五水平U型设计在可卷型L2-偏差下的新下界

通过变换得到了五水平U型设计可卷型L₂-偏差的一个新表达式,基于该表达式和数学不等式得到了该偏差的一个新下界.     

2和4混水平U-型设计在可卷L_2-偏差下的下界

可卷L_2-偏差已被广泛地应用于评价部分因子设计的均匀性.研究了具有2和4混水平的非对称设计在可卷L_2-偏差下偏差值的下界,它可以作为寻找可卷L_2-偏差下具有2和4混水平的非对称U-型均匀设计的一个基准.     

二五混水平U型设计的Lee偏差下界

研究了二五混水平U型设计在Lee偏差下的均匀性,利用两种不同的新方法,即CHATTERJEE和HU的方法得到了二五混水平U型设计的两个下界,并将它们综合成一个下界,同时以数值实例验证了该综合下界是紧的,且优于以往文献中的下界.     

二三混水平因子设计离散偏差新的下界

离散偏差经常用来衡量部分因子设计的均匀性,偏差的准确下界可以检验给定设计的均匀程度.基于现有的离散偏差的公式,讨论了二、三混水平设计离散偏差的下界问题,并利用泰勒展开的方法给出一个新的下界.与已有的下界相比,所给出的下界在某些设计中更精确.     

二水平设计离散偏差和对称化L_2偏差紧的下界

基于现有的均匀性测度公式,利用Langrange乘数法和Taylor公式得到二水平设计离散偏差和对称化L2偏差紧的下界,最后通过2个例子来验证其结论.     

二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性

讨论了二四混水平因子设计在Lee偏差下的均匀性,并给出了Lee偏差的一个下界,该下界可以作为搜索Lee偏差下二四混水平均匀设计的一个基准.     

两水平扩大设计基于中心化L2-偏差的均匀性

基于中心化L₂-偏差讨论了两水平扩大设计的均匀性,获得了两水平扩大设计中心化L2-偏差的一个新的下界,该下界可作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.     

组合设计的对称化L2-偏差的下界

利用投影均匀性模式得到了两水平部分因子设计的组合设计的对称化L2-偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这个下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准.     

Double设计在对称化L2-偏差下两个下界的比较

从列平衡的角度出发,将设计的中心化L2-偏差、对称化L2-偏差、可卷L2-偏差分别用二次型和均衡模式表示,可分别得到两个下界,它们都适合用来评价正交设计的均匀性。以double设计的对称化L2-偏差为例,证明了这两种方法算出的下界是相等的。     

对称化L2-偏差下组合设计的均匀性

基于对称化L2-偏差讨论了组合设计的均匀性,在两种特殊的情形下分别得到了两水平部分因子设计的组合设计的离散偏差的下界,数值例子说明这些下界是紧的,因此这些下界可以作为寻找最优折叠反转方案的基准。     

Double设计的几个结果

讨论了Double设计在对称化L2-偏差下的均匀性,给出了Double设计为均匀设计的充要条件,同时得到了Double设计的对称化L2-偏差的下界,来评价Double设计的均匀性,最后通过一个例子来验证理论结果。     

（0，1）-矩阵积和式的上下界

令A=[aij]是一个n×n的(0,1)方阵.用τ表示A中0元素的个数.给出0≤τ≤n时,矩阵A的积和式的上下界.     

构造均匀设计表的随机优化算法比较研究

给出了基于贪婪算法和门限接受算法的构造均匀设计表的随机优化算法,以中心化偏差为均匀性测度,编写了产生最优均匀设计表的相关计算机通用程序,通过计算和与文献比较,得到了更多更优的均匀设计表。     

矩阵Hadamard积的最小特征值下界的估计

利用Brauer定理,给出非奇异M-矩阵A与其逆矩阵的Hadamard积A■A-1的最小特征值下界的新估计式.理论证明和数值算例表明所得估计结果比现有结果更为精确.     

Smarandache函数在数列ap bp 上的一个新的下界估计

利用初等方法以及同余技巧研究了Smarandache函数S(n)在数列ap+bp上的下界估计问题,给出了一个较强的下界估计.证明了:对任意两个不同的正整数a及b,有估计式S(ap+bp)≥10p+1,其中p≥17为素数.     

Ramsey数R_(11)(4)的新下界

该文用群论和数论研究了素数阶循环图存在4阶团的充要条件，得到了Ramsey数R11（4）的新下界。