TiAlN 保护膜的制备及结构研究

用反应磁控溅射方法制备了ＴｉＡｌＮ薄膜,结构分析表明,当Ｔｉ的含量小于０．２５时,ＴｉＡｌＮ薄膜是Ａｌ基氮化物的闪锌矿结构,但晶格常数随Ｔｉ原子含量的增加而增大．Ｘ射线光电子能谱分析表明,ＴｉＡｌＮ薄膜有与ＡｌＮ和ＴｉＮ不同的电子结构特征．     

TiAlN保护膜的制备及结构研究

用反应磁控溅射方法制备了ＴｉＡｌＮ薄膜，结构分析表明，当Ｔｉ的含量小于０．２５时，ＴｉＡｌＮ薄膜是Ａｌ基氮化物的闪锌矿结构，但晶格常数随Ｔｉ原子含量的增加而增大，Ｘ射线光电子能谱分析表明，ＴｉＡｌＮ薄膜有与ＡｌＮ和ＴｉＮ不同的电子结构特征。     

TiN/AlN纳米混合膜的微结构及力学性能

通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜．采用ＸＲＤ衍射、ＴＥＭ和显微硬度等测试方法对ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究．结果表明,ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的晶粒大小为１０～２０ｎｍ;薄膜总体表现出硬度增强效果,在ＴｉＮ∶ＡｌＮ（体积比）≈１∶１时,薄膜硬度获得极大值ＨＫ３２．２５ＧＰａ．     

Ti和AlN陶瓷的界面反应

采用电子束蒸发的方法在抛光的２００℃ＡｌＮ陶瓷衬底上淀积厚度为２００ｎｍ的Ｔｉ膜，并在高真空中退火．利用二次离子质谱（ＳＩＭＳ）、卢瑟福背散射谱（ＲＢＳ）、俄歇电子能谱（ＡＥＳ）和Ｘ射线衍射分析（ＸＲＤ）技术，研究了从２００～８５０℃温区内Ｔｉ与ＡｌＮ的固相界面反应，给出了界面组分分布随退火温度和时间的变化关系．在界面区发现了三元铝化物并观测到铝化物产生与发展过程．指出铝化物由Ｔｉ－Ａｌ二元和Ｔｉ－Ａｌ－Ｎ三元化合物组成．最后利用热力学理论对实验结果进行了解释     

TiN/AlN纳米多层膜的制备及力学性能

采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜,并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明,反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰;薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加,硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．     

用PCVD法制备抗高温氧化涂层的研究

研究了用ＰＣＶＤ法所制备的ＴｉＮ,ＴｉＡ１Ｎ及ＴｉＳｉＮ硬质支的抗高温氧化性及ＴｉＮ涂层在双氧水介质中的抗氧化性能。结果表明,ＴｉＡ１Ｎ,ＴｉＳｉＮ涂怪在空气中的抗高温氧化性可在７００℃以上,ＴｉＮ涂层可达６００℃。在双氧水介质中,ＰＶＣＤ－ＴｉＮ涂层仍具有较强的抗氧化能力,且优于ＰＶＤ－ｉＮ涂层。     

对向靶反应溅射制备AlN薄膜的结构及物性

用对向靶反应溅射制备的ＡｌＮ薄膜,高气压为取向,低气压下为取向,精确测量ＸＲＤ衍射峰位可看出ＡｌＮ薄膜有较大应力。对硬度的测量发现ＡｌＮ薄膜硬度较大,取向对硬度没有影响。     

涂覆草酸钇薄膜改善氮化铝粉耐水性及其机理

研究了表面涂覆草酸钇薄膜对氮化铝（ＡｌＮ）粉耐水性的影响。结果显示：涂膜后ＡｌＮ粉在１００℃沸水中回流４５ｍｉｎ不与水反应，温度降至７８℃时可耐水３ｈ以上；耐水时间随涂覆量增加而增加，随温度升高而下降。水分子通过薄膜的扩散过程是影响ＡｌＮ耐水性的决定因素。用Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）和红外光谱测定了表面草酸钇与ＡｌＮ界面形成的化学键。     

打捞锥失效分析及TiAlN涂层工艺与性能研究

公母锥仍是目前各油田普遍使用的一种打捞工具．对石油矿场来说,打捞或造扣一旦失败,往往导致事故套事故的恶性循环．本文讨论了石油矿场用打捞公母锥的失效形式及原因：造扣时受强烈的摩擦、挤压、剪切、瞬时高温及鱼头硬化,从而使打捞锥工作部丝扣变形,粘焊、横裂、磨损、压掐而丧失锐利性;运用物理气相沉积工艺对２７ＳｉＭｎ２ＷＶＡ钢试件沉积了ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ涂层,并进行了一系列涂层性能与应用试验;结果表明：涂镀ＴｉＡｌＮ的试件,随基体温度上升,涂层硬度与耐磨性增加,其使用性,耐用度及可靠性均有显著提高．     

双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制

采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪，通过六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）和Ｔｉ靶反应溅射制备Ｔｉ－Ｂ－Ｎ复合薄膜，并用ＡＥＳ、ＸＲＤ和ＴＥＭ等方法研究了薄膜的微结构．结果表明，室温下沉积薄膜均呈非晶态，经过４００°Ｃ热处理薄膜晶化．基片加热为４００°Ｃ沉积的薄膜则已晶化，ＴＥＭ分析确定薄膜结构为ＴｉＮ结构．显微硬度表征发现，室温沉积Ｔｉ与ｈ－ＢＮ的原子数约为２∶１时的薄膜达到最高硬度ＨＫ２６００．     

可食性甲基纤维素复合膜的制备及性能研究

以甲基纤维素(M C)作为基本的成膜物质制备M C膜,在此基础上通过添加其它物质制备出M C复合膜.用抗张强度(TS)、伸长率(E)和水蒸气透过系数(fW)等性能指标评价膜的性能,并确定各种添加物质的最佳添加量,得到性能较好的M C复合膜.     

8通道光学薄膜宽带监控装置

本文给出了一台８通道宽带薄膜监控装置的研制结果．该装置有３２个检测波长可供选择，能同时检测８个波长处的实时信号，可用于光学薄膜的宽带监控，在镀膜工艺自动化研究中取得较好的效果．     

B-Si-C-N系耐磨硬质膜的研究及应用进展

利用超硬薄膜进行材料防护是提高材料性能的一种经济、实用的途径,也是提高模具寿命的重要手段.根据B-Si-C-N系耐磨硬质膜材料的不同,综述了高温耐磨涂层的研究进展,说明了其制备方法,展望了防护涂层的发展趋势.     

Preparation of CoP films by ultrasonic electroless deposition at low initial temperature

Electroless deposition technology has been considered as a kind of common ways to obtain cobalt alloy films. However, in order to get cobalt alloy films, high temperature(353 K) is necessary during the electroless deposition process which will increase costs and energy consumption. Ultrasonic was introduced during electroless plating process to obtain cobalt alloy films at lower initial temperature. It was found that the cobalt thin films could be prepared at lower initial temperature(323 K) with the introduction of ultrasonic. Therefore, different powers of ultrasonic were applied during the electroless deposition process to prepare CoP thin films on copper substrates from an alkaline bath in this investigation. The effects of different powers of ultrasonic on deposition rate, surface morphology, anticorrosion performance and magnetic property of films were studied. It was found that the deposition rate increased gradually with the rise in ultrasonic powers due to cavitation phenomenon. All the CoP films presented the typical spherical nodular structures with the impact of ultrasonic. Smaller and regular shaped structures could be observed when the films were deposited with higher power of ultrasonic which contributed directly to enhancement of anticorrosion performance. Saturation magnetization and coercivity of thin films increased gradually with the rise in ultrasonic powers during the electroless deposition process due to the higher amounts of cobalt.& 2014 Chinese Materials Research Society. Production and hosting by Elsevier B.V. All rights reserved.     

基底温度对Ti/TiN薄膜内应力的影响研究

摘要：采用反应直流磁控溅射法,在硅基底上制备了一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）对薄膜物相进行了分析,研究了溅射沉积过程中基底温度对周期薄膜结构及内应力的影响.结果表明：多层薄膜中的Ti出现（101）面,TiN的（200）面衍射峰强度在基底温度为600℃时为最高。随着衬底温度的升高,薄膜内部的压应力逐渐减小,当基底温度在600℃时,薄膜内应力最小。     

Novel Synthesis of Ceramic Films

1 Results There is an increasing demand for producing high performance ceramic films at a reduced cost. This paper describes an innovative and cost-effective method of producing nanostructured ceramic films based on Electrostatic Spray Assisted Vapour Deposition (ESAVD). ESAVD is a variant of chemical vapour deposition process which involves spraying atomised charged precursor droplets across an electric field where the precursor undergo decomposition and heterogeneous chemical reaction near the heat...     

CVD金刚石薄膜的织构与显微组织研究

对直流电弧等离子喷射化学气相沉积法(CVD)制备的自支撑金刚石薄膜,用X射线衍射测量了薄膜织构,并用扫描电镜观察了薄膜显微组织。发现金刚石薄膜的织构为{110}、{111}、{112}和{221}等纤维织构。实验结果表明,金刚石薄膜比较致密并且晶形比较完整,不同生长因子对应不同立方体-八面体几何形状。分析和讨论了金刚石薄膜的制备工艺参数如衬底温度和甲烷浓度对其织构和显微组织产生的影响。     

La掺杂对化学沉积ZnS薄膜影响的电化学研究

采用化学沉积法在导电玻璃上制备了ZnS及其La掺杂薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌进行表征,并用CHI660B电化学综合分析测试仪对ZnS和La掺杂ZnS薄膜的沉积过程进行分析.结果表明,化学沉积法制备了致密的、由球状颗粒组成的ZnS薄膜,掺杂La后,由于电负性较低的La在电极表面的吸附,电位负移,沉积速率下降,薄膜颗粒尺寸增大.电化学方法为研究ZnS的化学沉积提供了有效的分析技术.     

无机膜的制备与性能研究进展

对研究开发较早的陶瓷膜和近年来兴起的TiO2光催化膜的制备与性能的研究进展情况作了较深入的综述,并对无机膜常用的制备方法sol-gel法和CVD法做了简单介绍.