小角度掠射X—Ray Diffraction用于离子注入后金属材料的物相 …

用小角度掠射Ｘ光法对工业钝铝，４５＾＃钢等材料表面经离子注入改性后的表层的表层物质进行了物相分析，这一方法可以准确确定材料表层厚度为几十ｎｍ时的物相结构，从而为确立材料表层改性的机制提供了较为可靠的依据。对比实验表明，采用小角掠射Ｘ光衍射法比常规衍射仪法更加突出了表层物质时衍射谱的贡献，这为表面物理的研究提供了一种有效的方法。     

EMP轴瓦表层材料的表面形态结构分析

通过化学腐蚀试验法，结合表面微观形貌分析和X射线衍射分析，对某电厂所用EMP(Elastic-Metal-Plastic)轴瓦样品表面材料的表面细节结构特性进行了研究，试验结果证明EMP轴瓦试样表层PTFE材料中不含任何无机填料，其表面结构为条带状结晶形态结构．这为深入研究该类材料的摩擦学特性提供了重要基础．     

奥氏体不锈钢氮离子注入层的研究

本文用俄歇能谱仪（ＡＥＳ），结合高精度表面轮廓仪测定奥氏体不锈钢氮离子注入层深度及氮浓度分布．用超显微硬度计（试验载荷为０．１ｇ至２．０ｇ）测量注入层的本征硬度，还用ｘ射线低角度掠射技术（ＧＩＸＲＴ）分析注入层的组织结构．研究结果表明：氮离子注入层为过饱和氮的单相国溶体非晶态层，它强化了奥氏体不锈钢表层，提高耐磨性，降低摩擦系数．注入态的耐蚀性优于非注入态．     

TZP陶瓷的X—射线定量相分析

采用Ｘ－射线衍射方法研究了四方相氧化锆多晶陶瓷中的物相，提出了应用四方相氧化锆双谱线峰强度比Ｉ（２００）／Ｉ（００２），计算ＴＺＰ陶瓷中立方相氧化锆含量的Ｘ－射定量相分析方法。     

X光透镜应用于蛋白大分子晶体衍射

Ｘ光透镜能以较大的收集角收集Ｘ光，并以准平行光出射。Ｘ光透镜应用于生物蛋白大人子晶体衍射，替代单色仪双聚集镜，照射晶体样样品的光强度数倍乃至１到２个数量级，衍射强度的提高远于５倍，大大缩短了测试时间，分辨能力改善０．０２－０．０５ｎｍ，衍射数据的收集质量有较为明显的提高。     

X射线粉末衍射与德拜相指标化的简易方法

报道一种标定Ｘ射粉末衍射图的简易作图方法，此法适用于晶胞尺寸未知的立方晶体物质德拜相的指标化，亦可应用于数据有整数比的其他实验数据处理。     

钛基合金阳极表面物相的研究：X射线衍射法

制备了四类Ｔｉ基合金阳极；用Ｘ射线衍射法确定了其表面物相的组成，该组成分别为：Ｔｉ－Ｎｉ（共五相）Ｔｉ３Ｎｉ．ＴｉＣ．ＴｉＢ．Ｔｉ２Ｂ５及Ｍｎ．Ｔｉ－Ｍｎ２等，并讨论了其抗钝化的原因。     

用吸附聚集x-射线衍射法研究储层结垢情况

建立了一种新的测定垢晶体的实验方法—— 吸附聚集 Ｘ － 射线衍射法．原理是利用晶种物质在各种混合水样中的异相成核作用,加速形成垢晶体,同时利用晶种物质对垢晶体的吸附聚集作用,将垢物质吸附聚集在晶种物质上,通过过滤,将生成的无机垢浓缩聚集在一起,最后通过高精度大功率 Ｘ射线衍射仪分析、检测混合晶种物质的物相成分．该结垢实验方法可以准确地检测出各种混合水样中是否结垢及结垢物质的种类和结垢量的大致范围．     

溅射法制备ZnS：Er^3＋薄膜的微结构研究

利用射溅射控溅射法制备掺铒硫化锌薄膜，用Ｘ射线衍射和Ｘ射线光电子能谱技术。研究薄膜微结构，发现薄膜中多晶沉积有择优取向趋势，掺杂的铒有表面集聚现象，这将对薄膜的发态产生影响。     

不同处理态高铬白口铸铁显微组织与性能

研究了不同处理态高铬白口铸铁的组织与性能．用Ｘ射线衍射法、金相观察法与显微硬度相结合的方法鉴别材料中所含的物相．通过冲击韧性值,宏观洛氏硬度值及扫描电镜的断口分析比较了材料的使用性能．分析认为材料的综合性能主要取决于基体组织．回火态试样有较好表现．改进了现行回火制度．中温短时回火可明显改善材料的使用性能．     

补强粘胶基碳纤维性能的研究

X-Ray衍射、小角X-Ray散射、SEM等方法对补强处理前后的RCF样品进行测试分析,结果表明,补强后的RCF抗拉强度大幅度提高,结晶度增加,表面缺陷减少.     

有机改性粘土的制备与X-射线衍射和热失重分析

对膨润土及凹凸棒土进行有机改性处理 ,制备出有机改性粘土 ,并通过X -射线衍射和热失重分析比较了膨润土及凹凸棒土有机改性前后的层间距和热失重性能变化 ,结果表明 ,改性后有机阳离子已和粘土发生了离子交换作用 ,同时使层间距变大 ;同等条件下 ,有机化膨润土的热失重百分率比改性前要高。经有机改性的粘土可用作聚合物基层状硅酸盐纳米复合材料的无机填料。     

钨/二氧化硅/脲醛树脂多组分复合材料制备与表征

以钨粉为核芯材料,利用溶胶-凝胶法在其表面包覆二氧化硅壳层;通过硅烷化试剂(APTES)的修饰作用,在酸催化条件下,在钨/二氧化硅表面实施甲醛和尿素的缩聚反应,制备得到具有核-壳结构的钨/二氧化硅/脲醛树脂(W/SiO2/UF)多组分复合材料.通过扫描电子显微镜(SEM)、X-射线衍射(XRD)和傅立叶转变红外(FT-IR)等手段对复合材料的形态、结构和组成等进行了表征.复合材料的导电性测试结果表明,钨粉表面脲醛树脂层包覆后,其电导率由1.7×10-3S/m降低为1.2×10-8 S/m,即钨粉表面包覆层的包覆较为完整、致密,其导电性接近于绝缘材料.     

在（111）Si衬底上磁控溅射法制备纳米SiC薄膜

用射频磁控溅射法在硅衬底上生长出纳粒结构的碳化硅薄膜,在N2气氛下经3h1100℃退火,用X射线衍射（XRD）、付里叶红外吸收谱（FTIR）、X光电子能谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）对薄膜样品进行结构、颗粒大小、组分和形貌分析,并在室温条件下观察薄膜的光致发光现象。     

新型固体酸催化剂SO42-/Al2O3-Al的制备

采用铝阳极氧化法和浸渍法制备出新型SO42-/Al2O3-Al固体酸催化剂,通过BET,XRD,XPS等物性表征,考察了阳极氧化时间、焙烧温度等对催化剂制备的影响。BET结果表明,催化剂的比表面积要小于载体Al2O3的比表面积;XRD结果表明,载体Al2O3为无定形结构,且负载SO42-后,催化剂的物相结构没有发生改变;XPS结果表明,催化剂表面主要由SO42-和Al2O3组成。活性评价表明,该催化剂对酯化反应具有较好的催化活性。     

表面分析的新方法—（RHEED－TRAXS）和（SEM－TRAXS）

本文综述在反射高能电子衍射仪中测量全反射角ｘ射线谱（简称ＲＨＥＥＤ－ＴＲＡＸＳ）的表面化学分析方法。对这种分析方法的基本原理、主要优点及应用作了概略介绍。本文还介绍了在扫描电镜中进行全反射角ｘ射线谱（简称ＳＥＭ－ＴＲＡＸＳ）测量的方法及结果，并在文章的末尾指出了在扫描中实现（ＳＥＭ－ＲＨＥＥＤ－ＴＫＡＸＳ）的可能性。     

硅/碳复合材料的高温热解法制备及其电化学性能

采用高温热解方法成功地合成了高容量硅/碳复合负极材料.通过X射线衍射分析、热重分析、扫描电子显微镜观察、透射电子显微镜观察、恒电流充放电测试、循环伏安法等手段研究了复合材料的性能.结果表明：硅/碳复合材料由Si、C以及少量SiO2组成;硅/碳复合材料中碳的质量分数约在39%左右;经电化学性能测试,在电流0.2 mA下,该硅/碳复合材料首次充电容量768 mAh·g-1,首次库仑效率75.6%,70次循环后可逆比容量仍为529 mAh·g-1,平均容量衰减率为0.44%.这些性能改善归因于硅/碳复合材料中碳的引进,硅表面存在的碳涂层提供了一个快速锂运输通道,降低了电池的阻抗并且充放电过程中稳定了电极的组成.     

低温球磨制备Mg-4%Ni-1%NiO储氢材料及其性能

采用低温球磨技术制备了Mg-4%Ni-1%NiO储氢材料,主要研究低温球磨时间对材料形貌结构以及储氢性能的影响.采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析材料的形貌和相组成,采用压力-组成-温度(P-C-T)设备研究材料的储氢性能.结果表明:分别经过2、4和7 h球磨后,材料的相组成没有发生明显改变,只有极少量的Mg2Ni合金相生成.随着球磨时间的延长,材料的平均粒度逐渐下降,作为催化剂的Ni、NiO相逐渐揉进基体内部.伴随着上述变化,材料的活化性能、吸氢性能逐渐提高,球磨到7 h后材料仅需活化1次即可达到最大吸放氢速率,初始吸氢温度降为60℃,在4.0 MPa初始氢压和200℃下吸氢量为6.4%(质量分数),60s即可完成饱和吸氢量的80%,10min内完成饱和吸氢量的90%;材料的放氢性能则在球磨4 h后已经基本保持不变,0.1MPa下初始放氢温度为310℃,在350℃、0.1MPa下材料可在500s内释放饱和储氢量的80%.     

涂层高铝砖耐碱性侵蚀的研究

在成本低廉的高铝砖表面涂刷涂层，提高了高铝砖的耐碱性侵蚀能力．介绍了涂料配方的设计、结合剂的选择，并通过显微分析、Ｘ射线衍射等手段对涂层内的镁铝尖晶石的数量和结构进行了分析研究；通过各种性能测试，结果表明，加涂层的高铝砖耐碱性侵蚀能力增加     

含联苯基团热致液晶聚脲的合成与表征

为合成新型热致液晶聚脲,以含液晶基元的联苯二胺（或联邻甲苯胺）、1,6-己二胺、2,4-甲苯二异氰酸酯为原料进行合成。通过改变单体加料顺序发现,仅当先加入己二胺与2,4-甲苯二异氰酸酯预聚,再加入芳香二胺聚合,所得的聚合物才有液晶性。采用这种加料顺序,通过改变芳香,脂肪两种二胺的配比,合成了两个系列的热致液晶聚脲,并确定了合成热致液晶聚脲的最佳配比范围。所得聚合物用偏光显微镜,示差扫描量热分析,广角、小角X射线衍射等方法进行表征,确定了其液晶织构属于向列型。