含铜蚀刻废液的综合利用：中和沉淀后母液的处理工艺探讨

酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液混合沉淀铜后，母液中含有大量的氯化铵，少量的铜离子．用水合肼还原除去铜离子后，回收所得氯化铵溶液可直接用于蚀刻液的生产．通过对处理工艺探讨，找到了处理母液的最佳方法．     

江西省内线路板行业产生的含铜废液集中处置方法及清洁生产分析

江西省内有较多线路板企业,妥善处置其产生的废铜蚀刻液迫在眉睫,分析比较两种废铜蚀刻液回收处置工艺,即单一处理回收铜工艺和综合处理生产硫酸铜工艺。从清洁生产、循环经济角度看,综合处理生产硫酸铜工艺是一种循环经济与资源、环境、社会效益三者相结合的生产技术,降低环境风险,解决相关企业的后顾之忧。     

含铜蚀刻废液利用处置新工艺分析

含铜蚀刻废液是PCB产业的一种必然产物,对其进行回收处置能够提炼出铜盐或者金属铜,具有较高的经济价值和深远的社会意义。文章对我国当前的含铜蚀刻废液利用处置的几种新工艺进行了探讨,希望本文的研究对于我们更好的处置含铜蚀刻废液,减少其环境污染,并且创造新的经济价值能够提供一定的参考和借鉴意义。     

线路板蚀刻废液资源化处理清洁生产工艺

研究了广州市白云区南溪化工厂开发的一套对线路板蚀刻废液资源化处理零排放新工艺.该工艺利用摇床重力分选得到氧化铜,滤液加生石灰碱化加热回收氨.通过正交试验确定了最佳工艺条件,得到的氧化铜纯度为96.5%,回收率达97.1%.     

浅谈印制线路板生产中的废水处理及其在清洁生产中的应用

分析了以印制线路板在生产过程中产生的工业废水的来源及其水质特点,在此基础上,以微蚀刻废液再生回用技术和废退锡水回收技术为例,从技术上阐述了将处理这些废水的工艺应用于清洁生产,实现废水处理与清洁生产相融合的方法,及其在工业中推广的价值和意义。     

S—203强碱性阴离子交换膜试制成功

余杭县争光塑料化工厂职工苦干实干加巧干,自制了大型浸胶机,并于今年六月二十日在自己安装的全套设备上生产出了合乎质量标准的S—203强碱性阴离子交换膜,为目前我国S—203强碱性阴离子交换膜的正式生产,填补了空白。S—203强碱性阴离子交换膜,目前主要用于钢铁酸洗液的回收和处理。此废液如果不经处理,直接排放,不但浪费大量的酸,更主要的是腐蚀下水道,造成环境和水源的污染。采用 S—203扩散渗折法,对酸洗废液的处理,具有回收酸质量高,设备简单,不消耗动力,操     

含铜蚀刻废液的综合利用—硫酸铜生产工艺研究

采用酸性蚀刻液与碱性蚀刻液混合沉淀铜的方法，生产工业硫酸铜，不用蒸发浓缩，工艺简单，成本低．对影响产品质量和产率的主要因素ｐＨ，化浆用水量和浓硫酸用量进行了探讨，找到了最佳工艺条件，产品质量符合ＧＢ４３７－８０．     

微氟循环玻璃蚀刻的工艺研究

应用正交试验和单因子实验分别确定了微氟循环蚀刻液的配比及微氟循环蚀刻的最佳工艺条件.结果表明,蚀刻的最佳工艺条件为:pH=5.5,温度为48℃,时间为2.2h.并经SEM和IR实验测试,玻璃表面蚀刻均匀,蚀刻深度为5.8μm,深度均一,表面平整,无侧蚀现象.蚀刻后废液经化学处理可实现循环使用.     

轻武器蚀刻标识自动识别技术研究

轻武器蚀刻标识的自动识别是轻武器信息化智能管理的关键技术.该项技术涉及的图像处理、特征检测、目标定位和识别等.文章在借鉴国内外相关研究成果的基础上,充分利用轻武器蚀刻标识特征,以自动识别为目的进行了相关研究.     

氟油(掺氧)等离子蚀刻多晶硅、氮化硅

本文介绍了氟油(掺氧)等离子蚀刻多晶硅、氮化硅的实验装置及工艺参数;讨论了高频功率、电极形状、源瓶结构、蚀刻过程产生淀积物的处理以及系统气密性对蚀刻质量的影响.同时,从自由基理论出发,提出了氟油(掺氧)等离子蚀刻多晶硅、氮化硅的机理,并应用此机理对功率、氟油流量、氟油和氧气的比例与蚀刻速度的关系进行了理论解释.     

IB—3溅射仪的功能开发新技术

日立S—530型扫描电镜,随机配一台IB—3溅射仪,供扫描电镜样品溅射金膜之用,附有离子减薄功能。我们近年对减薄功能不断进行摸索。经过大量工作,逐步掌握了氩离子刻蚀法,先后对聚丁二酸丁二醇酯熔体结晶、聚丙烯香豆素相熔结晶,以及热致液晶共聚物等分别进行蚀刻处理后达到满意效果。下面照片是蚀刻与未蚀刻的比较。     

水玻璃旧砂湿法再生污水生物处理研究

介绍了水玻璃旧砂湿法再生强碱性污水生物处理技术的研究结果.利用硅藻依赖污水中Na＋和SiO32＋而繁殖的特性,在强碱性污水中提供适宜的条件培养经过驯化的硅藻,使快速生长的硅藻大量消耗碱性污水中的Na＋和SiO32＋,使污水的碱性显著降低.生物处理的关键技术包括：硅藻藻种的选择（选用谷皮菱形藻）;在高碱性水玻璃湿法再生污水中逐步驯化得到硅藻良种;提供适宜条件使耐碱硅藻大量繁殖以消耗污水中的Na＋和SiO32＋离子实现回收（回收效率影响因素包括环境温度和光照度、营养物的氮源类型和氮磷比等）.研究结果证明：所选用的谷皮菱形藻能将质量分数超过51.0%的Na＋和质量分数超过24.0%的SiO32＋从污水中提取出来,污水的pH值可由11.0降低到8.8.     

一种确定斑马鱼胚胎接受的α粒子辐照剂量的方法

为探究斑马鱼胚胎接受α粒子辐照剂量的计算方法,以模式生物斑马鱼为研究对象,使用能量为5.41 MeV的²⁴¹Am为α粒子辐照源对受精后5 h脱绒毛膜的胚胎进行辐照处理,以12 μm厚的聚酯迈拉膜为固体核径迹探测器,利用正交实验筛选迈拉膜化学蚀刻的最优蚀刻条件,用显微镜观测迈拉膜上的粒子径迹数量,并通过计算胚胎相关参数,计算得到5hpf斑马鱼胚胎受到的最大辐照剂量值。结果分析表明,12 μm厚的聚酯迈拉膜化学蚀刻的最佳条件是蚀刻液KOH浓度6 mol/L,温度60 ℃,蚀刻时间3 h,此时粒子径迹轮廓清晰,大小适中。辐照5 min后,斑马鱼胚胎受到的最大剂量为约8.59 mGy,剂量率为约1.7 mGy/min。     

剩余污泥在混合碱条件下发酵回收碳源和氮磷元素

在35℃和pH=10的条件下,考察剩余污泥在NaOH,Na3PO4,NaOH+Na3PO4碱性条件下水解和产酸性能,以及剩余污泥发酵液中氨氮和正磷酸盐的回收情况,并计算回收剩余污泥中碳源和氮磷元素的成本.研究结果表明:剩余污泥在这3种碱性条件下具有较为相近的水解和产酸能力.但在NaOH+Na3PO4碱性条件下,剩余污泥发酵液中的磷酸盐和氨氮的摩尔比最接近1∶1,因此最适合以磷酸铵镁沉淀的方式回收.使用NaOH+Na3PO4控制污泥的pH发酵,回收发酵液中的氨氮和正磷酸盐的效果与NaOH碱性条件下的相当,但剩余污泥中碳源和氮磷元素的回收成本在3种碱性条件下最低.因此,使用NaOH+Na3PO4控制剩余污泥pH发酵,可以优化回收剩余污泥中碳源和氮磷元素的过程.     

化学法清洗硅片过程中清除颗粒的机理(英文)

对化学法清洗硅片过程中消除颗粒的机理作了定量的探讨。颗粒的清除是由于化学蚀刻和颗粒与表面排斥力共同作用的结果。首次提出了最浅蚀刻深度和最小蚀刻速度的概念。最浅蚀刻深度可通过颗粒与表面间作用能的关系进行计算。是小蚀刻速度则可通过蚀刻侧形进行计算。研究结果对于优化化学法清洗过程和设计高性能清洗液都具有重要意义。     

亚微米孔径PET核孔膜生产工艺研究

为了得到优质的亚微米孔径PET微孔膜的生产方法,为它投入实际应用奠定基础,采用被中国原子能科学研究院HI-13串列加速器产生的32S轰击过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜,薄膜放置在空气中陈化三个月,在模拟生产条件下利用自主设计加工具有高精度温控的小型生产蚀刻装置,使用NaOH溶液对薄膜进行蚀刻处理,制备出孔径0.2至0.93μm的重离子微孔膜。研究添加表面活性剂和紫外线敏化以及蚀刻时间对孔型的影响。结果表明,紫外线敏化可以减小微孔锥角,紫外线敏化后再添加表面活性剂蚀刻可以消除孔锥角。在蚀刻出平均孔径为0.2至0.93μm核孔膜的前提下,得到了孔锥角与随着时间增加的变化趋势。     

印制电路板实训室腐蚀液及废液处理方法

本文介绍了印制电路板实训室蚀刻工序常用的几种腐蚀液，讨论了各种腐蚀液废液的处理方法，并指出了废液处理的意义。     

商标蚀刻工艺关键问题探讨

本文综述了蚀刻阴极阳极材料，蚀刻面积，溶液搅拌对不锈钢刀具产品蚀刻商标效果的影响，分析了提高蚀刻商标清晰度的因素，达到蚀刻商标清晰深刻、完整美观的良好效果。     

锰氧化物对印染废水脱色的新研究

以废旧电池中回收的锰氧化物为处理剂,分别对偶氮类染料酸性铬蓝K、碱性三苯甲烷类染料碱性品红及羟基蒽醌类染料茜素红模拟印染废水进行了研究.进行不同pH、氧化物粉末的不同投加量、反应时间及锰氧化物的后续处理的试验探讨.结果表明,初始pH是影响脱色效率的主导因素,较低的pH和适当的反应时间可提高脱色率,锰氧化物的脱色作用迅速、高效,一般在30 min内脱色能达到理想效果,经烧结处理后的锰氧化物仍对印染废水有较高的去除率及脱色率.因此废旧电池中回收的锰氧化物有望用于工业印染废水的处理.     

从碱性腐蚀液中回收锗的实验探究

用沉淀法将碱性腐蚀液中的锗进行沉淀富集回收,对锗回收的适宜的实验条件进行实验探究.讨论了沉淀剂种类及用量,实验温度,碱性腐蚀液的pH值,沉淀时间等因素对锗的回收率的影响.结果表明:在常温下,以FeCl3 为沉淀剂,碱性腐蚀液的起始pH值为6.5,沉淀时间为90 min时,锗的回收率达到了80%以上.