稀土添加剂对电沉积磷酸钙涂层的影响

采用电化学沉积的方法在钛合金(Ti-6Al-4V)表面制备生物涂层.通过加入添加剂稀土硝酸镧和氧化钇制备了两种磷酸钙盐/稀土复合涂层.试验研究了稀土对涂层的微观形貌及涂层厚度的影响.结果表明:稀土的加入使涂层变得更为均匀致密.与单一涂层相比,稀土盐的添加有效的提高了涂层的厚度.XRD分析表明,稀土的加入并没有影响磷酸钙的生成.     

电沉积生物活性陶瓷涂层技术

介绍了用电沉积技术 (包括电泳沉积 EPD和电化学沉积 ECD)在 Ti或 Ti合金基体上制备生物活性陶瓷涂层 HA的技术 ,评述了该技术的研究现状及发展趋势 .     

电沉积有机树脂绝缘涂层的研究

采用阳离子树脂电沉积涂层，并进行涂层与基体结合力及电绝缘性能测试，得到了性能良好的电绝缘树脂涂层。     

金属镍基体表面熔盐电沉积制备石墨涂层

在Li F-Li2CO3熔盐体系中电化学还原碳酸根离子,在镍阴极表面得到石墨涂层.通过循环伏安法研究了碳酸根离子的电化学行为,结合扫描电镜研究了温度和沉积电位对涂层表面形貌的影响,并对涂层性能进行了测试.结果表明:碳酸根电化学还原为碳的反应是一个不可逆过程;在690℃,-1.5 V电沉积时阴极表面形成了呈锯齿状结合的渗碳层.在-1.1 V电沉积时涂层表面形貌呈球形颗粒状,-1.5 V电沉积时涂层呈晶须状.石墨涂层使金属镍在3.5%的氯化钠溶液中的自腐蚀电位增加了739 m V.     

乙醇对电沉积磷酸钙盐涂层的影响

采用电化学方法于常温下进行钛金属基底上磷酸钙盐的沉积,通过添加一定量的乙醇于电沉积溶液中,在一定程度上解决了电沉积过程中析氢反应对磷酸钙盐沉积的影响．同时,考察了恒电位沉积时间对磷酸钙盐涂层质量的影响。在一定温度下于碱液中处理后获得的羟基磷灰石(HA)涂层的形貌和结构分别用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射仪进行了表征;用粘结拉伸法测量了涂层的界面结合强度达7．18Mpa,并在模拟生物体液中考察了生物活性以及电化学腐蚀性能。     

沉积位置对化学气相沉积SiC涂层微观组织的影响

利用化学气相沉积法在C／C复合材料表面制备了SiC涂层，并借助扫描电子显微镜和X射线衍射等手段对不同位置沉积产物的微观形貌、相组成以及厚度进行了测试，推导出了沉积位置与反应气源过饱和度的定性关系，分析了反应气源过饱和度对SiC涂层形貌、晶粒尺寸以及涂层厚度的影响．研究结果表明：沿着沉积炉内气体流动的方向，反应气源的过饱和度逐渐降低，沉积所得pSiC涂层形貌由颗粒状向须状转变，晶粒尺寸与涂层厚度逐渐减小。     

低Ca/P比溶液电沉积羟基磷灰石涂层

电沉积羟基磷灰石涂层具有工艺简单、过程易控制、适于在复杂表面制备厚度均匀涂层的特点 .沉积液Ca/P比 （原子数分数 ）直接影响涂层中的物相组成与涂层形貌 .作者采用电沉积与后续热处理相结合的工艺 ,用低Ca/P比溶液在金属钛表面沉积羟基磷灰石 （HA）涂层 .利用X射线衍射、透射电镜和扫描电镜分析了涂层中物相组成及后续热处理对涂层中物相和涂层形貌的影响 .实验结果表明 :电压与电解液温度等工艺参数影响涂层中羟基磷灰石的含量以及沉积过程中晶体长大和形核方式 .随电压与温度的升高 ,涂层中羟基磷灰石含量增加 .在低温、高压下 ,电沉积过程以晶体长大为主 ,涂层薄而致密 ;在高温、低压下 ,电沉积过程以晶体形核为主 ,涂层厚而疏松 .经5 0 0℃空气中热处理后 ,涂层基本转化为羟基磷灰石 ,其Ca/P比约为 1.61.电沉积涂层由片状和条状物质组成 ;热处理后 ,形貌基本未改变 ,但颗粒因失水发生团聚 .通过精确控制电压与电解液温度等参数 ,能获取内层致密外层疏松的理想梯度结构HA涂层材料 ,满足对生物植入体的多种要求     

钛／羟基磷灰石涂层的电沉积过程及其结构特征

采用电沉积方法在钛金属基底上形成磷酸钙盐涂层,涂层经低温碱液处理获取羟基磷灰石涂层。研究了电流密度、主盐浓度、电解液温度、沉积电量、低温碱液处理对涂层表面形貌的影响,并用SEM、ZRD和IR对涂层的组成和结构进行分析。结果表明：电沉积磷酸钙盐涂层经低温碱液处理后得到纯的羟基磷灰石涂层,羟基磷灰石晶体呈针状结构;随电流密度、主盐浓度的增加,晶粒变粗,随电解液温度的升高,晶体发生变化,出现鳞片状结构;涂层质量随沉积电量的增加而增长。     

沉积电压对辅助加热PCVD—TiN涂层的影响

研究了不同的沉积电压对辅助加热式ＰＣＶＤ－ＴｉＮ涂层的影响。实验证明,提高沉积电压可以细化ＴｉＮ涂层的柱状晶结构,增加ＴｉＮ涂层的显微硬度和沉积速率。在试验范围内,涂层内残存的氯含量基本不受沉积电压的影响。     

加载控制模式对电沉积镍薄膜力学性能测试的影响

为研究深度和载荷2种加载控制模式对样品硬度和杨氏模量测试结果的影响,选取了厚度为6μm的电沉积镍薄膜为样品,采用美国Hysitron公司生产的TriboIndenter型压痕仪进行压痕试验.结果表明:因薄膜和基底2种材料的性能相差较大,随着压痕深度的增加,基底效应越来越明显;载荷控制模式下所测的硬度和杨氏模量较深度控制...     

电化学沉积仿生羟基磷灰石涂层的研究现状与展望

综述了仿生羟基磷灰石的研究进展及现状,指出了电化学沉积羟基磷灰石涂层的存在的问题,并提出了电化学沉积仿生羟基磷灰石的几种理想方案.     

微弧氧化-电化学共沉积磷酸钙类涂层的研究

本项工作采用电沉积的方法在微孤氧化后的钛基体上制备了磷酸钙类涂层.室温条件下在300V恒压下阳极氧化1min,形成均匀孔洞的钛片,孔洞周围有较规则的突起,在此基础上进行电沉积不同时间获得磷酸钙类涂层.用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对涂层进行了表征,体外模拟后涂层表面形成了羟基磷灰石,锐钛矿型TiO2,金红石型TiO2.涂层的磨损试验结果表明,该涂层的摩擦磨损性能得到了极大的改善.     

磷酸钙骨水泥的制备条件对抗压强度的影响

系统地研究了固化环境、液固化、原料粉末比表面积、晶种、固化液等制备条件对磷酸钙骨水泥（ＣＰＣ）抗压强度的影响规律。结果表明：改变制备工艺条件，可以控制浆体微结构的特征，使大孔的尺寸和数量减小、颗粒间结合强度提高，从而提高固化体的抗压强度。     

AZ91D镁合金表面环保型钙系磷化膜的制备及其耐蚀性

采用化学转化处理的方法,在AZ91D镁合金的表面制备了均匀致密的钙系磷化膜,其中磷化液配方中不含铬、氟及亚硝酸盐等对环境有害的离子.通过场发射扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了磷化时间及温度对磷化膜结构和相组成的影响.结果表明：磷化时间为20 min,磷化温度为40℃时,所得到的磷化膜的致密性和均匀性较好.与空白基体相比,经磷化处理后的镁合金在3.5 ％NaCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.     

快速消除维持电压微细电化学加工脉冲电源

以绝缘栅型场效应管(MOSFET)作为开关元件的独立式单路微细电化学加工脉冲电源在脉间存在维持电压,使得微细电化学加工的散蚀增加,导致工件的形状精度降低.在分析维持电压存在特性的基础上,通过分析实验中采集到的波形,对脉冲电源进行改进,设计了双路控制的MOSFET开关电路,并根据MOSFET的开关特性,采用合理的电路参数.对比实验表明,改进后的电源快速消除了脉间维持电压,从而有效地降低了加工过程中的平均电压值,进而使加工表面痕迹的形貌得到了很大的改善,提高了加工的尺寸精度和表面质量.     

金属有机化合物化学气相淀积含钛硬质涂层的性能研究

在用文题淀积方法制备出氮化钛、碳氮化钛和碳氮氧化钛硬质涂层的基础上,用表面分析手段分别进行了成分、结构分析、形貌观察和硬度测定。结果表明:以二乙胺基钛为原料可分别在773K和973K淀积氮化钛和碳氮化钛涂层;用钛酸异丙酯和钛酸丁酯可分别在973K和1073K获得碳氮氧化钛涂层。所得的涂层表面光洁度高、与基体附着性好、硬度满足实用要求。相比于普通化学气相淀积方法,本法在制备硬质涂层上有两大优点:(1)淀积温度降低,扩大了基体的选用范围;(2)固溶体涂层的获得扩大了涂层的适用范围。     

电化学沉积研究

概述了电化学沉积研究的发展现状。介绍了本科研组在电化学沉积和电结晶机理,络合剂和添加剂在沉积过程中的作用,电化学沉积新工艺和研究方法,以及镀层微观结构与性能的关系等方面的主要研究结果。     

镧-铋二元合金的水相电化学诱导沉积

通过水相电化学诱导沉积的方法制备了La-Bi二元合金.采用X-射线衍射和扫描电镜技术表征了产物的形貌和晶体结构.考察了沉积电位、Bi和La的摩尔比例等实验参数对Bi诱导La沉积的影响以及沉积电位和沉积时间对产物的形貌的影响.实验表明,较负的沉积电位和较高的Bi和La的摩尔比易于诱导La的沉积,并且通过调节实验参数可控制产物的形貌和尺寸.     

饲料级磷酸氢钙生产中的脱氟研究

对普钙水溶法生产饲料级磷酸氢钙的脱氧进行了研究,比较了NaCl和KCl的脱氟效果,分析了用NaCl和KCl脱氧不完全的原因,提出了用KCl初步脱氟,用淀粉酸解注进行二次脱氟的工艺。研究表明,其脱氟效果甚佳,产品达到国家标准GB8258-87饲料级磷酸氢钙的质量标准。