退火温度对Fe73.5Cu1Nb1.5Mo1.5V1Si13.5B9非晶合金电？…

本文从理论和实验上研究了退火温度对Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｎｂ１．５Ｍｏ１．５Ｖ１Ｓｉ１３．５Ｂ９非晶合金电阻率和磁阻的影响,发现当退火温度〉４００℃时,约化电阻率开始明显变小,在５５５℃时达到最小值,随着退火温度再进一步提高,约化电阻率起始也随之提高,然后变化不大,经不同温度退火后的非晶合金样品的横向磁阻在不同强度的磁场作用下没有明显变化,为进一步了解非晶合金的微观结构和导电机制以及建立新的理论提供准     

Fe76Si7.6B9.5P5C1.9合金带的纵向巨磁阻抗效应

利用单辊快淬法制备宽0.35 mm,厚0.033 mm的Fe76Si7.6B9.5P5C1.9非晶薄带,具有明显的纵向巨磁阻抗效应,最大磁阻比达到754%.氮气保护条件下进行热处理的样品,最大阻抗比和灵敏度都有明显提高,440℃退火1 h的样品最大阻抗比达到1 196%,灵敏度为715%/(A·m-1).     

退火温度对La1-xCaxMnO3薄膜电输运特性的影响

采用磁控溅射法在STO（001）基片上沉积钙钛矿结构LCMO薄膜,研究了退火温度对LCMO薄膜微结构及电输运特性的影响．研究结果表明,随退火温度的升高,薄膜中氧含量及Mn^4＋／Mn^3＋比逐渐升高,LCMO薄膜中的Mn^4＋／Mn^3＋比与薄膜中的氧含量有关,当氧含量增大时,Mn^4＋／Mn^3＋比相应增大．LCMO薄膜的电阻率随退火温度升高而逐渐减小,而LCMO薄膜的金属-绝缘相变温度随退火温度升高而逐渐升高,经850℃退火处理的LCMO薄膜的金属．绝缘相变温度可达257K．     

气流对电流退火铁钴基薄带GMI效应的影响

在流动气体中,用焦耳热退火方法研究了单辊快淬技术制得的Fe36Co36Nb4Si4.8B19.2非晶薄带经32A/mm2电流退火10 min的巨磁阻抗效应.结果表明:保护气体的流速对材料的巨磁阻抗曲线有明显的影响,当保护气体的流速为1.8 m/s时出现了尖刺巨磁阻抗现象,灵敏度达到了最大值5 538%/(A.m-1).     

真空退火对Co/Ru多层膜磁阻性能的影响

采用超高真空电子束蒸镀的方法制备了Co/Ru金属多层膜,通过透射电镜、X射线衍射分析等结构分析仪器、磁性测试手段对薄膜的、微观与局域结构及磁性进行了研究.对Co/Ru多层膜样品进行真空退火处理,研究了退火后界面的变化及其对磁性和磁电阻性能的影响.退火增加了多层膜界面与表面的粗糙程度.Co/Ru界面处的互扩散和混合程度逐渐增大,多层膜的周期性有所降低.随着退火温度的升高,负磁阻逐渐减小,同时高场下开始出现正磁阻.     

CoFeBSiNb非晶合金带材纵向驱动巨磁阻抗效应研究

采用单辊快淬法制备了具有强非晶形成能力的Co63Fe4B22Si5,6Nb5非晶合金带材。利用HP4294A阻抗分析仪测量了经不同温度退火的Co基非晶合金带材在纵向驱动模式下的巨磁阻抗效应（GMI）．实验结果表明：材料经去应力退火后,其软磁性能得到了有效的改善,其中经580℃退火1h的Co基非晶薄带在475kHz电流驱动下的GMI比值可高达2400％,其灵敏度达114％／（A·m^-1）．     

退火温度对Fe_(73.5)Cu_1Nb_(1.5)Mo_(1.5)V_1Si_(13.5)B_9非晶合金电阻率和磁阻的影响

本文从理论和实验上研究了退火温度对Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｎｂ１．５Ｍｏ１．５Ｖ１Ｓｉ１３．５Ｂ９非晶合金电阻率和磁阻的影响，发现当退火温度＞４００℃时，约化电阻率开始明显变小，在５５５℃时达到最小值．随着退火温度再进一步提高，约化电阻率起初也随之提高，然后变化不大，经不同温度退火后的非晶合金样品的横向磁阻在不同强度的磁场作用下没有明显变化，为进一步了解非晶合金的微观结构和导电机制以及建立新的理论提供准确和重要的实验结果．     

电脉冲加热Fe_（78）B_（13）Si_9非晶合金的力性及磁性

采用大电流交流脉冲快速加热Ｆｅ７８Ｂ１３Ｓｉ９非晶合金条带，研究了脉冲加热工艺参数对加热速率、应力释放率、退火脆化和软磁性能的影响规律．结果表明，脉冲电流加热时，加热速率比常规退火高３～４个数量级，内应力释放率可达８５％，退火脆化受到抑制．和淬态相比，矫顽力Ｈｅ降低仅为其１／４，饱和磁感Ｂ．提高３０％以上，软激性能得到明显改善．     

应力退火对FeCo基玻璃包裹合金丝巨磁阻抗效应的影响

在空气中300℃下对组分为Fe36Co36Nb4Si4.8B19.2玻璃包裹合金丝进行应力退火,研究不同应力大小对其巨磁阻抗效应的影响。实验表明,随着外加应力的增加,半高宽表现出逐渐增大的趋势,而最大巨磁阻抗比与灵敏度则均表现为先增加后减小的趋势,在50Mpa时达到最佳。这种现象与应力感生的磁各向异性有关     

磁场热处理对非晶Fe_(5.3)Co_(61.3)Ni_(7.4)Si_(10)B_(16)合金磁性能的影响

实验证明:无磁场退火使合金静磁性能恶化,而纵向磁场退火有效地消除了内应力、局部感生各向异性和畴壁钉扎,并形成感生单轴磁各向异性,静态磁性获得显著提高。μ_m为2.12H/m,Hc为0.32A/m,μ_(0.15)为0.12H/m,Br/Bs为0.9,当θ为30°时,不均匀的倾斜磁场退火,比纵向磁场退火可进一步提高静态磁性,μ_m高达2.30H/m,μ_(0.15)为0.33H/m,Hc为0.24A/m,Br/Bs为0.92,磁滞损耗显著减小,而且对提高交流μ_e有一定作用。非均匀的45°倾斜磁场退火比纵向磁场退火有明显改善交流μ_e的作用。     

锗/硅量子点形貌随退火温度的变化与电学特性研究

研究了锗(Ge)量子点薄膜表面形貌随退火温度的变化及其相应的电学特性。以锗烷为主要反应气体,应用等离子增强化学气相沉积法(PECVD)在300℃温度、p-硅(100)基片上沉积了锗量子点薄膜,然后分别在400℃、500℃、600℃温度下退火。应用原子力显微镜(AFM)系统地观察了锗量子点薄膜的二维、三维图像,发现原位生长的锗量子点尺寸起伏大、薄膜表面比较粗糙。退火后,锗量子点分布趋于均匀,并且随退火温度的升高,量子点呈一定的取向排列,表面变得平整。通过电流-电压(I-V)和电容-电压(C-V)测试,发现锗量子点薄膜具有良好的电学特性。随退火温度的升高,电流、电容显著增大,漏电流减小,说明退火后,锗量子点薄膜晶界和粗糙度减小,使样品的表面、界面特性更好。     

电流退火对钴基非晶丝巨磁阻抗效应的影响

对直径为40 μm,长为5 cm的褪膜玻璃包裹钴基（Co_69.20Fe_4.16 Si_12.35B_10.77 Cr_3.42 Mo_0.1）非晶丝进行电流退火和电流应力退火,研究了退火对巨磁阻抗效应的影响.结果发现,随着退火电流密度和外加应力的增大,丝的磁阻抗变化对外加磁场的敏感度先增大后减小,在20 A/mm²和90 MPa的退火条件下,灵敏度最高,可达1%/( A·m^-1).以上述条件退火,敏感度最高可达19%/( A·m^-1).     

多循环快速热退火诱导普通玻璃衬底非晶硅薄膜晶化

介绍一种使用快速热退火设备,经多次循环退火诱导,在普通玻璃衬底上生长非晶硅薄膜晶化的实验方法.利用拉曼（Raman）光谱、原子力显微镜（atomic force microscope,AFM）、紫外可见分光光度计（UV-VISspectrophotometer）和霍尔（Hall）测试系统对薄膜的结构、形貌及电子迁移率进行测试.结果表明,当退火温度达到680℃时,薄膜开始出现晶化现象;随着快速热退火次数的增加,拉曼光谱在500 cm^-1处测得多晶硅特征峰;在循环退火5次后,其最佳晶化率达到71.9%,光学带隙下降,晶粒增大,载流子迁移率提高.     

(B2-FeRh)-(L1_0-FePt)复合双层薄膜的热致反铁磁-铁磁转变

用磁控溅射法在加热的MgO(001)基片上生长FeRh-FePt双层取向薄膜,试图使两层都有序化并分析其反铁磁-铁磁转变性质.结果表明,覆盖于FePt层之上的FeRh层可以在不发生层间混合的前提下,于450°C依靠长时间热处理出现有序化,从而获得较为理想的(B2-FeRh)-(L10-FePt)双层复合薄膜.改变FeRh层的成分和控制FePt层的有序化程度能够裁剪其反铁磁-铁磁转变行为.在彻底有序化的FePt层上生长富Fe的FeRh层会导致热滞温度为负.而FePt层适当欠有序化则可以将反铁磁-铁磁转变温度由100°C提高到200°C,使其进一步远离室温.这有利于用来制作采用热辅助技术的垂直磁记录介质.从Pt扩散阈值的角度对反铁磁-铁磁转变举动变化的可能原因进行了讨论.     

罩式退火过程中的多吊机调度问题

研究了钢铁企业罩式退火中的多吊机调度问题,目标函数是最小化最后一个板卷的退火完工时间.通过考虑机器和吊机位置,建立了混合整数规划模型,并提出了一种整合的方法以降低问题的难度同时保持问题的本质.然而,即使是整合后的问题也是强NP难的.进一步提出了包括分配和调度的两阶段启发式算法.在分配阶段,利用动态规划先将每个吊机分配给唯一的子区块,再进行机器的分配.调度阶段采用最早需要操作阶段优先的策略.最后,算法的有效性通过绝对性能分析的角度给出了估测.     

5083铝合金铸锭均匀化退火的组织与性能

摘要：为研究5083铝合金均匀化退火后的组织及力学性能,利用光学显微镜、扫描电镜、万能力学实验机,分析了5083铝合金铸锭不同均匀化退火工艺后组织演变与力学性能变化。结果表明：随均匀化退火温度的提高,铸锭枝晶卢相大部分溶解,剩余卢相有球化的趋势。常温力学性能测试表明,均匀化退火后,拉伸强度明显提高,延伸率下降,显示脆性断裂;高温瞬时拉伸表明,均匀化退火降低了铸锭的拉伸强度,显示解理断裂。     

A1掺杂ZnO薄膜的结构研究

采用直流反应磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了Al掺杂ZnO薄膜.系统研究了不同氩氧体积比、不同退火温度和氛围、不同Al掺杂浓度对薄膜结构的影响.结果显示,Al掺杂ZnO薄膜为多晶薄膜,呈六角纤锌矿结构,制备条件和后期处理以及掺杂浓度对薄膜的微结构有着很大的影响.在氩氧体积比6:1条件下制备的薄膜,经真空500℃退火后具...     

退火气氛对ZnO纳米颗粒的结构及发光特性的影响

在500℃且不同退火气氛(氮气、氧气)条件下,我们通过化学沉淀法成功制备了ZnO纳米颗粒.采用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、光致发光(PL)和拉曼光谱(Raman)研究退火气氛对ZnO纳米颗粒结构和发光特性的影响.实验结果表明,制得样品为具有六角纤锌矿结构的ZnO.从Raman和PL光谱可以观测到,退火气氛对ZnO纳米颗粒的结晶和发光特性都有很大的影响,氮气气氛下退火得到样品发光特性较好,缺陷较少,文中对其影响机制进行了讨论.     

A new type of longitudinally driven GMI effect of FeCo-based alloy

On investigating the longitudinally driven GMI effect of the DC annealed Fe36Co36Nb4Si4.8B19.2 alloy ribbon, the current density was 3.2×10^7 A/m^2, the GMI effect responds sensitively （the sensitivity is as high as 2440.2%/（A-m^-1）） to weak magnetic field after a 600-second annealing. The experimental result shows that the sensitivity is closely related to annealing current density, driven current frequency and eroded thickness. GMI effect, current annealing, sensitivity, magnetic domain structure     

对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理

采用直流对向靶磁控溅射方法制备低价态纳米氧化钒薄膜,研究热氧化处理温度和时间对氧化钒薄膜的组分、结构和电阻温度特性的影响采用X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）对氧化钒薄膜的组分、结晶结构和微观形貌进行分析,利用热敏感系统对薄膜的电阻温度特性进行测量．结果表明,经300～360℃热处理后,氧化钒薄膜的组分逐渐由V2O3和VO向VO2转变,薄膜由非晶态变为单斜金红石结构,具有金属半导体相变性能;增加热处理温度后,颗粒尺寸由20nm增大为100nm,薄膜表面变得致密,阻碍氧与低价态氧化钒的进一步反应,薄膜内VO2组分舍量的改变量不大;增加热处理时间后,薄膜内VO2组分的含量明显增加,相变幅度超过2个数量级.