在室温条件下一步获得金红石型二氧化钛纳米颗粒胶体,颗粒直径约50nm,尺寸分布窄,分散性好,从而显示出良好的应用前景．结合微观表征与激光诱导的瞬态等离子体分析对TiO2纳米颗粒形成机理进行了探讨．