电沉积镍—钨非晶态合金耐蚀性研究

本文研究了电沉积法制备的镍—钨非晶态合金的耐蚀性能,通过对镍—钨晶态和非晶态镀层进行浸渍实验及阳极极化曲线测量,可知非晶态镀层比晶态镀层具有更高的耐蚀性.     

双层镍-磷化学镀研究

分别研究了酸性镍—磷镀层、碱性镍—磷镀层、酸性镍—磷—铜镀层的耐蚀性及它们对底材A3钢耐蚀性的影响。认为当镀层质量较好时，耐蚀性较强，但如果镀层存在缺陷，则易引起底材局部腐蚀；双层镀对抑制局部腐蚀有利。     

H_3PO_3体系中镍磷非晶态合金及其耐蚀性能

用恒电流沉积、腐蚀电位和极化电阻等方法研究了 H3PO3体系中 Ni-P合金的电沉积及其镀层的耐蚀性能 ,用 XRD、 XPS、 SEM检测了镀层的晶形、组成和表面形貌 ,探讨了沉积条件对镀层耐蚀性能的影响 .研究结果表明 :在 H3PO3体系中得到的 Ni-P合金镀层同样具有较强的耐蚀性 ,当镀层中磷的含量达7%时 ,晶形转为非晶态 ,镀层中含磷量越大 ,耐蚀性越好     

H3PO3体系中镍磷非晶态合金及其耐蚀性能

用恒电流沉积、腐蚀电位和极化电阻等方法研究了H3PO3体系中Ni-P合金的电沉积及其镀层的腐蚀性能,用XRD、XPS、SEM检测了镀层的晶形、组成和表面形貌,探讨了沉积条件对镀层耐蚀性能的影响。研究结果表明：在H3PO3体系中得到的Ni-P合金镀层同样具有较强的耐蚀性,当镀层中磷的含量达7％时,晶形转为非晶态,镀层中含磷量越大,耐蚀性越好。     

非晶态镍磷合金层附着强度的研究

髟金相冲击断口法研究了化学沉积非晶态镍磷合金层与基体的结合状况，并用扭转法定量测量了化学沉积合金层的附着强度参数。试验结果表明沉积层在镀态时与基体为物理结合随温度升高，附着强度增大。经处理后逐步变为化学结合，际着强度可达６００ＭＮ／ｍ＾２。     

磷含量对化学镀镍－磷合金性能的影响

本文采用酸性化学镀镍－磷合金镀液，通过改变还原剂浓度，制备一系列不同磷含量Ｎｉ—Ｐ合金镀层，研究磷含量对镀层性能的影响。表明镀层耐蚀性、硬度等性能与磷含量有直接关系。     

镍-磷/金纳米粒子复合化学镀层的研究

在化学镀镍磷溶液中添加金纳米粒子,在基体钢铁上沉积得到镍-磷/金纳米粒子复合镀层. 金纳米粒子在镀液中的浓度为1.0?μmol•L-1. 用扫描电子显微镜,能谱仪,示差扫描热量分析仪,X 射线衍射仪,显微硬度计等仪器对镀层性能进行了分析. 通过EDS分析表明,Ni P镀层中P的质量分数为9.72%,而Ni P/Au镀层中P质量分数为9.29%,金的质量分数为0.93%. 与镍-磷合金镀层相比,纳米复合镀层具有较高的硬度,并且镀层组织致密,孔隙率小,对基体具有更好的保护作用.     

化学镀Fe-Mo-B和Fe-W-B合金的耐蚀性能

系统地研究了化学镀Ｆｅ－Ｍｏ－Ｂ和Ｆｅ－Ｗ－Ｂ合金镀层的耐腐蚀特性。结果表明该合金镀层的耐蚀能力很强，腐蚀率很低。非晶态Ｆｅ－Ｍｏ－Ｂ合金的耐蚀能力优于晶态Ｆｅ－Ｗ－Ｂ合金     

化学镀Ni—Cu—P合金的研究

研究了化学镀Ｎｉ－Ｃｕ－Ｐ合金的工艺，对镀液的稳定性和镀层的性能进行分析研究，获得含Ｎｉ８３．３１％、Ｃｕ４．０８％、Ｐ８．５９％均匀无针孔的的镀层；镀层的结合力、耐蚀性良好；经热处理后镀层的硬镀达到９９３．４ＨＶ。     

机械合金化强度对Fe—Ni—P—B系合金非晶形成的影响

本文用机械合金化法研究制备Fe-Ni-P-B系非晶材料,用X射线衍射仪和透射电子显微镜对经不同球磨工艺处理的Fe40Ni40P14B6及Fe61.6Ni15.4Cu1Nb2P14B6两种成分的粉末进行了分析,得出结论：成分为Fe61.6Ni15.4Cu1Nb2P14B6的粉末,在一定的球磨强度下,可通过机械合金化获得非晶。     

NiP2,Ni2P2,Ni 3P2,Ni4P2团簇的量子化学研究

根据化学键理论和非晶态结构的短程有序,设计了晶态团簇NNiP2,Ni2P2,Ni 3P2,Ni4P2的四种构型,并用DFT方法对他们的几何结构型进行高水平的量子化学计算.结果表明,模型体系中P原子供给Ni原子电子这与非晶态合金Ni81.5,5p18.5的实验结构一致,说明NiP2,Ni2P2,Ni 3P2,Ni4P2原子簇模型能反映非晶态Nig1.5 P18.5的结构特点.     

化学镀Ni—P机理研究

采用电化学方法和仪器分析,对化学镀Ｎｉ－Ｐ机理进行了探讨,提出在化学镀Ｎｉ－Ｐ过程中,Ｎｉ的沉积服从电化学机理,它的沉积速度可通过浊合电位理论,用沉积电流密度ｉ乘以Ｎｉ的电化当量求得;而Ｐ的沉积则是在Ｎｉ的催化作用下的化学过程。     

电镀非晶铬的研究

研究了多种镀液在不同工艺参数条件下电镀铬层的结构特性。文献上应用X射线衍射方法研究镀铬层的结构特性时,其 2θ(Cu·Ka)角仅测到85°为止,但在本研究中,将2θ(Cu·Ka)的测定扩大到145°,并且在135°附近发现了新的非晶结构。结果表明,在一定条件下可以得到非晶镀层,并获得了形成非晶镀层的工艺条件。文章还讨论了非晶镀层的形成原因及其耐蚀性。     

非晶态Ni-P合金镀液和镀层的稳定性

通过对电沉积非晶态ＮｉＰ合金镀液组成和镀层性能的稳定性进行研究,了解到对镀层质量影响最大的因素是镀液的ｐＨ值,其次是［Ｈ３ＰＯ３］;找出了稳定镀液组成和镀层质量的有效措施,即采用一定面积比例的ＤＳＡ和Ｎｉ混合阳极,调整好镀液的ｐＨ值,适当加入稳定剂和降低镀液的［Ｃｌ－］,定时定量地添加Ｈ３ＰＯ３．     

负载型非晶态合金催化剂（Ni—B／SiO2）与己二腈气固相常压加氢的研究

采用化学还原法合成了负载型Ｎｉ－Ｂ非晶态合金催化剂及其对应的晶态Ｎｉ系催化剂。用电感耦合等离子光谱（ＩＣＰ）、Ｘ－射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）、比表面测定（ＢＥＴ）及氢吸附法对催化剂进行了表征。活性测试结果表明：负载型非晶态合金催化剂（Ｎｉ－Ｂ／ＳｉＯ２）对己二腈气固相常压加氢反应具有很高的活性和选择性,工业应用前景乐观。     

Ni82B18和Ni64B36非晶态合金电子性质DFT研究

根据Ni82B18和Ni64B36非晶态合金的原子簇构成、结构的短程有序、Ni和B之间是较强的化学作用和结构中存在B-B直接相连的实验事实,选择了Ni4B2,Ni4B3和Ni6B2原子簇模型,用DFT方法对其进行高水平的量子化学计算.结果表明,模型体系中B原子供给Ni原子电子,与Ni82B18和Ni64B36非晶态合金的实验结果一致,说明Ni4B2,Ni4B3和Ni6B2原子簇模型能够反映Ni82B18和Ni64B36非晶态合金的结构特点.     

非晶SmDyFeCo薄膜的制备和磁光记录特性

研究了制备非晶ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜的方法和它的磁光记录畴大小随记录激光功率Ｐ及记录偏磁场Ｈｂ的变化趋势，并与非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜的磁光性能比较，得到了重要的结论：在非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜中加一定量的轻稀土元素Ｓｍ组成四元非晶合金薄膜能使它的磁光记录畴直径减小，它可能成为未来高记录密度的新型磁光材料     

掺氢非晶硅薄膜材料光稳定性的研究

用射频辉光放电法制备了a Si:H样品 ,并对样品进行了光照测试 实验表明 ,样品经过光照后 ,光电流和暗电流逐渐减小 ,在光照初期 ,这种变化很大 ,随着光照时间增加 ,光诱导效应渐趋饱和 ,这种现象是由于强光照产生亚稳缺陷态所引起 讨论了在非晶硅氢薄膜中亚稳光诱导变化的机理 ,并解释了S W效应形成的微观过程     

电沉积（Ni一W）一SiC复合镀层结构与性能的研究

本文报道了制备（Ｎｉ－Ｗ）一ＳｉＣ复合镀层的电沉积工艺。研究了ＳｉＣ固体微粒对于基质合金结构的影响，测试了复合镀层的硬度及耐磨性。结果表明，ＳｉＣ微粒对于Ｎｉ一Ｗ合金有较强的晶化作用；ＳｉＣ微粒的复合，明显增加了Ｎｉ一Ｗ合金的硬度和耐磨性。