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相似文献
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1.
2.
多弧离子镀技术及其应用   总被引:7,自引:0,他引:7  
多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法,它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术.由于多弧离子镀技术具有镀膜速度高,膜层的致密度大,膜的附着力好等特点,使多弧离子镀镀层在工具、模具的超硬镀膜、装饰镀膜等领域的应用越来越广泛,并将占据越来越重要的地位.介绍了多弧离子镀技术的原理、特点,并在总结和归纳了以往大量实验研究及国内外文献的基础上,分析了多弧离子镀技术的工艺发展及其在各个领域的应用,为今后多弧离子镀技术的研究与应用提供了有利借鉴.  相似文献   

3.
多弧离子镀沉积TiAlN/TiN多层膜的结构与性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
为研究调制周期对薄膜结构和性能的影响,采用多弧离子镀技术在高速钢上制备TiAlN/TiN多层膜,通过改变调制周期制备了不同层数的TiAlN/TiN多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、XP-2台阶仪、X线衍射仪(XRD)和维氏硬度计对薄膜的表面形貌、厚度、物相结构和硬度进行测量,并对实验结果进行分析和讨论.结果表明:TiAlN/TiN多层薄膜中膜层的择优生长方向主要表现为Ti Al N相的(0010)取向;调制周期的改变对薄膜的沉积速率基本没有影响;随着调制周期的减小,样品的表面质量提高,显微硬度明显变大.  相似文献   

4.
本文介绍了多弧离子镀用于不锈钢钟表表面镀TiN薄膜的工艺过程和主要参数,以及镀TiN薄膜钟表的基本物理和化学性能的检测结果,并通过实例说明镀膜工件所具备的各项优点,对影响镀膜工件质量和使用效果的因素进行了分析讨论  相似文献   

5.
利用多弧离子镀技术沉积TiN涂层,并在空气中对该涂层进行了500~680℃范围内的氧化实验.通过SEM与XRD技术分析了实验制备的TiN涂层及其氧化产物的结构形貌,结果表明:多弧离子镀技术所沉积的TiN涂层表面较为粗糙,存在大量颗粒与凹坑;TiN涂层在空气中的氧化产物为TiO2,550℃时存在较轻程度的氧化行为,随着温度的升高,氧化作用加剧,在温度为650℃时TiN涂层氧化程度加深,但剥落并不明显,当温度超过650℃达到680℃,TiN涂层完全氧化,部分区域因为应力作用而发生严重剥落.  相似文献   

6.
相同工艺条件下,在45#钢表面多弧离子镀CrN,TiN,(Zr,Ni)N和TiN Ti(C,N)硬质涂层,利用磨损失重法及划痕试验评价了不同涂层的耐磨性,结果表明,CrN涂层具有最优异的耐磨性,另外,利用SEM和XRD分别研究了CrN涂层/45#钢的剖面形貌和CrN涂层的相组成。  相似文献   

7.
相同工艺条件下,在45#钢表面多弧离子镀CrN、TiN、(Zr,Ti)N和TiN+Ti(C,N)硬质涂层,利用磨损失重法及划痕试验评价了不同涂层的耐磨性。结果表明,CrN涂层具有最优异的耐磨性。另外,利用SEM和XRD分别研究了CrN涂层/45#钢的剖面形貌和CrN涂层的相组成。  相似文献   

8.
综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减小.  相似文献   

9.
材料磨损、腐蚀及其它环境损伤是机械工业面临的基本问题之一.解决这一问题的有效途径是通过各种表面处理技术来强化材料表面.近年来,各种离子和等离子增强的气相沉积技术发展迅速,经济效益显著.其中氮化钛镀层已在工业和其它领域得到了广泛的应用.  相似文献   

10.
本文通过从几十微米到几埃的多尺度表征展示了多弧离子镀制备铬涂层的详细结构.经XRD, SEM, FIB, TEM和HRTEM表征,结果显示该涂层是一种多重结构,包括表面上的微米级颗粒、缺陷带钉扎的微米或次微米级液滴、以堆垛层错为晶界的柱状晶、以刃位错和螺型位错为区分的微晶、位错末端的原子畸变以及原子排列无序化的区域.这些结构通过改变涂层的结晶度,影响了晶格常数、表面粗化和FIB溅射裂纹.此外,通过分析HTEM照片,确定了这些堆垛层错和位错的类型.最后,讨论了沉积参数对这些晶粒结构的影响.  相似文献   

11.
电弧离子镀(Ti,Cr)N硬质薄膜的成分、结构与硬度   总被引:7,自引:0,他引:7  
用Bulat6型电弧离子镀设备在高速钢表面沉积合成(Ti,Cr)N硬质薄膜。通过改变分离靶弧电流的配置来调节薄膜成分,制取了x=0.62-0.83的(TixCr1-x)N薄膜;考察了薄膜的成分、结构与硬度间的相互关系,明确了Cr在TiN基薄膜中使硬度提高的合金强化作用;结合元素周期律中的基本性质和热力学特征,讨论了Ti,Cr两种元素在(Ti,Cr)N薄膜的相结构(fcc)形成与合金强化中的作用。  相似文献   

12.
利用电弧离子镀和磁控溅射相结合的复合镀技术,在300 V偏压、不同氮气流量下制备了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2台阶仪、XRD、SEM和纳米力学测试系统分别对薄膜的沉积速率、晶体结构、表面形貌、硬度和弹性模量等进行测试和分析.实验结果表明:随着氮气流量的增大,薄膜的表面质量逐渐提高,薄膜的硬度和弹性模量均随氮气流量的增大呈现出先增加后减小的变化趋势.  相似文献   

13.
空心阴极放电离子镀法沉积氮化钛涂层   总被引:2,自引:0,他引:2  
论述了空心阴极放电离子镀的工作原理,KYF-600型离子镀膜机的特点,各工艺参数的选择与控制以及TiN涂层齿轮切削性能的试验与结果分析。试验表明,经镀覆TiN的高速钢齿轮刀具可提高寿命1至4倍,经济效益显著。  相似文献   

14.
磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较   总被引:3,自引:0,他引:3  
分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显饭镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.  相似文献   

15.
多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应   总被引:3,自引:1,他引:2  
采用多弧离子镀技术在高速钢表面制备TiN/AlN纳米多层膜,并对 TiN/AlN纳米多层膜的表面形貌、调制机构进行表征.通过对薄膜显微硬度的测试发现,纳米多层膜的显微硬度明显高于TiN 或AlN单层薄膜的显微硬度,具有明显的超硬效应.对比试验表明,TiN/AlN纳米多层膜涂层刀具比TiN 涂层刀具具有更长的使用寿命.  相似文献   

16.
钴基合金电弧离子镀NiCrAlY涂层的组织结构和抗氧化性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用电弧离子镀方法在Co基高温合金K640基体上制备NiCrAlY涂层,研究电弧离子镀涂层和真空退火后涂层的形貌、相结构及抗氧化性能。研究结果表明:电弧离子镀NiCrAlY涂层主要由γ-Ni,γ′-AlNi3和β-NiAl等相组成,衍射峰明显宽化,元素分布均匀;真空退火后涂层组织更致密,衍射峰尖锐,涂层主要由γ-Ni,γ′-AlNi3,β-NiAl,α-Cr以及极少量的Cr23C6组成,元素分布不均匀,Al和Y向涂层表面富集,Cr富集在涂层与基体界面附近。真空热处理可使电弧离子镀NiCrAlY涂层表面生成粘附性良好的α-Al2O3氧化膜,提高了电弧离子镀NiCrAlY涂层的抗氧化性能。  相似文献   

17.
研究了采用氯化亚铁为主盐,悬浮Sic微粒的低温直流复合镀工艺.详细介绍了镀液中SiC浓度、镀液主盐浓度、镀液温度、镀液pH值、阴极电流密度及搅拌间歇时间等工艺参数对复合镀层中SiC含量的影响,并以复合镀层性能,如结合强度、硬度、耐磨性等为考察参数,确定了Fe-SiC复合镀层中SiC的最佳含量.  相似文献   

18.
PEMSIP法Ti2N和TiN两相涂层工艺研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的工艺,组织结构和性能,研究了氮分压和靶功率对涂层相组成和性能的影响,讨论了Ti2N对涂层硬度的影响,实验结果表明,由Ti2N和TiN两相组成的涂层硬度高,显著提高刀具耐用度。  相似文献   

19.
镍基纳米Al2O3粉末复合电刷镀镀层的耐磨性   总被引:43,自引:0,他引:43  
为了进一步提高刷镀层的耐磨性 ,在 4 5 #钢基体上刷镀含有纳米 Al2 O3粉末的镍基复合镀层。通过光学金相显微镜、扫描电子显微镜对镀层显微组织进行分析 ,用显微硬度计测定了镀层和基体的硬度 ,在 SRV磨损试验机上进行了磨损试验 ,用表面形貌仪测量了镀层磨损量。试验结果表明 ,加入纳米 Al2 O3粉末的复合镀层的硬度要比单纯的致密镍镀层的硬度高。随着纳米 Al2 O3粉末加入量的增加 ,复合镀层硬度逐渐提高。含纳米 Al2 O3粉末的镍基复合镀层与单纯致密镍镀层相比 ,具有更高的耐磨性 ,将有广泛的应用前景。  相似文献   

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