Co含量对Fe100-xCox薄膜磁性的影响

通过高真空磁控溅射仪在Si衬底上成功制备了厚度为30nm的Fe100-xCox系列薄膜,并利用X射线衍射仪、振动样品磁强计和铁磁共振对其结构和磁性质进行了研究.X射线衍射结果表明,Co含量的增加使得Fe100-xCox(110)晶峰增强,晶格常数减小,磁性测量表明Co的加入使得薄膜在保持较高矩形比的情况下,饱和磁化强度增加,面内易磁化方向的矫顽力增大.当x=O时饱和磁化强度为1.215×10-1T,矫顽力为1.186×104A/m;当x=50时,饱和磁化强度增至1.810×10-1T,同时矫顽力增大至3.342×104A/m.铁磁共振谱的测量结果给出了其磁各向异性的数值和方向,发现随着Co含量的增加,薄膜的磁各向异性有由易平面向易垂直移动的趋势.     

钇铁柘榴石单晶薄膜在高功率下铁磁共振饱和现象和折叠效应

本文进一步研究了垂直泵作用下,钇铁柘榴石(YIG)单晶薄膜脉冲微波功率的铁磁共振吸收特性.实验结果表明:在较低微波功率下,低占空因子脉冲微波功率的铁磁共振曲线的主要特征是由于自旋波不稳定性引起共振线宽的变宽效应,而且增加磁场和减少磁场得到的共振曲线基本是相同的.在高微波功率下出现了铁磁共振的折叠效应.     

微型NiFe条形薄膜元件在反磁化过程中的磁畴活动

该文应用Ｂｉｔｔｅｒ粉纹技术系统地观察，并从能量分析了微型４０ｎｍ厚度ＮｉＦｅ薄膜条状元件在难轴方向反磁化过程中，磁畴结构的特性和变迁过程。研究表明，元件中的Ｂａｒｋａｕｓｅｎ跳跃是畴壁合并，壁态转变和塞漏畴转变等不可逆磁畴结构变化过程的结果。     

Fe元素掺杂二氧化钛纳米薄膜的光物理化学性质

分别用硝酸铁溶液浸渍法和反胶束溶胶制备法中添加硝酸铁的掺铁方式,制备铁元素掺杂TiO2(Fe-TiO2)纳米薄膜.对Fe元素掺杂二氧化钛纳米薄膜和未掺铁二氧化钛薄膜的紫外可见光谱进行研究,发现硝酸铁浸渍法制备的掺铁二氧化钛薄膜吸收光谱发生红移,在可见光区表现出一定的光学活性,而反胶束制备过程中掺杂的二氧化钛薄膜吸收光谱发生蓝移.膜的半导体禁带宽研究表明,与纯二氧化钛薄膜相比,浸渍法制备的膜禁带宽变小了,而反胶束制备过程中掺杂的二氧化钛薄膜其禁带宽变大了,表明不同的掺方式对膜的电子结构产生了不同的影响,从而影响了膜的光催化反应活性.     

多层结构的X射线双晶衍射研究

用Ｘ射线双晶衍射术研究了玻璃薄层－铂膜－α－Ａｌ＿２Ｏ＿３多层结构。发现不同材料的玻璃层，使多层结构因热失配对铂膜产生不同的应力。对铂薄膜电阻器件的测量结果表明：应力引起器件的电阻值变化；不同的应力状态，产生不同方向的附加电阻。选择适当材料的玻璃层，使热失配在铂膜内产生相反的应力，从而造成相反的附加电阻。以这种应力补偿方法提高了薄膜铂电阻的可靠性。     

立方晶系任意取向晶面上的铁磁共振

本文研讨具有立方对称性的磁各向异性单晶铁氧体铁磁共振关系,对单畴球形样品作出了仔细的分析.采用包含一阶和二阶立方各向异性贡献的总自由能表达式,导出一般铁磁共振公式.严格地考虑了磁化强度平衡方向和外加恒磁场方向之间的偏离,将原有的铁磁共振理论推广到处理恒磁场相对干晶轴作任意取向的情况.将理论应用到一些实例,所得结果与实验数据符合得很好.基于此法,由任意晶面上的铁磁共振测量,可以计算出材料的立方各向异性常数和有效旋磁比.     

层状YIG薄膜波导中的静磁正向体波与光相互作用

利用新的微扰方法导出了层状YIG薄膜波导中静磁波微扰下的光模式耦合振幅方程;讨论了静磁波-光相互作用Bragg衍射效率和扫描特性;实现了端面耦合方式下的静磁正向体波-光的非共线相互作用,并研究了静磁正向体波频率和功率对其的影响.     

Y—GdIG系单晶铁氧体的磁性,铁磁共振和穆斯堡尔效应研究

本文在较宽温度范围内系统地研究了Y_(3-x)Gd_xFe_5O_(12)单晶体的饱和磁矩、铁磁共振和穆斯堡尔效应谱随成分和温度的变化,用亚铁磁理论解释了不同成分的热磁曲线及抵消点的变化,理论计算和实验结果符合较好.比较了几种铁磁共振线宽理论的计算结果,发现以亚铁磁共振理论加以适当条件后与实验结果较符合;发现Y~(3 )和Gd~(3 )在十二面体晶位中的代换,对四面体和八面体晶位中的Fe~(3 )的穆斯堡尔谱参量无明显影响;观测到代表四面体和八面体晶位中Fe~(3 )的谱线在磁有序区又再分成两组亚谱.     

铁磁薄膜中静磁表面波和体波的能流方向

铁磁薄膜波导中的静磁表面波和体波是色散的,波矢显示各向异性.一般,静磁波的能流方向与传播波矢非共线.文中研究分析了静磁表面波和体波的能流方向随频率和外偏置磁场方向的变化规律.     

侧向表面超晶格膜的表面静磁模式

我们计算了一个侧向磁性－非磁性超晶格膜的表面静磁模式，其中膜厚度为Ｗ，并且超晶格周期是足够短以致这个超晶格膜可以被看做一个等效各向异性的磁性膜，此文重点研究了表面静磁模式的频率随超晶格膜中磁性介质比例变化的规律，并进一步证明当磁性介质的比例比非磁性介质的比例小时表面静磁不能存在，计算建立在Ｎｉ／Ｍｏ超晶格基础上并设磁性介质中的磁化和外场沿磁条的方向。     

ZnO薄膜发光特性的研究

为了研究全色显示中的蓝光问题,用电子束蒸发的方法生长了ZnO薄膜,不同温度对ZnO膜进行退火处理结果表明:退火对电致发光的影响比对光致发光更明显,O2气氛中高温退火样品的发光强度不如低温退火样品,合适的退火温度和退火气氛可以改善ZnO膜薄的结晶状态,使电致发光显著蓝移。     

毛细管中液氮临界热流密度(CHF)的实验研究

采用直流电源加热毛细管中心线的方法,研究了毛细管直径尺寸和位置倾角对毛细管中液氮临界热流密度(CHF)的影响.实验结果表明毛细管的直径尺寸和位置倾角对CHF有很大的影响,并可推断临界热流密度并非随管径增大单调增大,而是在某一最佳管径处存在一峰值.     

聚一氯对二甲基苯膜的热稳定性与介电特性

以一氯对二甲基苯二聚体为原料,通过真空化学气相沉积法制备聚一氯对二甲基苯(Parylene C)膜,对该高分子薄膜材料的热稳定性和介电性能进行研究.通过DSC测得Parylene C膜的玻璃化转变温度为85℃,熔点为300℃,且Parylene C膜在不同的升温速率都表现出很好的热稳定性.测定膜厚为0.05 mm的介电常数为2.35,通过对绝缘性能的分析,以膜厚0.05 mm为测试基准.当蒸发温度在75~115℃,裂解温度在675~680℃时,介电强度达到5 500 V/mm,证明在合适的工艺条件下,Parylene C膜有很好的绝缘性.     

压痕法测量Zr基非晶压力敏感因子

采用压痕法研究了两种Zr基非晶依横于压力屈服行为,非晶的压力敏感因子可以通过对剪切带之间的夹角(2θ)测量得到.纳米压痕P-h曲线也表现出相似的结果,随着压力敏感因子而改变,这个结果与有限元模拟压痕测量的结果非常一致.剪切带之间的夹角(2θ)和纳米压痕P-h曲线都显著的依赖压力敏感因子改变而变化,这说明非晶是一种依赖于压力屈服行为.压痕实验结果依赖压力敏感因子变化行为进一步说明可以采用压痕法测量非晶压力敏感因子.     

函数一致连续性概念的几点注记

函数在区间上的一致连续性是数学分析课程中的重要理论之一,把握一致连续性概念是处理好一致连续性问题的关键.从连续和离散2个角度刻画了一致连续性概念的本质含义并体现了二者之间可以互相转化,从概念的叙述方式、几何意义、概念的整体性等方面对一致连续概念进行了剖析.     

根据反射声波相位信息识别分层介质结构

通过提取分层介质声回波的相频特征信息,对物理性质未知的分层材料实现了有效的分类识别. 分类对象为单层材料、包含两种不同声速和密度的两种双层材料、外层较硬中间较软的三层结构,硬和软是指两种材料c值的相对大小. 数值模拟表明该方法对4种分层结构能进行有效识别. 采用优化的分类流程可减小测量的工
作量.     

绞刀片大角度切削水饱和沙的力学模型

水下土质在大切削角条件下,在刀片前会存在滞留的楔形块,楔形块的存在会对切削层界面上空隙水压力的大小和分布产生影响.建立绞刀片在大切削角度下的力学模型,通过“楔块”的力矩平衡方程,封闭绞刀片大角度切削水饱和沙的力学模型,解出了力学模型中的新变量——楔角,所得结果与实验观察一致.     

等离子体改性聚合物表面动力学的动态接触角法研究

详细研究了有关高分子材料的动态接触角.对于未处理高分子材料,其前进接触角都大于后退接触角,有滞后现象主要是由于材料表面化学组成不均匀性引起的.经CF₄/CH₄等离子体处理后,使得前进接触角增大而后退接触角变化幅度较小,滞后程度增大是由于表面化学组成不均匀性增大引起的.聚合物薄膜经CF₄/CH₄等离子体处理在浸水过程中,表面动力学衰减常数随等离子体处理条件CF₄(%)的变化而变化,可将整个浓度区域分为三个区域,这是由于各区域内等离子体作用机制和改性聚合膜的性质不同而引起的.预先经CH₄等离子体处理的表面动力学衰减常数普遍小于未经CH₄等离子体前处理的表面动力学衰减常数,证实了高度交联的炭阻挡层可在一定程度上阻止表面动力学的运动.     

材料对水平管降膜蒸发的影响

在水平管降膜蒸发器中,分别对不锈钢、紫铜和钛三种材料的光滑表面管和电化学腐蚀成多孔表面管进行研究。结果表明;管外侧饱和水表面蒸发传热系数不受材料性质的影响,而沸腾蒸发传热系数受材料性质及接触角的影响;电化学腐蚀成的多孔表面孔的密度,大小及孔的形状直接关系到蒸发传热强化效果的好坏。