磁记录与磁光记录

信息的可擦重写磁光记录方式克服了磁记录方式信息密度较小的缺点,本文从磁记录原理出发介绍了磁光记录的原理及其近期发展,概述了这两种技术对记录介质的技术要求,并对记录材料的最新进展进行了述评．     

磁光克尔效应及其测量

介绍了在磁光盘上进行热磁写入信息的原理、磁光克尔效应以及通过该效应读出信息的原理.对近期开发的磁光盘介质材料的性能进行了评论.重点介绍了磁光克尔转角的测量方法,分析了影响材料磁光克尔转角大小的因素.     

静态磁光记录温度场的模拟

讨论磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布,导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式。由此模拟出局域瞬态温度场,在理论上确定了TbFeCo记录材料的成畴大小和形状。这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有重要的实际意义。     

非晶SmDyFeCo薄膜的制备和磁光记录特性

研究了制备非晶ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜的方法和它的磁光记录畴大小随记录激光功率Ｐ及记录偏磁场Ｈｂ的变化趋势，并与非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜的磁光性能比较，得到了重要的结论：在非晶重稀土－过渡族ＤｙＦｅＣｏ薄膜中加一定量的轻稀土元素Ｓｍ组成四元非晶合金薄膜能使它的磁光记录畴直径减小，它可能成为未来高记录密度的新型磁光材料     

磁光盘信息读出系统的光学问题

在基于磁光克尔效应的光盘存储技术中,磁光介质特性与光学头性能优劣直接影响到系统信噪比质量.不断优化光学系统特性来改善系统信噪比和提高系统的可靠性与稳定性一直是研究的课题.本文将只涉及磁光材料的磁光克尔效应.详细讨论磁光信息读取光学系统以及光学系统特性对系统信噪比的影响,包括差动法信号取出的噪声特性分析,然后给出优化措施.1 磁光信息读取原理图1为磁光盘信息读取光学系统简图.激光束A经分光棱镜BS后,由会聚物镜OB在光盘OD磁光介质上形成亚微米级光点,高速旋转的光盘信息经此光点扫描后,其克尔效应信息调制了反射光束,携带了数据信息的反射光束C再经物镜OB与分光棱镜BS后,出射光束D经λ/2波片后,出射光束E.E经检偏器件PBS后,出射光束O_1与O_2,O_1和O_2分别经光电二极管PD_1和PD_2后,产生电信号.此电信号经后继电子系统进行差分放大.这样便可检出磁光盘上所记录的信息.2 信噪比分析     

层状膜磁光克尔效应的研究及其自动测量仪的建立

以获取磁光材料较全面的介电张量对角元和非对角元复显谱为目的，建立了光学常数谱和磁光常数谱的自动测量系统。阐述了测量系统的理论基础，将测量波长范围拓宽到３２００Ａ至８４００Ａ，能够测量磁光材料的光学常数、磁光克尔旋转角和克尔椭偏率，从而得到材料磁光常数完整的信息。     

磁光静态记录温度场的分布及计算

讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化，表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义。     

左手材料和磁性材料交替排列结构中的角度特征分析

利用4×4传递矩阵的方法,计算了含左手材料和磁性材料的多层结构的磁光科尔效应,分析了科尔旋转角和优值系数随层厚、左手材料磁导率、介电常数的变化关系.左手材料的反常共振传递特性使得薄的磁性膜可以产生大的磁光科尔效应,有望在磁光记录、完美隐身中发挥重要作用.     

磁光静态记录温度场的分布及计算

讨论了磁光静态记录过程中单层膜与多层膜在激光照射微区内温度场的分布，导出多层膜在激光照射下温度变化的解析表达式，由此模拟出局域瞬态温度场，在理论上确定了ＴｂＦｅＣｏ记录材料的成畴大小和形状，这对磁光薄膜宽温化、表面温度特性和磁光记录畴表面形貌分析等具有实际意义     

温度变化对锰铋稀土薄膜的矫顽力和磁光克尔转角的影响

锰铋稀土 (Mn Bi RE)薄膜具有较大的磁光克尔转角 θk,因而作为良好的磁光信息存储材料 .用真空蒸镀方法制备了 Mn Bi RE (RE=Ce、 Pr、 Nd、 Sm)薄膜 ,考察了温度变化对其矫顽力、磁光克尔转角等性能的影响 .通过信息的写入 ,分析了这些样品的读写特性并与四层结构 Tb Fe Co样品做了比较     

《磁光材料及其应用》简评

山东聊城师范学院于含云、孟晓雷二同志所编著的《磁光材料及其应用卜书，内容新颖、章节分明、撰写严谨，即有先进性又有广泛性，理论深度较高，该书的出版无疑对我国所从事固体物理、磁学、光学和磁光材料及器件的科研、工程技术人员提供了一部实用性强参考价值大的专门理论著作．对我国磁光材料的发展具有重要的现实意义·该书不仅详细介绍了磁光材料、磁光器件的基础知识和发展现状，更重耍的是对磁光材料的各种生长方法、生长技术以及磁光理论均做出了开创性的论述，对磁光材料的生R机理给出了定量解释·书中对接饬、掺钢稀土石榴石磁…     

光磁功能化硅基材料的设计合成及释药性能研究进展

通过概述光或磁功能介孔二氧化硅材料、光磁双功能介孔二氧化硅材料以及新型纤维状光磁功能介孔二氧化硅在药物缓释领域的研究进展,分析了新型光磁功能介孔二氧化硅复合材料的应用状况及其未来的发展趋势.     

激光辅助跨越补偿点磁化反转动力学的实验测量

文章介绍了稀土-过渡族金属铁磁合金薄膜的磁学性质以及超快磁化动力学的一般测量方法，论述了传统实验手段难以测量非可逆的激光辅助跨越补偿点磁化反转动力学的原因．实现了一种新的实验测量方法——光-磁同步动态磁光测量法，并论述了相关原理和技术．以此方法测量得到了GdFeCo薄膜的磁化反转动力学，能够反映真正跨越补偿点磁光记录的过程信息．     

稀土研究的新进展——澳大利亚《1998稀土国际会议》概况

全面介绍了 1 998稀土国际会议的概况以及与会者在稀土永磁材料、稀土储能材料、高温超导材料、磁光记录材料、稀土配位化学、溶剂萃取分离化学、稀土催化剂、稀土荧光光谱学、稀土在医学和农业上的应用等研究领域的新进展。     

稀土研究的新进展：—澳大利亚《１９９８稀土国际会议》概况

全面介绍了１９９８稀土国际会议的概况以及与会者在稀土永磁材料、稀土储能材料、高温超导材料、磁光记录材料、稀土配位化学、溶剂取分离化学、稀土催化剂、稀土荧光光谱、稀土在医学和农业上的应用等研究领域的新进展。     

磁存储的研究现状及发展方向

磁性存储是最常用的大容量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。通过对信息记录, 读出和存储3个过程的分析,对硬磁盘记录。垂直磁记录和磁光记录的优缺点作了对比,指出了采用垂直记 录模式,非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密度记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记 录技术。还指出量子磁盘技术是未来极高密度记录的方向。     

磁存储的研究现状及发展方向

磁性存储是最常用的大容量存储技术。其记录密度越来越高，发展也越来越快。通过对信息记录、读出和存储3个过程的分析，对硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点作了对比。指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密度记录的方向，光辅助磁记录是很有希望的记录技术。还指出量子磁盘技术是未来极高密度记录的方向。     

磁光记录原理与展望

本文简要阐述了一种新兴的存储器件——磁光盘的记录原理和磁光记录介质的性能与发展前景.     

尿素-NaBr低温熔盐体系中Er-Co合金的电沉积

稀土元素内层４ｆ电子的数目从０～１４逐个填充,造成它们之间在光学、磁学、电学性能上出现明显差异．衍生出种类繁多的高新材料［１］．稀土铁族金属合金具有优良的磁性、磁光性并可应用于磁性元件及磁光记录材料,目前多采用蒸镀和激光溅射法制备．但设备成本高、生...     

DyFeCo磁光薄膜的制备和特性研究

本文采用射频磁控溅射方法制备了ＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压，溅射功率对ＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响，实验表明：反射率随氩气压升高而降低，矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减少，高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差，本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减少。反射率随溅射功率增加而升高，到达最大值后又逐渐下降，矫顽力随溅射功率增加而逐渐增大，到达最大值后，磁光克尔回线反向，然后矫顽力又逐渐减小。为了满足高信噪比，记录信息稳定的磁光记录要求，氩气压选为３．５—５．５Ｔｏｒｒ、溅射功率选为３００Ｗ—３５０Ｗ较佳。