超重机的操作参数对纳米氧化锌粒径的影响

用超重机来研究转速、硝酸锌的浓度、气液比等操作参数对氧化锌粒径的影响。确定制备纳米氧化锌的工艺条件。利用超重力气液反应技术可以制备粒径为20-80nm的氧化锌粒子,此项研究了纳米氧化锌工业化生产奠定了基础。     

TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究

采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和纳米压痕仪等设备,研究了薄膜制备工艺参数(如基体温度、溅射功率、基体负偏压等)对薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等的影响。结果表明:TiN薄膜为多晶态,其溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂。     

掺铝氧化锌薄膜的光电性能

采用直流磁控溅射技术,以氧化锌铝陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上制备掺铝氧化锌薄膜,研究不同工艺参数对薄膜组织结构、光学性质和电学性质的影响。从薄膜的结构、载流子浓度和迁移率等方面分析掺铝氧化锌薄膜的透射率和电阻率的变化机理。研究结果表明:掺铝氧化锌薄膜具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长,衬底温度和氧分压对薄膜的电阻率和透射率具有很大影响。在衬底温度为200℃、氧气与氩气的分压比为1%时,薄膜具有最优电阻率和平均透射率,分别达到1.13×10-3Ω.cm和86.5%。     

蒸发诱导纳米粒子自组装薄膜制备工艺

为了获得高质量的单层纳米粒子薄膜,本文提出一种移动盖板约束下的蒸发诱导纳米粒子自组装工艺方法,研究了纳米粒子悬浮液浓度、基材温度、间隙高度和盖板速度等工艺要素对二氧化硅纳米粒子薄膜结构成形形貌的影响规律。结果表明,在适当的悬浮液浓度、基材温度和盖板移动速度等条件下,可以获得高质量的致密单层二氧化硅纳米粒子薄膜,典型的优化工艺参数为：纳米粒子悬浮液浓度5 g L-1,间隙高度1 mm,盖板移动速率110 μm s-1,以及温度30 ℃。     

棒状纳米氧化锌的控制制备及其对苯酚的降解

通过水热方法控制制备了棒状纳米氧化锌光催化剂，采用X射线衍射（XRD）、电子透射电镜(TEM)、BET比表面积测试、激光粒度分布等测试手段对产物结构和形貌进行了表征。以苯酚废水为目标降解物，研究并比较棒状纳米氧化锌光催化剂对苯酚的光降解性能。结果表明，通过调控制备条件，可以得到一系列不同尺寸、不同长径比的棒状纳米氧化锌光催化剂，该工艺简单，易于放大，其光催化活性随比表面积变大而提高。光催化反应120 min 时，棒状纳米氧化锌光催化剂对苯酚的降解率均可达到80%以上，优于目前应用最广泛的光催化剂Degussa P25。     

制备条件对镓掺杂氧化锌薄膜的透明导电性影响

用高温固相反应法制备了镓掺杂的氧化锌导电陶瓷,研究了预烧温度、烧结温度和掺杂浓度等工艺条件;用射频磁控溅射方法分别在玻璃和石英基底上沉积了镓掺杂的氧化锌薄膜,研究了该薄膜在不同的基底温度和不同的氧氩比等条件下的光电性质的变化情况以及氮气氛下不同退火温度下的光电性质,结果表明:镓掺杂氧化锌薄膜在450℃的基底温度、2%的掺杂浓度和700℃的退火温度等条件下实现了0.84×10-4Ω.cm的低电阻率和大于90%的可见光透过率,其光学带隙随退火温度的上升也有一定程度的增大.     

氨-铵共沉淀法制备纳米氧化锌

研究了以氨水和碳酸铵的混合液为沉淀剂,聚乙二醇400(PEG400)、十二烷基苯磺酸钠(DBSA)为表面处理剂,用直接沉淀法制备纳米氧化锌的工艺条件,并用精工SPA400扫描探针显微镜分析了产品的显微结构。实验结果表明该方法制备的纳米氧化锌纯度高,平均粒径小,达到纳米氧化锌国家标准(GB/T 19589)的三级要求。     

适于MEMS器件的低应力Ni-W纳米晶薄膜的制备

以高强度、高耐腐蚀性Ni-W合金为研究对象,探讨了柠檬酸胺-HEDP体系中,各种电沉积工艺参数以及热处理条件对Ni-W合金薄膜应力的影响规律及其在微喷嘴模具上的应用.研究结果表明,在优化的工艺条件下,可获得应力为230 MPa、硬度高达988 HV、无裂纹的纳米晶Ni-W薄膜材料,为其在MEMS微器件、微模具制备上的应用提供了有效途径.     

化学浴沉积法制备纳米氧化亚铜薄膜

用改进后的化学浴沉积法制备了纳米Cu2O薄膜,并对成膜条件及膜的性能进行了研究．结果表明：化学浴沉积法改进后有利于制备高质量的纳米Cu2O薄膜;最佳反应温度为60～70C,此温度范围内Cu2O薄膜的膜厚随着循环次数线性增加．制备的薄膜纯度较高．表面较平整和致密,Cu2O粒径为14～22nm,其禁带宽度为2．01eV．     

试分析纳米氧化锌的制备及其光催化性能

纳米氧化锌是一种面向21世纪的半导体材料,在陶瓷、化工医药、生物等领域得到了广泛的使用。近年来,纳米氧化锌不断得到重视,对于纳米氧化锌的研究也逐渐增多,并且在试验中制备了不同结构的氧化锌材料,并研究了纳米氧化锌的性能。纳米氧化锌的重要作用使得对于纳米氧化锌的研究具有了非常重要的现实意义。本文将主要分析纳米氧化锌的特性、性质、应用和制备办法,以及它的光催化性能。     

退火温度对溅射氧化锌薄膜的影响

利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米氧化锌(ZnO)薄膜,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了退火热处理温度对ZnO薄膜形貌、结构和内应力的影响规律.结果表明:热处理可以明显改善薄膜的结晶质量,薄膜的晶粒变得致密,尺寸也变得均匀;(002)衍射面的晶面间距和内应力均低于未经热处理的样品;当温度高于450℃以后,薄膜的致密度反而下降,部分晶粒异常长大,随着退火温度的逐渐升高,ZnO薄膜(002)衍射面的晶面间距和内应力先减小,到450℃达到最小值,后又逐渐增大,可见450℃热处理后,薄膜的表面形貌、结构和内应力均得到很大的改善.     

聚乳酸纳米复合膜中纳米ZnO的迁移研究

研究了浸泡迁移实验对负载5%的石墨烯?氧化锌?左旋聚乳酸/左旋聚乳酸复合薄膜材料中纳米氧化锌迁移量的影响，主要探究了在不同食品模拟液（酸性、油性和水性）、温度（30°、45 ℃和60 ℃）和浸泡时间（3、5、7 d和10 d）3种条件对薄膜迁移含量、膜的表观结构和水汽透过率的影响. 结果表明:在3种环境中均检测到不同程度的纳米氧化锌粒子迁移. 其中，纳米氧化锌的迁移规律如下:油性环境>酸性环境>水性环境，且随着温度和时间的延长，迁移量增加，导致纤维膜表面粗糙，水气透过率增加.     

纳米氧化锌/AC复合发泡剂在PVC糊和PP发泡中的应用研究

在AC发泡剂中添加纳米氧化锌，研究了纳米氧化锌对AC发泡剂分解的促进作用及在PVC糊和PP发泡中的应用．结果表明，在AC发泡剂中添加纳米氧化锌的样品，其初始分解温度明显低于未添加纳米氧化锌的AC发泡剂．添加纳米氧化锌的AC发泡剂，其分解速度明显高于未添加纳米氧化锌和洛加微米氧化锌的样品、在PVC糊和PP发泡中，添加纳米氧化锌的样品，发泡倍率明显高于未添加纳米氧化锌和添加微米氧化锌的样品．     

溅射法制备梯度薄膜研究进展

梯度薄膜是一种涂覆型梯度材料,具有均质薄膜无法比拟的优越性。溅射法效率较高且环保,较广泛地应用于梯度薄膜的制备。对于反应溅射,可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。对于非反应溅射,可通过溅射一系列不同成分比的靶材制得梯度薄膜,但成本较高,且梯度层有限。而通过连续改变溅射参数来制备梯度薄膜是较常用的方法。     

柠檬酸渣可降解地膜的制备及其农用特性的研究

为解决聚乙烯类农用地膜的大量使用引起的一系列环境问题,并且充分利用发酵工业中产生的有机生物质废弃物,以柠檬酸发酵菌渣为原料,制备了生物可降解农用地膜。针对预处理条件进行了温度、时间和碱浓度的优化,使其具备农用标准。研究结果表明：生物可降解膜较裸地的对照组地温可提升5~7℃,保墒性能与传统市售地膜相当;与裸地的对照组相比,覆盖有柠檬酸渣膜的土壤棉花产量可提高5.5%。这说明柠檬酸渣是优良的生物可降解地膜原料。     

PET基纳米ZnO膜的溅射沉积及AFM表征

在纺织材料表面进行ZnO镀层处理,能赋予聚合物纤维表面以特殊的光电功能.利用磁控溅射法在PET非织造布表面制备出颗粒均匀、细致、稳定的纳米ZnO薄膜.利用原子力显微镜(AFM)对不同参数下制备的ZnO薄膜表面形貌进行表征,分析了不同溅射加工条件对ZnO薄膜表面形态的影响.     

CeO_2涂层薄膜的制备

采用化学溶液沉积（CSD）法,在Ni基带上制备高性能CeO2涂层。研究了前驱液性质、前驱膜的热处理问题,通过溶液干凝胶粉末的热分解过程,用XRD分析了薄膜物相,并用红外分析来验证,确定了前驱膜的烧结温度范围。用视频光学接触角量仪验证了溶液和基底具有良好的浸润性。     

颗粒粒径和形貌对纳米ZnO光吸收性能的影响

用沉淀法制备了纳米ZnO,通过控制反应条件得到了几种不同形貌和不同粒径分布范围的纳米级ZnO粉体,用AFM和XRD方法对纳米ZnO样品进行了表征,采用共混法将不同形貌和不同粒径的纳米ZnO粉体制成涂层,利用光透射实验装置测试了各种涂层的光吸收性能。结果表明:纳米ZnO随着粒径的减小,光吸收能力相应地变强;颗粒形貌对光吸收性能有较大影响,片状纳米ZnO比球形纳米ZnO光吸收性能要好。     

镁合金表面制备硅掺杂类金刚石膜的性能研究

将无铬化学转化新工艺与射频等离子化学气相沉积（PECVD）技术相结合,先在镁合金表面生成一层多孔结构、附着力高的化学转化膜作为过渡层,再采用PECVD技术低温沉积一层硅掺杂类金刚石（Si-DLC）薄膜复合涂层。扫描电子显微镜和拉曼光谱图分析证实,获得的薄膜由sp2和sp3键杂化的碳硅氢化合物呈层状堆积而成,薄膜均匀、平整致密;制备的薄膜为典型的类金刚石结构。原子力显微镜直观地观察到,掺杂硅的类金刚石薄膜比未掺杂的平整致密。当硅含量达到20%时,得到的DLC薄膜最为平整致密,无铬化学转化膜层均被含硅的DLC薄膜覆盖。性能测试实验表明,将化学转化膜作为中间过渡层并采用PECVD沉积含硅的DLC薄膜明显提高了镁合金基体与其的结合强度,同时也大幅度提高了镁合金的耐磨、耐高温和耐蚀性。     

Preparation of CoP films by ultrasonic electroless deposition at low initial temperature

Electroless deposition technology has been considered as a kind of common ways to obtain cobalt alloy films. However, in order to get cobalt alloy films, high temperature(353 K) is necessary during the electroless deposition process which will increase costs and energy consumption. Ultrasonic was introduced during electroless plating process to obtain cobalt alloy films at lower initial temperature. It was found that the cobalt thin films could be prepared at lower initial temperature(323 K) with the introduction of ultrasonic. Therefore, different powers of ultrasonic were applied during the electroless deposition process to prepare CoP thin films on copper substrates from an alkaline bath in this investigation. The effects of different powers of ultrasonic on deposition rate, surface morphology, anticorrosion performance and magnetic property of films were studied. It was found that the deposition rate increased gradually with the rise in ultrasonic powers due to cavitation phenomenon. All the CoP films presented the typical spherical nodular structures with the impact of ultrasonic. Smaller and regular shaped structures could be observed when the films were deposited with higher power of ultrasonic which contributed directly to enhancement of anticorrosion performance. Saturation magnetization and coercivity of thin films increased gradually with the rise in ultrasonic powers during the electroless deposition process due to the higher amounts of cobalt.& 2014 Chinese Materials Research Society. Production and hosting by Elsevier B.V. All rights reserved.