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1.
To study the feasibility of treated water being used as rinsing water with CP/ED (chemical precipitation/ electrodialysis) system, the relation between concentration of Cr (Ⅵ) and conductivity of water is investigated, the effect of electrodialysis (ED) for different wastewater is also studied. And several parameters of importance that are relevant to the process are identified. Analysis of ICP (Inductively coupled plasma) and IC (Ion chromatography) shows that the main reason of conductivity increase in CP treated water is the increase of Na+ and Cl- ions. The 93.8%-100% of ions from wastewater both in ED and CP/ED systems was removed successfully. The results of experiments indicate that the CP/ED system is a feasible method for electroplating wastewater treatment, the CP/ED system used as a way of wastwater is not only in favour of environment, but also economic beneficial to achieve. 相似文献
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《云南民族大学学报(自然科学版)》2016,(1):18-28
纳米复合电镀是制备复合材料的一种新的方法,大大提高了材料的表面性能如耐磨性、耐蚀性和抗高温氧化性等,与其它金属基纳米复合镀层相比,镍基纳米复合镀层表现出了更加优异的性能,受到广大研究者的关注.本文介绍了国内外关于镍基纳米复合电镀的研究进展,包括复合电镀工艺和不溶性固体微粒的种类等方面,评述了不同功能性镍基纳米复合镀层和主要应用范围,并展望了镍基纳米复合电镀的发展趋势. 相似文献
3.
高电压复合绝缘子的脆断行为 总被引:3,自引:0,他引:3
脆断是高电压复合绝缘子发生的应力腐蚀断裂现象,国内外的研究基本集中在"腐蚀"介质酸的来源上。为进一步探索脆断机理,从"应力"的角度,采用扫描电子显微镜和表面形貌测量仪研究了复合绝缘子芯棒因表面砂纸打磨痕迹等微裂纹引起的脆断,发现芯棒表面30~40μm的微裂纹在应力腐蚀环境下沿其方向向前发展。芯棒表面微裂纹尖端的应力强度因子增大,最终将导致裂纹尖端局部的损伤、萌生、演化扩展直至芯棒脆断,从而可以说明绝大多数绝缘子工作正常但极少数绝缘子发生脆断的现象。 相似文献
4.
硅橡胶合成绝缘子染污放电机理的研究 总被引:13,自引:0,他引:13
传统的瓷和玻璃绝缘子表面呈亲水性,耐污闪性能较差;硅橡胶合成绝缘子表面呈憎水性,且其憎水性能够迁移至绝缘子表面污层,因而具有优良的耐污闪性能,尽管目前对瓷和玻璃绝缘子的污闪机理已作了较深入的研究,但对合成绝缘子污闪机理的研究尚比较缺乏。该文详细分析了合成绝缘子的染污放电过程,提出了闪络通道由多条短电弧与狭窄水带串联而成的合成绝缘子直流污闪模型。模型表明,众多短电弧的阴阳极压降及水带的高阻值是其具有高污闪电压的原因,同时模型清楚地反映了合成绝缘子临闪电流低、临闪电压高的特点。 相似文献
5.
合成绝缘子直流污闪极性效应的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
传统的瓷和玻璃绝缘子的副极性污闪电压低于正极性电压,该现象被称作极性效应。硅橡胶合成绝缘子正被日益广泛地用于电力系统外绝缘领域,但迄今为止,对合成绝缘子直流污闪是否存在极性效应这一问题未作详细研究。该文分析了瓷绝缘子的直流污闪极性效应,认为绝缘子串上的众多金具是造成极性效应的主要原因;而合成绝缘子只有上、下两个金具,但形成的电弧数量较多,因此形成的均为无金属电极的非极性电弧,从而使合成绝缘子的直流污闪不具有极性效应。 相似文献
6.
Kishida H Matsuzaki H Okamoto H Manabe T Yamashita M Taguchi Y Tokura Y 《Nature》2000,405(6789):929-932
The realization of all-optical switching, modulating and computing devices is an important goal in modern optical technology. Nonlinear optical materials with large third-order nonlinear susceptibilities (chi(3)) are indispensable for such devices, because the magnitude of this quantity dominates the device performance. A key strategy in the development of new materials with large nonlinear susceptibilities is the exploration of quasi-one-dimensional systems, or 'quantum wires'--the quantum confinement of electron-hole motion in one-dimensional space can enhance chi(3). Two types of chemically synthesized quantum wires have been extensively studied: the band insulators of silicon polymers, and Peierls insulators of pi-conjugated polymers and platinum halides. In these systems, chi(3) values of 10(-12) to 10(-7) e.s.u. (electrostatic system of units) have been reported. Here we demonstrate an anomalous enhancement of the third-order nonlinear susceptibility in a different category of quantum wires: one-dimensional Mott insulators of 3d transition-metal oxides and halides. By analysing the electroreflectance spectra of these compounds, we measure chi(3) values in the range 10(-8) to 10(-5) e.s.u. The anomalous enhancement results from a large dipole moment between the lowest two excited states of these systems. 相似文献
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通过复合电镀方法,在镀镍液中加入粒径为40 μm的金刚石粉体制备Ni-金刚石复合镀层.采用阴极动电位极化方法、扫描电镜和显微硬度计探讨镀液温度、pH、镍离子浓度、电流密度和金刚石粉体质量浓度对镀层质量的影响,优化Ni-金刚石复合镀的工艺参数;采用X线衍射分析仪表征优化后复合镀层的结构.研究结果表明:优化的镀液组成和工艺参数为:NiSO4·6H2O 132 g/L,NiCl2 15 g/L,H3BO3 30 g/L,镀液温度(50±1)℃,pH 3~4,阴极电流密度4 A/dm2,金刚石粉体质量浓度30 g/L;优化后的复合镀层表面平整,晶粒细小均匀,且金刚石粉体的质量分数为62.7%;与纯Ni镀层的晶粒相比,Ni-金刚石复合镀层的晶粒明显细化. 相似文献
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电镀方法制备锡铅焊料凸点 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了利用甲磺酸锡铅合金镀液制备电镀凸点的工艺过程,讨论了影响电镀质量的工艺参数:表面光亮度、分散及覆盖能力、沉积速率等.研究发现,电流密度Dk与最低搅拌转速密切相关.在相同的时间里,Dk越大,镀液的分散能力越稳定,合金的沉积速率也越高.在甲磺酸质量分数、Dk一定的条件下,适当地提高搅拌转速有利于改善凸点的电镀质量.对电镀凸点的剪切强度测试表明,电镀缺陷产生的微孔洞将会显著降低凸点的剪切强度. 相似文献
9.
利用有机巯基类高分子螯合剂(DDTC)对氨羧络合剂电镀镉废水进行螯合处理。研究DDTC投加量,废水pH,絮凝剂投加量,反应温度,反应时间对处理效果的影响。实验结果表明在pH为3,投加DDTC溶液(质量分数2.4 g/L)20 m L,絮凝剂(硫酸铝溶液质量分数4 g/L)投加量5 m L,PAM(质量分数1 g/L,)投加量为2 m L,常温下反应10 min,可以使200 m L氨羧络合剂电镀镉废水(总镉质量浓度为30 mg/L)的镉去除率达到98.5%,残余镉的质量浓度为0.42 mg/L。 相似文献
10.
前期的筛选实验发现,旱伞草对铬具有良好的修复效果,以此为基础,采用溶液培养法,研究了旱伞草在不同总铬质量浓度、不同p H条件下的生长情况及对镀锌厂含铬废水的修复效果.研究结果表明:在10~30 mg/L的实验质量浓度范围内,旱伞草对镀锌厂含铬废水具有较强的耐受性和修复效果,能使废水中的铬和锌的质量浓度显著降低,达到国家农田灌溉水质标准. 相似文献
11.
新型Ni-Cu复合镀层的制备 总被引:3,自引:0,他引:3
采用复合电镀方法,在镀镍液中加入粒径为5~10μm的铜微粒(晶粒粒径为52 nm)制备Ni-Cu复合镀层,探讨阴极电流密度、镀液的pH值与温度、搅拌速度、铜微粒含量和镍离子浓度对Ni-Cu复合镀层中铜微粒共析量的影响。结果表明,最佳镀液组成和工艺参数如下:七水合硫酸镍250~300 g/L,六水合氯化镍30~60 g/L,硼酸35~40 g/L,十二烷基硫酸钠0.05~0.1 g/L,pH值3.5~4.0,温度55~60℃,阴极电流密度2~3 A/dm2,搅拌速度为500~600 r/min,铜粉质量浓度8~9 g/L;镀层致密且铜微粒分布均匀;Ni-Cu复合镀层中铜的质量分数在5%~30%之间,其显微硬度HV0.2在450~750之间,且随镀层中铜含量的增大而增大,表现出高硬度的特点。 相似文献
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采用纳滤膜和反渗透膜组合处理含铜酸性电镀废水,通过试验考察操作压力、流量、温度等对渗透通量和截留率的影响.研究结果表明:在合适的操作条件下,纳滤膜对Cu2+的截留率在96%以上;反渗透膜对Cu2+的截留率在98%以上.纳滤膜较佳操作条件为:温度26℃,操作压力1.5 MPa,流量16 L/min.反渗透膜较佳操作条件为:温度36℃,操作压力2.0 MPa,流量14 L/min. 相似文献
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通过对中山市东升镇东锐电镀有限公司电镀废水处理工艺的改造,对原处理工艺不达标原因进行了分析,提出了改造后新的处理工艺,经过一年的运行实践,新工艺运行良好,得出电镀废水处理工艺应针对生产废水的收集情况统筹考虑处理工艺,各别环节各别处理的结论. 相似文献
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低气压条件下绝缘子污闪特性的研究 总被引:5,自引:0,他引:5
污秽绝缘子的闪络电压U和大气压力户之间的关系为U=U。(P/p0)n,U0是该污秽绝缘子在标准大气压户。下的闪络电压。作者用固体污层人工污秽试验方法研究了不同形状绝缘子在不同污秽度下以及在不同大气压力下的污闪电压,并研究了在交流和直流电压分别作用下的污闪电压差别。试验结果表明,上述公式中的指数n在交流电压下的数值大于直流电压。对于形状简单的绝缘子n值不受污秽程度影响,对于形状复杂的绝缘子n值受污秽程度的影响。n值变化的原因在于绝缘子伞裙间的电弧桥络现象。 相似文献
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采用在线热裂解-气质联用(Py-GC-MS)技术对废旧硅橡胶复合绝缘子在不同温度下(300 ℃,400 ℃,500 ℃,600 ℃)的热降解行为进行了研究,并通过质谱中裂解产物的碎片离子信息对其裂解机理进行探究。结果表明:硅橡胶裂解产物为一系列二甲基硅氧烷环体及少量的链状硅氧烷,主要环体为六甲基环三硅氧烷(D3)、八甲基环四硅氧烷(D4)及环五硅氧烷直至环九硅氧烷;较高的裂解温度下,大环基本裂解完全,仅剩小环裂解产物。因此用热裂解处理废旧硅橡胶时,温度需要达到500 ℃及以上才会有较好的效果。 相似文献
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电镀废铬液回收利用技术的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
应用化学处理技术将电镀废铬槽液经过絮凝、沉淀、分离等过程,提纯为高纯度的Cr(Ⅳ)液,复配为高浓度的鞣革铬液,并应用于鞣革。结果表明,应用化学处理技术可将电镀废铬液回收为铬鞣剂,用于鞣革,各项技术指导已达到与国内标准铬粉的同等水平,实现了电镀污水零排放。 相似文献
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金属钨表面电镀的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
洪祥乐 《佛山科学技术学院学报(自然科学版)》1999,17(3):1-5
研究了钨表面镀前处理及预镀铬、镍,然后镀金的工艺条件,并测定了镀层性能,获得了结合力好,可焊性好的镀层。 相似文献
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为解决微小、复杂零件电镀时存在的电流密度分布不均匀的问题,在固定尺寸的电镀槽内,使用工作面积不同和排列位置不同的阵列玻碳电极作为阴极,模拟多个微小零件,通过测试阴极极化曲线和恒电位沉积~溶出实验,研究镀铜液静止和流动时对阴极电流密度分布影响。研究发现:电极工作面积增大,极限扩散电流密度减小;搅拌镀液并不能使工作面积不同的电极电流密度分布平均化;电极呈等边三角型排布时电流密度平均分布情况最好。 相似文献