GaAs-Ga_(1-x)Al_xAs双异质结激光器的液相外延

介绍我们采用的多次液相外延实验装置，讨论影响薄层液相外延生长的因素。采用 “正交设计”的数学方法安排外延试验，找到多层连续均匀生长的条件．使ＧａＡｓ－ Ｇａ１－ｘＡｌｘＡｓ双异质结激光器阈值电流密度达到 １０００—２０００安培／平方厘米。     

GaAs-Ga_(1-x)AI_xAs双异质结激光器欧姆接触的研究

我们用正交表研究GaAs的欧姆接触工艺,实验结果表明,p—GaAs甩Au—Cr金、n—GaAs用Ag—Sn合金的欧姆接触工艺,比接触电阻率Rc<10~(-4)(欧姆)(厘米)~3应用于GaAs—Ga_(1-x)Al_xAs双异质结激光器,得到良好的效果。     

GaAs-Ga_(1-x)Al_xAs单异质结激光器

本文重点介绍了GaAs-Ga_(1-x)Al_xAs单异质结激光器的作用原理、制备工艺和基本特性。指出了这种器件在室温脉冲工作状态下,较同质结器件有明显改进。具体表现在(?)值电流密度一般可降至10000安培/厘米~2左右;微分外量子效率可提高到40％左右,好的可达48.6％。同时并运用辩证唯物主义的观点,对实验中的问题进行了分析。     

Ga_(1-x)Al_xAs/GaAs双异质结激光器的液相外延研究

本文报导了Ga_(1-x)Al_xAs/GaAs双异质结激光器液相外延过程中,有关组份、浓度、生长速率控制的一些实验结果。主要内容是Ga_(1-x)Al_xAs层的组份、平均生长速率随溶液中Al含量的变化和杂质Te在GaAs、Ga_(1-x)Al_xAs层中的掺杂行为等。利用所得结果可方便地控制外延层的组份、厚度和掺杂浓度。     

GaAS-Ga_(1-x)AI_xAs双异质结激光器的热阻及串联电阻的测量

测量GaAs—GaA1As双异质结激光器阈值电流随温度的变化,表明在室温附近符合指数规律。通过这一测量,可以得到激光器热阻和串联电阻数值。介绍光谱温度效应测量方法,通过激光器光谱峰位的移动,也可以推祘器件的热阻与串联电阻。     

GaAs-Ga_(1-x)Al_xAS双异质结激光器的热阻及串联电阻的测量

测量ＧａＡｓ—ＧａＡｌＡｓ双异质结激光器阈值电流随温度的变化，表明在室温附近符 合指数规律．通过这一测量，可以得到激光器热阻和串联电阻数值。介绍光谱温度效应 测量方法．通过激光器光谱峰位的移动．也可以推算器件的热阻与串联电阻．     

液相外延调制掺杂GaAs-Al_xGa_(1-x)As异质结特性

用液相外延方法在较低温度(580°—700°)下生长了顺序不同的GaAs-Al_xGa_(1-x)As调制掺杂异质结构。测量了温度低达1.5K和磁场高达7.5T之下的霍尔效应,并测量了俄歇溅射谱及氦离子卢瑟福背散射谱。在舒伯尼柯夫—德—哈斯振荡上观察到了各向异性,说明在异质结界面上存在着二维电子气的输运,它和体载流子的输运相并联。     

GaAS-Ga_(1-x)Al_xAS双异质结激光器欧姆接触的研究

我们用正交表研究ＧａＡｓ的欧姆接触工艺．实验结果表明， ｐ－ＧａＡｓ用 Ａｕ—Ｃｒ 金、ｎ－ＧａＡｓ用 Ａｇ—Ｓｎ合金的欧姆接触工艺．比接触电阻率 Ｒｃ＜１０－４（欧姆）（厘 米）３应用于 ＧａＡｓ—Ｇａ１－ｘＡｌｘＡｓ双异质结激光器．得到良好的效果。     

Ga As—Al Ga_(1-x) As双异质结平面条型激光器的掩蔽扩散

本文介绍了一种采用三元系源Ga—As—Zn为扩散源的GaAs—AlxGa_(1-x)As双异质结平面条型激光器的掩蔽扩散。其中对三元系源Ga—As—Zn源的选择做着重的讨论,并且对元素Zn源与三元系源做了比较;从中引出了扩散系数D依赖于As_4压力的关系公式和扩散截面的表面浓度的表达式。最后,对工艺结果和存在的问题进行了分析讨论。     

多元合金异质结In_xGa_(1-x)As/In_xAl_(1-x)As的价带偏移

采用ＬＭＴＯ－ＡＳＡ能带计算方法，研究三元合金ＩｎｌＧａ４－ｌＡｓ４和ＩｎｌＡｌ４－ｌＡｓ４（ｌ＝０，１，２，３，４等五个有序态）的能带结构和平均键能Ｅｍ；在此基础上，将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了ＩｎｘＧａ１－ｘＡｓ／ＩｎｘＡｌ１－ｘＡｓ异质结的价带偏移ΔＥｖ（ｘ）值．研究表明：该异质结的ΔＥｖ（ｘ）值随合金组分ｘ的变化接近于线性；ΔＥｖ（ｘ）的理论计算值与实验结果相当符合．     

InP/InGaAsP双异质结激光器

本文介绍了InP/InGaAsP双异质结激光器的制作及其特性。在通常的液相外延系统中用两相溶液法生长双异质结构晶片,适当的选择四元系外延层的组分及外延层的掺杂浓度,掌握Zn在外延片中的扩散规律,做好欧姆接触,结果制成了在室温下连续工作的条形激光器。室温最低脉冲阈值电流密度J_(th)=1800A/cm~2,室温直流阈值在200—300mA之间,激射波长1.35μm,主峰半宽5。     

In_(1-x)Ga_xAs_yP_(1-y)/InP液相外延材料的组分分析

一引言随着光纤通信技术的发展,发射波长λ=1.3μm光纤损耗小、色散低的光源制造已受到普遍重视。由于外延材料是器件制造的基础,因此如何确定和控制四元材料In_(1-x)Ga_xAs_yP_(1-y)的组分x、y,乃是制造发射波长λ=1.3μm光源的重要问题。四元材料In_(1-x)Ga_xAs_yP_(1-y)有二个自由度x、y,且其晶格常数和带隙(波长)是x,y的函数(服从Vegard定律),适当调整化学配比可使InGaAsP四元固溶体的带隙在1.35eV～0.74eV(对应波长λ=0.92～1.68μm)范围内变化,能得到与InP衬底相匹配的完整的外延     

InAsPSb／InAs四元系异质结液相外延

利用液相外延技术，考察了与ＩｎＡｓ衬底晶格匹配的ＩｎＡｓＰＳｂ四元系化合物生长条件对外延层晶体质量的影响．     

Zn_(1-x)Cd_xSe/ZnSe异质结中的束缚极化子

对半导体单异质结系统 ,引入三角势近似异质结势 ,考虑电子、杂质与声子的相互作用 ,利用改进的 LLP变分法讨论在界面附近束缚于正施主杂质的极化子基态能量 .对 Zn1-xCdx Se/Zn Se系统的杂质态结合能进行了数值计算 ,给出了结合能、声子贡献随杂质位置、电子面密度和组分的变化关系 .结果表明 ,杂质 -声子相互作用显著且声子对结合能的作用为负 .     

Zn_(1-x)Cd_xSe/ZnSe异质结中的界面极化子

采用准二维模型计及 Zn1-x Cdx Se/Zn Se半导体异质结界面附近的能带弯曲效应 ,讨论了异质结界面极化子的基态能量 ,有效质量随电子面密度以及 Cd组份的变化关系 .     

Ga-In-P三元相图的计算及Ga_xIn_(1-x)P-GaAs液相外延

在生长温度及组分附近对Ga-In-P相图进行了细致的计算。在GaAs(100)衬底上获得了Ga_xIn_(1-x)P单晶层。组分由电子探针确定X～0.45—0.55     

条形注入式半导体双异质结(DH)激光器阈值特性的理论分析

本文对条形注入式半导体DH激光器的阈值特性作了数值计算和理论分析。对PCW结构激光器载流子浓度剖面顶峰趋于平坦或中心下凹的现象作了解释并分析了这种现象所造成的后果。计算结果和实验结果符合较好。文中所提供的方法可适用于通常条形,BH、SBH、PCW、CDH、CSP等各种结构的激光器。     

磷压法气相外延 GaAs_(1-x)P_x

本文系采用赤磷、三氯化砷、砷化镓(或镓)为原料,在砷化镓衬底上进行GaAs_(1-x)P_x 气相外延生长的试验总结。文中分析了影响生长速度、合金组成、外延层表面形态的因素;叙述了此体系生长GaAs_(1-x)P_x(x≈0.40)外延层的操作工艺和条件。从制造发光器件的结果和投产的情况说明,此法可作为工业生产方法。     

双异质结GaAs激光器辐射场及其方向性的改善

提出一线微透镜与双异质结GaAs激光器组合的结构,以改善其辐射场的方向性。     

室温连续工作的山字台型双异质结激光器

本文介绍了室温连续工作的山字台型双异质结激光器的制作工艺及其特性,只要外延片的各层比较平整、均匀,并采用倒装键合工艺,使激光二极管在室温下连续工作是容易实现的。初次制成的一批激光二极管的条宽近40微米,但一些激光器的横模仍是基模,而且相对于电流的变化是稳定的,测量了激光器的光谱特性,主峰的半宽约为2A。